537
Г 199


    Гапонов, С. В.
    Литография на длине волны 13 нм [Текст] / С. В. Гапонов // Вестник Российской академии наук. - 2003. - Т.73,N5 . - ISSN 0869-5873
УДК
ББК 22.33
Рубрики: Физика--Электричество и магнетизм
Кл.слова (ненормированные):
диапазоны длин волн -- литография -- многослойные зеркала -- нанолитография -- нанообъекты
Аннотация: Вопрос о десятикратном повышении точности формы и ровности поверхности не решить без создания новых средств измерения и новых технологий.Распространение их в другие области науки и техники приведет к качественным изменениям,а отсутствие этого сделает неконкурентоспособным большинство наших производств.



537
В 275


    Велихов, Е. П.
    Наноэлектронные приборы и технологические процессы [Текст] / Е. П. Велихов // Вестник Российской академии наук. - 2003. - Т.73,N5. - Библиогр.:14 назв. . - ISSN 0869-5873
УДК
ББК 22.33 + 32.85
Рубрики: Радиоэлектроника--Электричество и магнетизм--Электроника
Кл.слова (ненормированные):
ИМПРИНТ -- кристаллы -- литография -- нанообъекты -- наноэлектронные приборы -- технологические процессы
Аннотация: Важнейший процесс в микро- и наноэлектронных процессах - литография.Наряду с оптической литографией получили развитие методы,с помощью которых уже теперь формируются отдельные наноструктуры и прототипы устройств на наноэлектронных приборах - ИМПРИНТ и электронная литография.



537.533.35.7 : 519.245
Ч 465


    Черемухин, Е. А.
    Моделирование эффекта зарядки тонких диэлектрических пленок методом Монте-Карло [Текст] / Е. А. Черемухин, Н. Н. Негуляев [и др.] // Вестник Московского университета. Сер. 3, Физика. Астрономия. - 2004. - N 1. - Библиогр.: с. 51 (19 назв. ) . - ISSN 0201-7385
УДК
ББК 22.33
Рубрики: Физика--Электричество и магнетизм
Кл.слова (ненормированные):
метод Монте-Карло -- диэлектрические пленки -- электронная литография -- эффект зарядки
Аннотация: На основе метода Монте-Карло в приближении однократного рассеяния рассмотрены различные модели взаимодействия электронов ( с энергиями 1-100 кэВ ) с веществом. В рамках этих моделей описан эффект зарядки в облучаемом образце, состоящем из тонкого слоя диэлектрика, нанесенного на металл. Произведен расчет распределения потенциала электрического поля и поляризации в объеме мишени. Показано, что зарядка верхнего слоя образца может приводить к значительной потере точности в электронной литографии.


Доп.точки доступа:
Негуляев, Н. Н.; Борисов, С. С.; Зайцев, С. И.; Грачев, Е. А.


537.312
Н 419


    Негуляев, Н. Н.
    Влияние термоэлектретного эффекта на разрядку облученного электронным пучком диэлектрика [Текст] / Н. Н. Негуляев, С. И. Зайцев, Е. А. Грачев // Вестник Московского университета. Сер. 3, Физика. Астрономия. - 2004. - N 2. - Библиогр.: с. 46 ( 8 назв. ) . - ISSN 0201-7385
УДК
ББК 22.33
Рубрики: Физика--Электричество и магнетизм
Кл.слова (ненормированные):
термоэлектретный эффект -- диэлектрическая пленка -- релаксация заряда -- электронорезисторы -- электронная литография
Аннотация: Исследован процесс деполяризации облученной электронным пучком тонкой диэлектрической пленки с учетом термоэлектрического эффекта. Установлено, что его появление приводит к увеличению скорости спада потенциала на поверхности мишени и возрастанию времени релаксации заряда в объеме образца. Показано, что термоэлектретный эффект может использоваться для косвенного измерения температуры электронорезисторов в электронной литографии.


Доп.точки доступа:
Зайцев, С. И.; Грачев, Е. А.


621.38
Б 877


    Бредихин, В. И.
    Наноразмерная интерференционная литография с импульсным УФ лазером [Текст] / В. И. Бредихин, В. Н. Буренина [и др.] // Журнал технической физики. - 2004. - Т. 74, N 9. - Библиогр.: c. 90 (24 назв. ) . - ISSN 0044-4642
УДК
ББК 32.85
Рубрики: Радиоэлектроника--Электроника
Кл.слова (ненормированные):
интерференционная литография -- литография -- наноразмерная литография -- периодические структуры -- субмикронные структуры -- фототермические резисты
Аннотация: Измерены чувствительность и пространственное резрешение фототермического резиста на основе двухслойной пленки металлического индия и полимера. Прямым лазерным воздействием изготовлены двумерные маски, через которые созданы наноразмерные металлические и диэлектрические островки на подложке кремния. Найдены условия получения субмикронных периодических структур на пленках TiO[2], нанесенных на стеклянную подложку по золь-гель технологии. Измерены их некоторые оптические характеристики, отмечается возможность использования таких решеток для возбуждения планарных электромагнитных волн.

Перейти: http://www.ioffe.ru/journals/jtf/2004/09/page-86.html.ru

Доп.точки доступа:
Буренина, В. Н.; Веревкин, Ю. К.; Кирсанов, А. В.; Петряков, В. Н.; Востоков, Н. В.; Дряхлушин, В. Ф.; Климов, А. Ю.




    Глинтерник, Э.
    Начало российской рекламы [Текст] / Э. Глинтерник // Наше наследие. - 2001. - N56. - Библиогр. в примеч. . - ISSN 0234-1395
Рубрики: Искусство--Графика
Кл.слова (ненормированные):
1890-1910 -- реклама; рекламные плакаты; графика; русское искусство; афишы; этикетки; литография; плакаты
Аннотация: Зарождение российской рекламы самым тесным образом связано с экономическим подъемом Российской империи в конце ХIХ-начале ХХ века, формированием общероссийского рынка, ростом торговли и промышленности. Усиление конкуренции во всех областях коммерческой деятельности способствовало быстрому распространению различных форм поп-графики, от этикеток, визитных карточек, меню до товарных знаков, специальных упаковок, календарей и плакатов.



73/76
Б 208


    Балуева, А.
    Только для своих [Текст] / А. Балуева // Новый мир искусства. - 2003. - N1. - Петербург Портрет старого дома Человек в пейзаже: современная австралийская литография . - ISSN XXXX-XXXX
УДК
ББК 85.1
Рубрики: Искусство--Изобразительное искусство
Кл.слова (ненормированные):
Балтийская фотошкола -- австралийская графика -- австралийская литография -- австралийское искусство -- выставки -- выставочные залы -- литография -- отчетные выставки -- петербургские фотографы -- современная литография -- современные фотографы -- фотография -- фотошколы -- художественная фотография
Аннотация: Об отчетной выставке "Петербург" в Центральном выставочном зале "Манеж" и двух приглашенных выставках: "Человек в пейзаже: современная австралийская литография" и проект Балтийской фотошколы "Портрет старого дома".



76
К 593


    Козырева, Н.
    Вера Матюх: "каждый сам вяжет свой узор..." [Текст] / Н. Козырева // Новый мир искусства. - 2003. - N2 . - ISSN XXXX-XXXX
УДК
ББК 85.15 + 63.4
Рубрики: Искусство--Графика
Кл.слова (ненормированные):
20 в. -- Государственный Русский музей -- автолитография -- выставки -- гравюра -- история графики -- литография -- художники -- художники-графики
Аннотация: Творчество Веры Федоровны Матюх (1910-2003), признанного мастера русской литографии XX века. Посмертная выставка художницы в Мраморном дворце Государственного Русского музея.


Доп.точки доступа:
Матюх, В.Ф.


621.38
А 79


    Аракчеева, А. М.
    Технология получения полупроводниковых микрорезонаторов и фотонных кристаллов [] / А. М. Аракчеева, А. В. Нащекин [и др.] // Журнал технической физики. - 2005. - Т. 75, N 2. - С. 78-81. - Библиогр.: c. 81 (7 назв. ) . - ISSN 0044-4642
УДК
ББК 32.85
Рубрики: Радиоэлектроника--Электроника
Кл.слова (ненормированные):
арсенид галлия; волноводные структуры; микрорезонаторы; реактивное ионное травление; фотонные кристаллы; электронная литография
Аннотация: Описана технология получения микрорезонаторов и фотонных кристаллов в структурах на основе GaAs с использованием электронной литографии и реактивного ионного травления. Было получено 2 типа структур: с микростолбиками и фотонными кристаллами, представляющими собой квадратную и гексагональную решетки отверстий в планарной волноводной структуре. Минимальный диаметр микростолбиков составил 100 nm, высота - 700 nm. Размер отверстия фотонных кристаллов контролируемым образом варьировался от 140 до 500 nm, период фотонного кристалла от 400 до 1000 nm. Глубина травления фотонных кристаллов составила более 350 nm.

Перейти: http://www.ioffe.ru/journals/jtf/2005/02/page-78.html.ru

Доп.точки доступа:
Нащекин, А. В.; Соловьев, В. А.; Танклевская, Е. М.; Максимов, М. В.; Конников, С. Г.; Гуревич, С. А.; Леденцов, Н. Н.


539.2
А 79


    Аракчеева, Е. М.
    Получение фотонных кристаллов в структурах на основе полупроводников и полимеров с использованием метода наноимпринта [] / Е. М. Аракчеева, Е. М. Танклевская [и др.] // Журнал технической физики. - 2005. - Т. 75, N 8. - С. 80-84. - Библиогр.: c. 84 (8 назв. ) . - ISSN 0044-4642
УДК
ББК 22.37
Рубрики: Физика--Физика твердого тела
Кл.слова (ненормированные):
литография; наноимпринт; фотонные кристаллы
Аннотация: Описана технология получения фотонных кристаллов с использованием метода наноимпринта. Для изготовления одномерных и двумерных фотонных кристаллов на основе полиметилметакрилата использовалось непосредственное продавливание полимера штампами Si, полученными методами интерференционной литографии и реактивного ионного травления. Период двумерных фотонных кристаллов, представляющих квадратную решетку отверстий, находился в диапазоне 270-700 nm, диаметр отверстия соответствовал половине периода. Отверстия имели круглую форму с ровными краями. Одномерные фотонные кристаллы на основе GaAs изготавливались путем реактивного ионного травления через маску, сформированную при помощи литографии наноимпринта. Полученные в результате травления GaAs на глубину 1 mum одномерные фотонные кристаллы имели период 800 nm, ширину гребешка 200 nm и очень гладкие и почти вертикальные боковые стенки.

Перейти: http://www.ioffe.rssi.ru/journals/jtf/2005/08/page-80.html.ru

Доп.точки доступа:
Танклевская, Е. М.; Нестеров, С. И.; Максимов, М. В.; Гуревич, С. А.; Seekamp, J.; Torres Sotomayor, C. M.


73/76
К 64


    Кононов, Николай.
    Стиль не стареет [] / Н. Кононов // Новый мир искусства. - 2005. - N 4. - С. 29-32 . - ISSN 1560-8697
УДК
ББК 85.1
Рубрики: Искусство--Изобразительное искусство
Кл.слова (ненормированные):
20 в.; 21 в. нач.; 2005 г. -- выставки; музеи; художники; графики; живописцы; станковая живопись; акварель; литография; тема молодой семьи; городские пейзажи
Аннотация: В Музее Анны Ахматовой состоялась ретроспективная выставка произведний (литографии, акварели) Веры Федоровны Матюх (1910-2003) .


Доп.точки доступа:
Матюх, Вера Федоровна художник (художник ; 1910-2003); Выставка произведений В. Ф. МатюхМузей Анны Ахматовой


73/76
Н 73


    Новик, Дмитрий.
    Витебск forever [] / Д. Новик // Новый мир искусства. - 2005. - N 4. - С. 72-73 . - ISSN 1560-8697
УДК
ББК 85.1
Рубрики: Искусство--Изобразительное искусство
Кл.слова (ненормированные):
20 в.; 2005 г. -- дни художника; художники; эмигранты; русское зарубежье; чтения; графика; живопись; литография
Аннотация: О XV Шагаловских днях в Витебске.


Доп.точки доступа:
Шагал, Марк художник (художник ; 1887-1985); Шагаловские дни


004.3
Б 28


    Батырь, Алексей.
    HP: вести из лабораторий [Текст] / А. Батырь // PC Magazine. - 2006. - N 8. - С. 6 . - ISSN 0869-4257
УДК
ББК 32.973.26-04
Рубрики: Вычислительная техника--Элементы и узлы микро-ЭВМ
Кл.слова (ненормированные):
радиометки; цифровая идентификация; интегральные схемы; литография; тонкопленочные схемы; гибкие дисплеи; расходные материалы
Аннотация: Примеры новых изделий компании НР: радиометка Memory Spot и технология изготовления микросхем на полиимидной пленке.

Перейти: http://pcmagazine.ru/?ID=613418

Доп.точки доступа:
Hewlett-Packard, компания; HP, компания


539.2
А 79


    Аракчеева, Е. М.
    Получение фотонных кристаллов в структурах на основе полупроводников и полимеров с использованием метода наноимпринта [Текст] / Е. М. Аракчеева, Е. М. Танклевская [и др.] // Журнал технической физики. - 2005. - Т. 75, N 8. - С. 80-84. - Библиогр.: c. 84 (8 назв. ) . - ISSN 0044-4642
УДК
ББК 22.37
Рубрики: Физика--Физика твердого тела
Кл.слова (ненормированные):
литография; наноимпринт; фотонные кристаллы
Аннотация: Описана технология получения фотонных кристаллов с использованием метода наноимпринта. Для изготовления одномерных и двумерных фотонных кристаллов на основе полиметилметакрилата использовалось непосредственное продавливание полимера штампами Si, полученными методами интерференционной литографии и реактивного ионного травления. Период двумерных фотонных кристаллов, представляющих квадратную решетку отверстий, находился в диапазоне 270-700 nm, диаметр отверстия соответствовал половине периода. Отверстия имели круглую форму с ровными краями. Одномерные фотонные кристаллы на основе GaAs изготавливались путем реактивного ионного травления через маску, сформированную при помощи литографии наноимпринта. Полученные в результате травления GaAs на глубину 1 mum одномерные фотонные кристаллы имели период 800 nm, ширину гребешка 200 nm и очень гладкие и почти вертикальные боковые стенки.

Перейти: http://www.ioffe.rssi.ru/journals/jtf/2005/08/page-80.html.ru

Доп.точки доступа:
Танклевская, Е. М.; Нестеров, С. И.; Максимов, М. В.; Гуревич, С. А.; Seekamp, J.; Torres Sotomayor, C. M.


76
Ж 50


    Желваков, Вячеслав Юрьевич (профессор, заслуж. худож. России).
    Родом из детства [Текст] / , худ. В. Ю. Желваков // Московский журнал. История государства Российского. - 2006. - N 10. - С. 28-31,. - Ил.: фот., 15 репрод. . - ISSN 0868-7110
УДК
ББК 85.15
Рубрики: Искусство--Графика--Россия--Яранск (город--Москва, 20 в. кон.
Кл.слова (ненормированные):
беседы; интервью; художники; графики; русская история; исторические личности; полководцы; портреты; греческие мотивы; кавказская тема; военная тема; живописные жанры; рисунок; офорт; литография; пастель
Аннотация: Беседа с заслуженным художником России, членом-корреспондентом Российской академии художеств, профессором Вячеславом Юрьевичем Желваковым. История России в графических работах художника.

Перейти: http://www.mj.rusk.ru/show.php?idar=801243

Доп.точки доступа:
Желваков, Вячеслав Юрьевич (заслуж. худож. России, чл.-кор. Рос. акад. худож.); Художественная студия имени В. В. Верещагина при Министерстве внутренних делСтудия имени Верещагина при МВД РФ; МВД РФ \студия имени в. в. верещагина\


76
А 39


    Акимова, Дарья.
    "Новая империя" Максима Кантора [Текст] / Д. Акимова // Новый мир искусства. - 2005. - N 2. - С. 58-59 . - ISSN 1560-8697
УДК
ББК 85.14
Рубрики: Искусство--Живопись--Графика--Россия--Российская Федерация--РФ, 2005 г.
Кл.слова (ненормированные):
художники; живописцы; графики; выставки; музеи; офорт; кселография; виртуозный офорт; литография; современное искусство; альбомы
Аннотация: Cерия выставок Максима Кантора в венецианском "Квирини Стампалиа" и в московской галерее "Крокин" и его фотоальбом офортов "Метрополис".


Доп.точки доступа:
Кантор, Максим; "Новая империя", выставка произведений Максима Кантора"Квирини Стампалиа", музей


76
К 60


    Колдобская, Марина.
    [Выставка графики] [Текст] / М. Колдобская // Новый мир искусства. - 2005. - N 6. - С. 15 . - ISSN 1560-8697
УДК
ББК 85.15
Рубрики: Искусство--Графика--Россия--Российская Федерация--РФ, 20 в. кон.
Кл.слова (ненормированные):
выставки; художники; графики; литография; портреты
Аннотация: В петебургской галерее "Anna Nova" состоялась выставка современного российского художника Петра Швецова "Голова архитектора".


Доп.точки доступа:
Швецов, Петр (художник ; 1970-); "Anna Nova", галерея"Голова архитектора", выставка призведений П. Швецова


73/76
Б 90


    Букреева, Надя.
    Продавцы драконов снова здесь [Текст] / Н. Букреева, П. Дейнека, И. Коновалов, О. Лысенко // Новый мир искусства. - 2006. - N 4. - С. 96-107 . - ISSN 1560-8697
УДК
ББК 85.1
Рубрики: Искусство--Изобразительное искусство--РФ--Российская Федерация--Россия, 20 в.
Кл.слова (ненормированные):
выставки; обзоры; фестивали; художники; живописцы; графики; скульпторы; фотохудожники; живопись; графика; литография; скульптура; инсталляции; аудиоинсталляции; советская культура; соцреализм; современное искусство; пейзажи; городские пейзажи; портреты; вещи; граффити
Аннотация: Обзор петербургских выставок.


Доп.точки доступа:
Дейнека, Павел; Коновалов, Иван; Лысенко, Оксана; Пластов, Аркадий (художник ; 1893-1972); Павлов, Александр (художник); Френц, Рудольф (художник ; 1888-1956); Илюшкина, Виктория (аудиохудожник); Матюх, Вера (художник ; 1910-2003); Михнов-Войтенко, Евгений (художник ; 1932-1988); Тризна, Александра (художник); Лубнин, Гавриил (художник); Бышевская, Элла (художник); Балек, Франтишек (художник); Заградник, Иржи (фотохудожник); Международный фестиваль экспериментального искусства; "Встреча стилей / Meeting of Styles", международный фестиваль граффити; "Навигация тела", международный фестиваль современного искусства; "Ориентация в пространстве, или Собранные объекты", выставка; "Забытая Россия", выставка; Навигация тела, международный фестиваль современного искусства; "Человек и власть в СССР: 1917-1985", выставка; "Песнь маяка", аудиоинсталляция; "Фотороботы, или Как живые", выставка произведений Г. Лубнина; "Иерусалим, которого не видел Набоков", выставка произведений Э. Бышевской




   
    Модификация поверхности - путь к магнитной памяти [Текст] // Природа. - 2002. - N2. - С.80 . -
УДК
ББК 22.33 + 22.37
Рубрики: Физика--Электричество и магнетизм--Физика твердого тела
Кл.слова (ненормированные):
магнитные наноструктуры; магнитные свойства; нанокристаллы; лазерная интерференционная литография
Аннотация: О формировании магнитной наноструктуры методом лазерной интерференционной литографии. Из опыта российских и американских ученых



535
А 655


    Андреев, А. А.
    Ключевые методы увеличения высвета мягкого рентгеновского излучения из лазерной плазмы для литографии [Текст] / А. А. Андреев, В. Г. Николаев, К. Ю. Платонов, Ю. А. Куракин // Журнал технической физики. - 2007. - Т. 77, N 6. - С. 62-69. - Библиогр.: c. 69 (20 назв. ) . - ISSN 0044-4642
УДК
ББК 22.34
Рубрики: Физика--Оптика
Кл.слова (ненормированные):
высвет; конверсия излучения; лазерная плазма; лазерное облучение; лазерные мишени; литография; мягкое рентгеновское излучение; плазма; рентгеновские зеркала; рентгеновское излучение
Аннотация: Предложена двухимпульсная, двухволновая (лазеры Nd и CO[2]) схема облучения лазерной мишени, обеспечивающая наибольший коэффициент конверсии лазерного излучения в рентгеновский диапазон (13. 5 nm +1%). Сделаны аналитические оценки параметров импульсов и мишени, состоящей из Xe или Li. Проведена численная оптимизация ренгеновского высвета от сферической Xe мишени, облучаемой CO[2] лазерным импульсом. Максимальный коэффициент конверсии лазерного излучения в рентгеновское составил ~1%. Получены угловые и спектральные характеристики рентгеновского излучения. Оценен поток быстрых ионов Xe, вылетающих из мишени и оказывающих разрушающее действие на Mo/Si-покрытие рентгеновских зеркал.

Перейти: http://www.ioffe.ru/journals/jtf/2007/06/p62-69.pdf

Доп.точки доступа:
Николаев, В. Г.; Платонов, К. Ю.; Куракин, Ю. А.