Получение высококачественных пленок на основе манганита на усовершенствованной магнетронной приставке ВУП-5М [Текст] / Ю. М. Николаенко [и др. ] // Журнал технической физики. - 2010. - Т. 80, N 8. - С. 115-119. - Библиогр.: c. 119 (5 назв. ) . - ISSN 0044-4642
Рубрики: Физика Термодинамика твердых тел Радиоэлектроника Электроника в целом Кл.слова (ненормированные): высококачественные пленки -- манганиты -- магнетронные приставки -- ВУП-5М -- эпитаксиальный рост пленок -- рост пленок -- эпитаксиальные пленки -- магнетронное распыление Аннотация: Описана конструкция дополнительного теплового и электрического экрана, предназначенного для повышения качества получаемых пленок в отношении кристаллической структуры и равной толщины. Применение экрана позволяет использовать более мощный источник тепла для нагрева подложки и оптимизировать процесс эпитаксиального роста пленок. Экран одновременно выполняет функцию дополнительного анода, который изменяет динамику плазмы в рабочем пространстве и гомогенизирует радиальное распределение плотности потока нейтральных частиц от мишени к подложке. Доп.точки доступа: Николаенко, Ю. М.; Мухин, А. Б.; Чайка, В. А.; Бурховецкий, В. В. |