539.2 В 313 Веревкин, Ю. К. Формирование двумерных периодических наноструктур на поверхности плавленого кварца, полиимида и поликристаллического алмаза с помощью метода импульсной четырехлучевой интерференционной лазерной модификации [Текст] / Ю. К. Веревкин, Н. Г. Бронникова [и др.] // Журнал технической физики. - 2003. - Т.73,N6. - Библиогр.: 12 назв. . - ISSN 0044-4642
Рубрики: Физика--Физика твердого тела Кл.слова (ненормированные): алмаз -- интерференционная лазерная модификация -- кварц -- лазерное излучение -- наноструктуры -- периодические структуры -- полиимид Аннотация: С помощью атомно-силовой микроскопии (АСМ) изучена топография субмикронных периодических структур, сформированных на поверхностях поликристаллического синтетического алмаза, и полиимидных пленок на подложках из плавленого кварца при наносекундных импульсных воздействиях ультрафиолетового излучения эксимерного XeCl лазера с длиной волны 308 nm в схеме четырехлучевой интерференционной лазерной модификации. Показана возможность прямого формирования двумерного периодического рельефа с субмикронным периодом на поверхности алмаза непосредственно импульсным лазерным испарением без применения резистора. Установлено, что в зависимости от экспозиции наблюдаются два различных механизма модификации полиимидных пленок. При экспозициях в диапазоне до 100 mJ/cm{2} в полиимиде наблюдается изменение рельефа вследствие увеличения объема в местах интерференционных максимумов. При экспозиции более 100 mJ/cm2 в пленках возникают отверстия. С использованием УФ фоторезистора, экспонированного интерференционным импульсным лазерным облучением, и последующего ионного травления Ar получен периодический рельеф на поверхности плавленого кварца Доп.точки доступа: Бронникова, Н.Г.; Королихин, В.В.; Гущина, Ю.Ю.; Петряков, В.Н.; Филатов, Д.О.; Битюрин, Н.М.; Круглов, А.В.; Левичев, В.В. |
621.38 Б 877 Бредихин, В. И. Наноразмерная интерференционная литография с импульсным УФ лазером [Текст] / В. И. Бредихин, В. Н. Буренина [и др.] // Журнал технической физики. - 2004. - Т. 74, N 9. - Библиогр.: c. 90 (24 назв. ) . - ISSN 0044-4642
Рубрики: Радиоэлектроника--Электроника Кл.слова (ненормированные): интерференционная литография -- литография -- наноразмерная литография -- периодические структуры -- субмикронные структуры -- фототермические резисты Аннотация: Измерены чувствительность и пространственное резрешение фототермического резиста на основе двухслойной пленки металлического индия и полимера. Прямым лазерным воздействием изготовлены двумерные маски, через которые созданы наноразмерные металлические и диэлектрические островки на подложке кремния. Найдены условия получения субмикронных периодических структур на пленках TiO[2], нанесенных на стеклянную подложку по золь-гель технологии. Измерены их некоторые оптические характеристики, отмечается возможность использования таких решеток для возбуждения планарных электромагнитных волн. Перейти: http://www.ioffe.ru/journals/jtf/2004/09/page-86.html.ru Доп.точки доступа: Буренина, В. Н.; Веревкин, Ю. К.; Кирсанов, А. В.; Петряков, В. Н.; Востоков, Н. В.; Дряхлушин, В. Ф.; Климов, А. Ю. |