537 Г 199 Гапонов, С. В. Литография на длине волны 13 нм [Текст] / С. В. Гапонов // Вестник Российской академии наук. - 2003. - Т.73,N5 . - ISSN 0869-5873
Рубрики: Физика--Электричество и магнетизм Кл.слова (ненормированные): диапазоны длин волн -- литография -- многослойные зеркала -- нанолитография -- нанообъекты Аннотация: Вопрос о десятикратном повышении точности формы и ровности поверхности не решить без создания новых средств измерения и новых технологий.Распространение их в другие области науки и техники приведет к качественным изменениям,а отсутствие этого сделает неконкурентоспособным большинство наших производств. |
621.38 С 28 Сейсян, Р. Нанолитография СБИС в экстремально дальнем вакуумном ультрафиолете (обзор [] / Р. Сейсян // Журнал технической физики. - 2005. - Т. 75, N 5. - С. 1-13. - Библиогр.: c. 13 (20 назв. ) . - ISSN 0044-4642
Рубрики: Радиоэлектроника--Электроника Кл.слова (ненормированные): вакуумно-ультрафиолетовое излучение; интегральные схемы; нанолитография; СБИС; ультрафиолетовое излучение; фотолитография Аннотация: Приводятся обзор и обоснование основных идей фотолитографии высокого разрешения в экстремально дальнем вакуумно-ультрафиолетовом диапазоне спектра электромагнитного излучения, разрабатываемых применительно к созданию интегральных схем сверхвысокого уровня интеграции, превосходящих современные ИС по интеграции на 1-2 порядка. Рассматриваются проблемы и современное состояние развития разработок в этой области. Перейти: http://www.ioffe.ru/journals/jtf/2005/05/page-1.html.ru |
621.38 Ч-49 Черное на черном [] // Химия и жизнь - XXI век. - 2005. - N 5. - С. 48 . - ISSN 1727-5903
Рубрики: Радиоэлектроника--Электроника Кл.слова (ненормированные): микросхемы; нанолитография; нанотехнологии; нанотрубки углеродные; углеродные нанотрубки; микрочипы; фуллерены; фуллериты Аннотация: Упростить производство микросхем можно с помощью так называемой "сухой" нанолитографии. |
539.2 Т 41 Тимофеев, В. Б. Электронные корреляционные явления в полупроводниковых структурах низкой размерности и наноструктурах [Текст] / В. Б. Тимофеев // Успехи физических наук. - 2004. - Т. 174, N 10. - С. 1109-1116. - Библиогр.: с. 1116 (20 назв. ). - ил.: 11 рис. . - ISSN 0042-1294
Рубрики: Радиоэлектроника--Квантовая электроника Физика--Физика твердого тела Кл.слова (ненормированные): конференции -- наноструктуры -- нанолитография -- биоорганические материалы -- нанодиагностика -- корреляционные явления -- композитные фермионы -- спинтроника Аннотация: Представлена серия новых явлений, последовательно открытых по мере возрастания подвижности и длины свободного пробега двумерных электронов (более чем на три порядка ! ) в этих системах. Рекордные величины электронной подвижности в GaAs-гетероструктурах в настоящее время составляют 3 х 10{7} см{2} (B c) {-1}, а длины свободного пробега достигают 100 мкм. Отмечены явления, связанные с открытием нового класса квазичастиц в структурах с большой электронной подвижностью - композитных фермионов. Перейти: http://data.ufn.ru//ufn04/ufn04_10/Russian/r0410e.pdf |
535 В 645 Вознесенский, Н. Б. Интерференционный контроль асферических компонентов объектива для нанолитографии [Текст] / Н. Б. Вознесенский, Е. В. Гаврилов [и др.] // Журнал технической физики. - 2007. - Т. 77, N 2. - С. 126-130. - Библиогр.: c. 130 (8 назв. ) . - ISSN 0044-4642
Рубрики: Физика--Оптика Кл.слова (ненормированные): EUV-зеркала; асферические зеркала; дифракционные интерферометры; интерференционный контроль зеркал; нанолитография; объективы Аннотация: Развиты методики и схемы контроля формы EUV-зеркал на основе дифракционного интерферометра с компьютерной обработкой интерферограмм, обеспечивающие погрешность измерений менее 0. 001 длины волны в видимой области спектра. Перейти: http://www.ioffe.rssi.ru/journals/jtf/2007/02/p126-130.pdf Доп.точки доступа: Гаврилов, Е. В.; Жевлаков, А. П.; Кирилловский, В. К.; Орлов, П. В. |
535 К 630 Комаров, С. М. (канд. физ.-мат. наук). Оловянный источник из ИСАНа [Текст] / С. М. Комаров // Химия и жизнь - XXI век. - 2007. - N 1. - С. 6-7 . - ISSN 1727-5903
Рубрики: Физика--Оптика Кл.слова (ненормированные): спектроскопия; олово; нанолитография; литографические машины; нанотехнология; микросхемы; рентгеновское излучение Аннотация: Две струи расплавленного олова, между которыми время от времени загорается разряд, испускающий мягкие рентгеновские лучи, - возможно, таким будет источник света для нанолитографии, то есть производства микросхем. Этот источник разработан учеными из троицкого Института спектроскопии РАН. |
Салащенко, Н. Н. (чл.-кор. РАН). Коротковолновая проекционная нанолитография [Текст] / Н. Н. Салащенко, Н. И. Чхало // Вестник Российской академии наук. - 2008. - Т. 78, N 5. - С. 450-457 : 6 рис. - Библиогр.: с. 456-457 (31 назв. ) . - ISSN 0869-5873
Рубрики: Полиграфическая промышленность Плоская печать Кл.слова (ненормированные): диапазоны коротковолновые -- диапазоны ультрафиолетовые -- коротковолновые диапазоны -- микроэлектронная промышленность -- нанолитография -- нанолитография проекционная -- области спектра -- проекционная нанолитография -- промышленность микроэлектронная -- спектры -- ультрафиолетовые диапазоны Аннотация: На одном из заседаний Президиума РАН рассматривались проводимые в Институте физики микроструктур РАН работы по нанолитографии в ультракороткой области спектра, которым и посвящена публикуемая ниже статья. Результаты этих работ, по мнению участников заседания, можно реально использовать для возрождения отечественной микроэлектронной промышленности. Доп.точки доступа: Чхало, Н. И. (канд. физ.-матем. наук) |
Полимеры для нанолитографии. Новая стратегия и синтеза сополимеров производных малеимида, норборнена и стирола с боковыми гексафторизопропанольными и трет-бутилкарбонатными группами [Текст] : текст / А. Я. Вайнер [и др. ] // Доклады Академии наук. - 2008. - Т. 420, N 1, май. - С. 62-65. - Библиогр.: с. 65 . - ISSN 0869-5652
Рубрики: Химия Химия высокомолекулярных соединений Кл.слова (ненормированные): интегральные схемы -- фотолитографический процесс -- синтез полимеров -- нанолитография -- радикальная сополимеризация Аннотация: Предложена новая стратегия дизайна и синтеза полимеров для нанолитографии, адекватных технологий с экспонирующим излучением на длине волны 248 нм и позволяющих реализовать микросхемы с суб-0. 1 мкм минимальными размерами. Доп.точки доступа: Вайнер, А. Я.; Дюмаев, К. М.; Еремина, Л. А.; Машанский, Ф. И.; Менделева, Ю. А.; Тарнопольский, А. И. |
Стационарные светоиндуцированные силы в атомной нанолитографии [Текст] / А. В. Безвербный [и др. ] // Журнал экспериментальной и теоретической физики. - 2005. - Т. 128, N 4. - С. 682-697. - Библиогр.: с. 696-697 . - ISSN 0044-4510
Рубрики: Физика Теоретическая физика Кл.слова (ненормированные): нанолитография -- атомная нанолитография -- стационарные светоиндуцированные силы -- светоиндуцированные силы -- пространственная структура -- оптическая накачка -- спонтанное излучение -- излучения -- атомы Аннотация: Рассмотрено влияние процессов спонтанного излучения и оптической накачки на пространственную структуру светоиндуцированных сил F[0] (r), действующих на неподвижный атом. Доп.точки доступа: Безвербный, А. В.; Прудников, О. Н.; Тайченачев, А. В.; Тумайкин, А. М.; Юдин, В. И. |
Калмыков, С. Г. Верхняя оценка коэффициента конверсии лазерно-плазменного источника коротковолнового излучения для нанолитографии [Текст] / С. Г. Калмыков // Письма в "Журнал технической физики". - 2009. - Т. 35, вып: вып. 21. - С. 97-102 : ил. - Библиогр.: с. 102 (7 назв. ) . - ISSN 0320-0116
Рубрики: Радиоэлектроника Квантовая электроника Кл.слова (ненормированные): лазерная плазма -- источники излучений -- лазерно-плазменные источники -- коэффициент конверсии -- коротковолновое излучение -- нанолитография -- EUV-диапазон -- диапазон-EUV -- черные тела -- верхняя оценка коэффициента -- конверсия источника -- перспективы повышения эффективности Аннотация: Лазерная плазма рассматривается в качестве источника излучения в EUV-диапазоне для нужд нанолитографии. В предположении плазмы, излучающей как черное тело, получена верхняя оценка коэффициента конверсии такого источника. Рассматриваются перспективы повышения эффективности реальных плазм, используемых в этом качестве. |
Ivanov, D. A. Frequency multi-mode lens for atoms and molecules: Application to nanofabrication [Text] / D. A. Ivanov, T. Yu. Ivanova // Письма в журнал экспериментальной и теоретической физики. - 2009. - Т. 90, вып: вып. 1. - С. 80-84
Рубрики: Физика Движение заряженных частиц в электрических и магнитных полях Кл.слова (ненормированные): фокусировка атомов -- фокусировка молекул -- многомодовая линза -- стоячие световые волны -- нанолитография -- депонированные структуры Доп.точки доступа: Ivanova, T. Yu. |
Локальная наноразмерная декомпозиция пленки GeO под иглой атомно-силового микроскопа: наноструктурирование Ge [Текст] / К. Н. Астанкова [и др. ] // Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования. - 2009. - N 10. - С. 29-36. - Материалы XXII Российской конференции по электронной микроскопии
Рубрики: Физика Физика твердого тела. Кристаллография в целом Кл.слова (ненормированные): атомно-силовой микроскоп -- локальная электротермическая декомпозиция пленки -- монооксид германия -- наноразмерные германиевые проволоки -- зондовая нанолитография -- электронная микроскопия высокого разрешения -- наноструктурирование германия Аннотация: В работе впервые продемонстрирован способ создания наноразмерных германиевых проволок на поверхности кремния посредством локальной модификации твердой пленки монооксида германия GeO (тв) c помощью сканирующей зондовой микроскопии. Свойством твердого монооксида германия является его метастабильность, что было использовано для осуществления локального распада пленки GeO на Ge и GeO2 при протекании электрического тока большой плотности под иглой атомно-силового микроскопа. Доп.точки доступа: Астанкова, К. Н.; Щеглов, Д. В.; Горохов, Е. Б.; Володин, В. А.; Черков, А. Г.; Латышев, А. В.; Vergnat, M. |
Комаров, С. М. Профессии метаматериалы [Текст] / С. М. Комаров // Химия и жизнь - XXI век. - 2009. - N 8. - С. 39-41 . - ISSN 1727-5903
Рубрики: Физика Оптика в целом Кл.слова (ненормированные): метаматериалы -- микроскопия -- нанолитография -- электромагнитные волны -- акустические волны Аннотация: Рассказывается о том, что метаматериалы могут служить не только для того, чтобы в более или менее отдаленном будущем создать шапку- или танк-невидимку. |
Белоус, Максим. Закон Мура снова в безопасности [Текст] / М. Белоус, П. Колозариди, А. Кутянин // PC Magazine. - 2009. - N 1. - С. 6 . - ISSN 0869-4257
Рубрики: Радиоэлектроника--Беркли--США--Соединенные Штаты Америки Радиоэлектроника в целом--Беркли--США--Соединенные Штаты Америки Кл.слова (ненормированные): фотолитография -- нанолитография -- УФ-излучение -- ультрафиолетовое излучение -- плазмоны -- плазмонная фокусировка -- плазмонные металлические линзы -- закон Мура -- Мура закон Аннотация: Плазмонная фокусировка УФ-излучения позволит довести размеры микросхем до наноуровня. Доп.точки доступа: Колозариди, Полина; Кутянин, Александр |
535.2/.3 Б 209 Балыкин, В. И. Атомная оптика и ее приложения [Текст] / В. И. Балыкин // Вестник Российской академии наук. - 2011. - Т. 81, N 4. - С. 291-301 : 8 рис. - Библиогр.: с. 300-301 (21 назв. ) . - ISSN 0869-5873
Рубрики: Физика Физическая оптика Кл.слова (ненормированные): атомная интерферометрия -- атомная оптика -- лазерное охлаждение -- локализация атомов -- нанолитография -- оптика материальных частиц Аннотация: Атомная оптика оформилась в самостоятельную физическую дисциплину лишь в середине 1990-х годов. Предпосылкой тому послужили результаты исследований по воздействию сил светового давления лазерного излучения на поступательное движение атомов. Перспективам развития нового типа оптики материальных частиц было посвящено одно из заседаний Президиума РАН. Публикуемая ниже статья написана на основе научного сообщения, заслушанного на этом заседании. |
621.38 С 288 Сейсян, Р. П. Нанолитография в микроэлектронике [Текст] : (Обзор) / Р. П. Сейсян // Журнал технической физики. - 2011. - Т. 81, N 8. - С. 1-14. - Библиогр.: c. 14 (23 назв. ) . - ISSN 0044-4642
Рубрики: Радиоэлектроника Электроника в целом Кл.слова (ненормированные): нанолитография -- фотолитография -- оптическая литография -- дифракционный предел Рэлея-Аббе -- Рэлея-Аббе дифракционный предел -- коррекция оптической близости -- искусственный фазовый сдвиг -- иммерсия -- двойное экспонирование -- двойное паттернирование Аннотация: Приведен аналитический обзор современного состояния фотолитографии, ее основных приемов, позволивших достичь результатов, еще несколько лет тому назад казавшихся невероятными. Так, современная фотолитография в глубоком ультрафиолете дает возможность достаточно точного воспроизведения в интегральных схемах элементов, в 25 раз меньших длины волны излучения используемого для этих целей эксимерного лазера. Рассмотрены приемы, обеспечивающие оптической литографии возможность столь значительного преодоления дифракционного предела по Рэлею-Аббе. Среди них коррекция оптической близости, введение искусственного фазового сдвига, иммерсия, двойное экспонирование, двойное паттернирование и др. Проанализированы перспективы дальнейшего развития фотолитографии в нанометровом диапазоне, при этом сопоставлены ее возможности с электронолитографией и литографией в экстремальном ультрафиолете и мягком рентгене. Перейти: http://journals.ioffe.ru/jtf/2011/08/p1-14.pdf |
535 П 696 Пранц, С. В. О возможности наблюдения неадиабатических переходов атомов в лазерном поле и их применения в нанолитографии [Текст] / С. В. Пранц // Письма в журнал экспериментальной и теоретической физики. - 2010. - Т. 92, вып. 11. - С. 808-812
Рубрики: Физика Оптика в целом Кл.слова (ненормированные): неадиабатические переходы -- атомы -- лазерное поле -- лазерные стоячие волны -- нанолитография Аннотация: Предложена схема эксперимента по наблюдению неадиабатических переходов атомов в поле лазерной стоячей волны и вызываемого ими расщепления атомных волновых пакетов на узлах стоячей волны в определенном диапазоне световой расстройки. Этот эффект может быть использован в атомно-оптической нанолитографии для создания пространственных атомных структур с периодом, значительно меньшим длины волны света. |
544.723.2.023.2 З-146 Загрязнение поверхности и время жизни оптики для ЭУФ-нанолитографии [Текст] / Н. С. Фараджев [и др.] // Известия РАН. Серия физическая. - 2010. - Т. 74, N 1. - С. 34-38 : Рис. - Библиогр.: c. 38 (15 назв. ) . - ISSN 0367-6765
Рубрики: Химия Физическая химия поверхностных явлений Кл.слова (ненормированные): зеркала -- литография экстремального ультрафиолета -- многослойные структуры -- нанотехнологии -- оптические поверхности -- отражение света -- расчетные данные -- углеводородные пленки -- углеродные пленки -- экспериментальные данные -- ЭУФ-нанолитография Аннотация: В работе обсуждаются элементарные процессы, приводящие к загрязнению поверхности оптики литографии экстремального ультрафиолета. Доп.точки доступа: Фараджев, Н. С.; Хилл, Ш. Б.; Лукаторто, Т. Б.; Якшинский, Б. В.; Мэди, Т. Е. |
544.52 Н 766 Новые полифенолы флуоренового ряда и позитивные фоторезисты на их основе для 22-нанометровой литографии / А. Я. Вайнер [и др.] // Доклады Академии наук. - 2012. - Т. 442, № 2, январь. - С. 195-199. - Библиогр.: с. 199 . - ISSN 0869-5652
Рубрики: Химия Фотохимия Кл.слова (ненормированные): экстремальная ультрафиолетовая нанолитография -- полифенолы -- пленкообразующие свойства соединений Аннотация: Предложена новая стратегия синтеза полифенольных производных флуорена в качестве основы позитивных резистов для нанометровой литографии. Доп.точки доступа: Вайнер, А. Я.; Дюмаев, К. М.; Коваленко, А. М.; Давидович, М. З.; Зеликсон, К. И.; Пинчук, Е. М. |
535 А 691 Аномальная пространственная концентрация атомов в поле стоячей световой волны / Д. В. Бражников [и др.] // Письма в журнал экспериментальной и теоретической физики. - 2012. - Т. 95, вып. 8. - С. 445-448
Рубрики: Физика Оптика в целом Кл.слова (ненормированные): двухуровневые атомы -- стационарные распределения двухуровневых атомов -- стоячие световые волны -- лазерное излучение -- квантовое кинетическое уравнение -- атомная матрица плотности -- атомная нанолитография Аннотация: В работе исследуются стационарные распределения двухуровневых атомов по импульсам и координатам в поле одномерной стоячей световой волны. В режиме умеренного насыщения атомного перехода и красной отстройки частоты обнаружен качественно новый эффект - концентрация атомов не в минимумах оптического потенциала. Дана качественная интерпретация нового эффекта. Расчеты производились на основе квантового кинетического уравнения для атомной матрицы плотности с полным учетом эффектов отдачи и локализации в световом поле произвольной интенсивности. Помимо теоретической значимости, результаты работы могут быть полезны для атомной нанолитографии и стандартов частоты на основе оптических решеток. Доп.точки доступа: Бражников, Д. В.; Ильенков, Р. Я.; Прудников, О. Н.; Тайченачев, А. В.; Тумайкин, А. М.; Юдин, В. И.; Гончаров, А. Н.; Зибров, А. С. |