535 П 471 Поздеев, С. В. Эллипсометрический контроль качества поверхности оптического стекла после финишной электронно-лучевой обработки [Текст] / С. В. Поздеев, Г. Н. Дубровская // Заводская лаборатория. Диагностика материалов. - 2004. - Т. 70, N 9. - Библиогр.: с. 38 (3 назв. ) . - ISSN 1028-6861
Рубрики: Физика--Оптика Кл.слова (ненормированные): качество поверхности -- контроль качества -- неразрушающий контроль -- обработка поверхностей -- оптические стекла -- оптоэлектронные элементы -- стекло (материал) -- шероховатость поверхностей -- электронно-лучевая обработка -- эллипсометрический контроль -- эллипсометрия (метод) Аннотация: Описан способ эллипсометрического экспресс-контроля качества поверхностей оптоэлектронных элементов, полученных в результате электронно-лучевой обработки. Доп.точки доступа: Дубровская, Г. Н. |
Сверхкритический диоксид углерода как активная среда для химических процессов с участием фторполимеров [Текст] / Л. Н. Никитин [и др. ] // Российский Химический Журнал (ЖРХО им. Д.И.Менделеева). - 2008. - Т. 52, N 3. - С. 56-65. - Библиогр.: с. 64-65 (71 назв. ) . - ISSN 0373-0247
Рубрики: Химическая технология Полимеры и пластмассы на основе элементоорганических соединений Кл.слова (ненормированные): индуцированная степень гидрофобности -- модифицирование полимеров -- модифицированная бумага -- нанослои -- оболочечные микрочастицы -- проводимость -- сверхгидрофобные покрытия -- сверхкритический диоксид углерода -- степень пористости -- угол смачивания -- фторполимеры -- шероховатость поверхностей Аннотация: Показаны особенности и преимущества сверхкритического диоксида углерода как активной среды для нанесения нанослоев фторполимеров на различные подложки. Доп.точки доступа: Никитин, Л. Н.; Галлямов, М. О.; Саид-Галиев, Э. Е.; Хохлов, А. Р.; Бузник, В. М. |
Осовицкий, А. Н. Характеристики волноводного метода измерения параметров шероховатости гладких поверхностей диэлектриков [Текст] / А. Н. Осовицкий, Л. В. Тупанов // Радиотехника и электроника. - 2008. - Т. 53, N 12. - С. 1516-1520. - Библиогр.: с. 1520 (10 назв. ) . - ISSN 0033-8494
Рубрики: Радиоэлектроника Квантовая электроника Физика Оптические свойства твердых тел Кл.слова (ненормированные): волноводный метод -- шероховатость поверхностей -- диэлектрики -- поверхности диэлектриков Аннотация: Проанализированы основные характеристики нового метода определения параметров шероховатости поверхности, основанного на рассеянии света в волноводах интегральной оптики. Показано, что при использовании стандартных приборов волноводный метод обеспечивает рекордные для оптических методов чувствительность и разрешение. Доп.точки доступа: Тупанов, Л. В. |
Технология получения одномерных фотонных кристаллов с помощью фотоэлектрохимического травления кремния [Текст] / Ю. А. Жарова [и др. ] // Физика и техника полупроводников. - 2010. - Т. 44, вып: вып. 7. - С. 986-994 : ил. - Библиогр.: с. 993 (21 назв. ) . - ISSN 0015-3222
Рубрики: Физика Физика твердого тела. Кристаллография в целом Кл.слова (ненормированные): одномерные фотонные кристаллы -- 1D ФК -- фотоэлектрохимическое травление -- ФЭХТ -- кремний -- плотность тока травления -- легирование подложки -- подложки -- атомно-силовая микроскопия -- щелочные растворы -- макропоры -- шероховатость поверхностей -- затравочные канавки -- анизотропное травление -- АТ Аннотация: Анализируются условия формирования глубоких периодических щелей в процессе фотоэлектрохимического травления n-Si ориентации (100) с линейными затравками на поверхности. Сформулированы критерии для выбора периода затравочных канавок и для плотности тока травления в зависимости от уровня легирования подложки. Характерной особенностью полученных структур является гофрировка их стенок, обусловленная следами слившихся макропор. С помощью атомно-силовой микроскопии исследована неровность стенок в зависимости от режима травления и найдена плотность тока, при которой можно получить наиболее гладкие стенки. Их шероховатость в структурах с периодом 7 и 9 мкм на Si с удельным сопротивлением 15 Ом x см составила ~40 нм. Показано, что дополнительная обработка структур в щелочных растворах может уменьшить шероховатость стенок примерно в 2 раза. Доп.точки доступа: Жарова, Ю. А.; Федулова, Г. В.; Гущина, Е. В.; Анкудинов, А. В.; Астрова, Е. В.; Ермаков, В. А.; Перова, Т. С. |
535:621 К 904 Кулов, С. К. Наноразмерные неоднородности на поверхности свинцово-силикатного стекла для МКП [Текст] / С. К. Кулов, А. М. Кармоков, О. А. Молоканов // Известия РАН. Серия физическая. - 2009. - Т. 73, N 11. - С. 1649-1651 : Рис. - Библиогр.: c. 1651 (4 назв. ) . - ISSN 0367-6765
Рубрики: Физика Оптика в целом Кл.слова (ненормированные): атомно-силовая спектроскопия -- микроканальные пластины -- морфология поверхности -- отжиг -- поверхности -- свинцово-силикатное стекло -- сканирующая зондовая микроскопия -- стекло С87-2 -- термическое воздействие -- шероховатость поверхностей Аннотация: Методом атомно-силовой спектроскопии исследовано изменение морфологии поверхности свинцово-силикатного стекла С87-2 после отжига при различных условиях. Доп.точки доступа: Кармоков, А. М.; Молоканов, О. А. |
541.6 В 586 Влияние вакуумного ультрафиолета на поверхностные свойства высоконаполненных композитов / В. И. Павленко [и др.] // Физика и химия обработки материалов. - 2013. - № 2. - С. 19-24 . - ISSN 0015-3214
Рубрики: Химия Химия высокомолекулярных соединений Кл.слова (ненормированные): ультрафиолет -- вакуумный ультрафиолет -- композиты -- полимерные композиты -- газовыделения -- шероховатость поверхностей -- органо-силоксановые наполнители -- полистиролы -- ударопрочные полистиролы -- высоконаполненные полимерные композиты -- поглощение солнечного излучения -- УФ-облучения Аннотация: Исследовано влияние вакуумного ультрафиолета (l=90-115 нм) на структуру поверхности и оптические свойства высоконаполненных полимерных композитов на основе ударопрочного полистирола и органо-силоксанового наполнителя. Установлено, что под действием УФ-облучения происходит сглаживание поверхности композитов и увеличение интегрального коэффициента поглощения солнечного излучения на ~15%. Доп.точки доступа: Павленко, В. И.; Заболотный, В. Т.; Черкашина, Н. И.; Едаменко, О. Д. |