Жавжаров, Е. Л. Низкотемпературная кристаллизация тонких пленок Ni под воздействием атомарного водорода [Текст] / Е. Л. Жавжаров, Г. А. Бялик, В. М. Матюшин // Письма в Журнал технической физики. - 2007. - Т. 33, вып: вып. 13. - С. 64-72 . - ISSN 0320-0116
Рубрики: Физика Газы и жидкости Кл.слова (ненормированные): низкотемпературная кристаллизация -- пленки никеля -- тонкие пленки -- никель -- атомарный водород Аннотация: Исследовано влияние атомарного водорода на электрофизические и структурные свойства тонких пленок никеля, полученных термическим вакуумным испарением на диэлектрические подложки. Образцы обрабатывались при температурах 300-310 K, давлении ~20 Pa и концентрации атомарного водорода ~10\{19\} m\{-3\}. Показано, что обработка пленок в среде атомарного водорода приводит к изменению их электрофизических и структурных параметров. Предложен механизм воздействия атомарного водорода на тонкие пленки, объясняющий результаты исследования. Доп.точки доступа: Бялик, Г. А.; Матюшин, В. М. |