Махний, В. П.
    Люминесценция слоев оксида цинка, полученных методом изовалентного замещения на подложках селенида цинка [Текст] / В. П. Махний, М. М. Слетов, С. В. Хуснутдинов // Известия вузов. Физика. - 2009. - Т. 52, N 2. - С. 92-93. - Библиогр.: c. 93 (7 назв. ) . - ISSN 0021-3411
УДК
ББК 22.345 + 22.317
Рубрики: Физика
   Люминесценция

   Термодинамика и статистическая физика

Кл.слова (ненормированные):
гетерослои -- люминесценция слоев оксида цинка -- метод изовалентного замещения -- оксид цинка -- селенид цинка -- селенид цинка
Аннотация: Показана люминесценция слоев оксида цинка, полученных методом изовалентного замещения на подложках селенида цинка.


Доп.точки доступа:
Слетов, М. М.; Хуснутдинов, С. В.




   
    Особенности спектров возбуждения и кинетики фотолюминесценции структур Si[1-x]Ge[x]: Er/Si с релаксированным гетерослоем [Текст] / Л. В. Красильникова [и др. ] // Физика и техника полупроводников. - 2010. - Т. 46, вып: вып. 11. - С. 1527-1532 : ил. - Библиогр.: с. 1531 (12 назв. ) . - ISSN 0015-3222
УДК
ББК 22.37 + 22.375
Рубрики: Физика
   Физика твердого тела. Кристаллография в целом

   Термодинамика твердых тел

Кл.слова (ненормированные):
фотолюминесценция -- ФЛ -- люминесцентные свойства -- эпитаксиальные слои -- гетерослои -- длина волны -- спектры возбуждения -- кинетические характеристики -- эрбиевая люминесценция -- дефектно-примесные комплексы -- запрещенные зоны -- твердые растворы -- релаксация (физика)
Аннотация: Проведено исследование люминесцентных свойств гетероэпитаксиальных структур Si[1-x]Ge[x]: Er/Si с релаксированным гетерослоем. По результатам совместных исследований спектров возбуждения и кинетики фотолюминесценции (ФЛ) выделены компоненты, вносящие преимущественный вклад в сигнал фотолюминесценции структур Si[1-x]Ge[x]: Er/Si в диапазоне длин волн 1. 54 мкм. Показано, что релаксация упругих напряжений в гетерослое Si[1-x]Ge[x]: Er слабо влияет на кинетические характеристики эрбиевой люминесценции и проявляется лишь в незначительном вкладе в люминесцентный отклик структур Si[1-x]Ge[x]: Er/Si дефектов и дефектно-примесных комплексов. В спектрах возбуждения эрбиевой ФЛ выделены особенности, связанные с возможностью возбуждения редкоземельной примеси при энергиях, меньших ширины запрещенной зоны твердого раствора Si[1-x]Ge[x]. Показано, что в спектрах возбуждения эрбиевой ФЛ в структурах Si[1-x]Ge[x]: Er/Si в области длин волн 1040-1050 нм наблюдается пик, ширина которого зависит от ширины запрещенной зоны твердого раствора и степени его релаксации. Наблюдаемые особенности объясняются вовлеченностью в процесс возбуждения иона Er{3+} промежуточных уровней в запрещенной зоне твердого раствора Si[1-x]Ge[x]: Er.


Доп.точки доступа:
Красильникова, Л. В.; Яблонский, А. Н.; Степихова, М. В.; Дроздов, Ю. Н.; Шенгуров, В. Г.; Красильник, З. Ф.