Жиляев, Ю. В. Рост слоев нитрида галлия методом хлоридной газофазной эпитаксии при пониженной температуре источника [Текст] / Ю. В. Жиляев, С. Н. Родин // Письма в "Журнал технической физики". - 2010. - Т. 36, вып: вып. 9. - С. 11-16 : ил. - Библиогр.: с. 16 (3 назв. ) . - ISSN 0320-0116
Рубрики: Физика Физика твердого тела. Кристаллография в целом Кл.слова (ненормированные): галлий -- нитрид галлия -- нитридные слои -- рост слоев -- газофазная эпитаксия -- хлоридная газофазная эпитаксия -- метод хлоридной газофазной эпитаксии -- подложки сапфира -- пониженные температуры -- морфология поверхности -- дифрактометрия -- рентгеновская дифрактометрия -- трехкристальная рентгеновская дифрактометрия -- фотолюминесцентные свойства -- кристаллическое состояние -- источники (физика) -- газовые фазы Аннотация: Методом хлоридной газофазной эпитаксии получены слои нитрида галлия на подложке сапфира при температуре источника Ga от 890 до 600{o}C. Все слои прозрачные, имеют гладкую морфологию поверхности. Структурное качество оценивалось по измерению полуширины кривой качания отражения в случае трехкристальной рентгеновской дифрактометрии, которая для лучших образцов составляет 8 arcmin. Данные по зависимости фотолюминесцентных свойств и кристаллического совершенства GaN от температуры галлиевого источника продемонстрировали, что снижение температуры источника вплоть до 600{o}C не влияет существенным образом на процесс роста нитрида галлия, несмотря на существенное изменение состава газовой фазы - соотношения GaCl и GaCl[3]. Доп.точки доступа: Родин, С. Н. |
Микушкин, В. М. Химическое действие пучка инертного аргона на нитридный нанослой, сформированный ионной имплантацией поверхности GaAs [Текст] / В. М. Микушкин // Письма в "Журнал технической физики". - 2010. - Т. 36, вып: вып. 24. - С. 40-47 : ил. - Библиогр.: с. 47 (14 назв. ) . - ISSN 0320-0116
Рубрики: Физика Газы и жидкости Физика твердого тела. Кристаллография в целом Кл.слова (ненормированные): аргон -- инертный аргон -- пучки аргона -- химические действия -- нанослои -- нитридные нанослои -- ионы -- имплантация ионов -- спектроскопия -- оже-спектроскопия -- электронная спектроскопия -- электронная оже-спектроскопия -- метод электронной оже-спектроскопии -- азот -- химические состояния -- энергии -- химические фазы -- твердые растворы -- оже-переходы -- уровни Ферми -- Ферми уровни -- нитридные слои -- каскадное перемешивание -- полупроводники -- широкозонные полупроводники -- узкозонные полупроводники Аннотация: Методом электронной оже-спектроскопии исследованы состав и химическое состояние азота нитридного нанослоя, полученного на поверхности GaAs (100) имплантацией ионов N{+}[2] с энергией E[i]=2. 5 keV. Установлено, что помимо GaN в нитридном слое формируется химическая фаза твердого раствора GaAsN. Определены энергии оже-переходов NKVV в этих фазах, равные E[A] (GaN) =379. 8± 0. 2 eV и E[A] (GaAsN) =382. 8± 0. 2 eV относительно уровня Ферми, что позволило установить распределение азота в фазах: [N (GaN) ]=70% и [N (GaAsN) ]=30%. Обнаружено химическое действие пучка ионов аргона на нитридный слой, связанное с каскадным перемешиванием материала. Пучок аргона изменяет распределение азота в указанных фазах на противоположное. В результате формируется нанослой с доминированием фазы не широкозонного GaN, а узкозонного GaAsN полупроводника. |
533.9 Г 124 Гаврилов, Н. В. Экспериментальное исследование условий перехода в сильноточный режим разряда с полым самонакаливаемым катодом из титана в среде азота [Текст] / Н. В. Гаврилов, авт. А. И. Меньшаков // Письма в "Журнал технической физики". - 2012. - Т. 38, вып. 22. - С. 58-64 : ил. - Библиогр.: с. 64 (6 назв.) . - ISSN 0320-0116
Рубрики: Физика Электронные и ионные явления. Физика плазмы Кл.слова (ненормированные): разряды -- дуговые разряды -- нитридные слои -- титан -- азот -- катоды -- полые катоды -- самонакаливаемые катоды -- экспериментальные исследования -- термическая устойчивость -- эмиссионные свойства -- режимы тренировки катода -- фазовые переходы -- активные зоны -- температура -- ток -- вольт-амперные характеристики -- ВАХ -- тепловые режимы -- результаты измерений -- химический состав -- эрозия катода -- скорость эрозии -- аргон Аннотация: Показано, что быстрое формирование нитридного слоя на поверхности самонакаливаемого полого катода из титана в дуговом разряде в среде азота увеличивает термическую устойчивость и повышает эмиссионные свойства катода. Определены режимы тренировки катода, обеспечивающие быстрый фазовый переход от Ti к TiN по всей толщине катода в его активной зоне, что позволяет увеличить температуру катода свыше 2200 K, а ток разряда до 50 A при использовании катода с внутренним диаметром 8 mm и толщиной стенки 1 mm. Приведены вольт-амперные характеристики разряда и результаты измерений теплового режима катода и его химического состава, определена скорость эрозии катода при работе в среде азота и аргона. Перейти: http://journals.ioffe.ru/pjtf/2012/22/p58-64.pdf Доп.точки доступа: Меньшаков, А. И. |