539.238;537.311.3;620.181;539.188 К 129 Кагадей, В. А. Кинетика гидрогенизации и изменение сопротивления тонких пленок ванадия при обработке в потоке атомарного водорода [Текст] / В. А. Кагадей, Е. В. Нефедцев [и др.] // Известия вузов. Физика. - 2003. - Т. 46, N 11. - Библиогр.: 11 назв. . - ISSN 0021-3411
Рубрики: Физика--Физика твердого тела--Электричество и магнетизм--Молекулярная физика Кл.слова (ненормированные): гидрогенизация -- кинетика гидрогенизации -- ванадий -- микроэлектроника -- наноэлектроника -- водород -- ядерная реакция -- ванадиевая пленка -- микроскопия -- физика полупроводников -- физика диэлектриков Аннотация: Методами ядерных реакций, рентгено-структурного анализа, просвечивающей электронной и атомной силовой микроскопии исследованы закономерности гидрогенизации тонких ванадиевых пленок при обработке в потоке, состоящем из смеси молекулярного и атомного водорода. Обсуждаются возможности использования тонких пленок ванадия для измерения абсолютных величин плотности потока атомарного водорода. Доп.точки доступа: Нефедцев, Е. В.; Проскуровский, Д. И.; Романенко, С. В.; Шевченко, Н. А.; Гретчел, Р.; Грамболь, Д.; Геррманн, Ф.; Иванов, Ю. Ф. |