Бурдовицин, В. А. Об электрической прочности ускоряющего промежутка плазменного источника электронов в форвакуумном диапазоне давлений [Текст] / В. А. Бурдовицин, М. Н. Куземченко, Е. М. Окс // Журнал технической физики. - 2002. - Т.72,N7 . - ISSN 0044-4642 Рубрики: Физика--электричество и магнетизм Кл.слова (ненормированные): плазменный источник электронов -- пробой -- электрическая прочность Аннотация: Представлены результаты определения условий потери электрической прочности ускоряющим промежутком плазменного источника электронов. Установлено, что в зависимости от размера отверстий в эмиссионном электроде и давления газа могут реализоваться два типа пробоя. Один из них возникает как результат зажигания низковольтного разряда между электродами ускоряющей системы. Другой тип обусловлен переключением основного разряда с анода на ускоряющий электрод Доп.точки доступа: Куземченко, М.Н.; Окс, Е.М. |
537 Б 912 Бурдовицин, В. А. Особенности формирования однородного ленточного пучка электронов плазменным источником в форвакуумной области давлений [Текст] / В. А. Бурдовицин, Ю. А. Бурачевский, Е. М. Окс, М. В. Федоров // Журнал технической физики. - 2004. - N 1. - Библиогр.: c. 107 (8 назв. ) . - ISSN 0044-4642
Рубрики: Физика--Электричество и магнетизм Кл.слова (ненормированные): электронные пучки -- плазма -- ленточные пучки Аннотация: Представлены результаты экспериментального исследования формирования электронного пучка ленточной конфигурации при отборе электронов из плазмы стационарного разряда с полым катодом в форвакуумной области давлений. Показано, что основная причина неравномерности распределения плотности тока обусловлена усилением локальной неоднородности концентрации эмиссионной плазмы обратным потоком ионов из ускоряющего промежутка. Учет данной особенности при создании системы извлечения пучка обеспечивает генерацию ленточного пучка с неравномерностью плотности тока по его длине менее 10%. Перейти: http: //www. ioffe. ru/journals/jtf/2004/01/ Доп.точки доступа: Бурачевский, Ю. А.; Окс, Е. М.; Федоров, М. В. |
Бурачевский, Ю. А. О предельном рабочем давлении плазменного источника электронов на основе разряда с полым катодом [Текст] / Ю. А. Бурачевский, В. А. Бурдовицин, А. В. Мытников, Е. М. Окс // Журнал технической физики. - 2001. - Т.71,N2. - Библиогр.: с. 50 (12 назв.) . - ISSN 0044-4642 Рубрики: Физика--Электричество и магнетизм Кл.слова (ненормированные): плазменный источник электронов -- электроннный пучок -- плазма -- рабочее давление -- полый катод Аннотация: Представлены результаты экспериментального исследования взаимосвязи параметров ускоряющего промежутка плазменного электронного источника и предельных значений давления газа и напряжения на этом промежутке. Установлено, что в присутствии электронного пучка электрическая прочность ускоряющего промежутка повышается Доп.точки доступа: Бурдовицин, В.А.; Мытников, А.В.; Окс, Е.М. |
537.525 Д 182 Данилишин, Д. Г. Распространение плазмы в эмиссионном канале анодного электрода плазменного источника электронов [Текст] / Д. Г. Данилишин, В. А. Бурдовицин, Ю. А. Бурачевский, Е. М. Окс // Известия вузов. Физика. - 2001. - Т.44,N5. - Библиогр.: с.32 (9 назв.) . - ISSN 0021-3411
Кл.слова (ненормированные): плазма -- тлеющий разряд -- анод Аннотация: Проведены исследования процесса распространения плазмы в протяженном канале, анодного электрода разрядной системы тлеющего разряда, возбуждаемого в форвакуумной области давлений. Предложена физическая модель проникновения плазмы, основанная на дрейфово-диффузионном движении заряженных частиц. Результаты численного моделировани сравниваются с экспериментом Доп.точки доступа: Бурдовицин, В.А.; Бурачевский, Ю.А.; Окс, Е.М. |
537.533 Б 912 Бурачевский, Ю. А. Генерация электронных пучков в форвакуумной области давлений [Текст] / Ю. А. Бурачевский, В. А. Бурдовицин [и др.] // Известия вузов. Физика. - 2001. - Т.44,N9. - Библиогр.: с.89 (10 назв.). - Плазменная эмиссионная электроника (тематический выпуск) . - ISSN 0021-3411
Кл.слова (ненормированные): электронные пучки -- разряды -- плазма -- пробой Аннотация: В настоящей статье излагаются результаты исследований по получению электронных пучков в области давлений газа 0,01-0,1 Торр. Этот диапазон давлений достижим применением только механических средств откачки, что и обусловило интерес к проблеме. Для генерации пучка использовался плазменный источник на основе разряда с полым катодом в сочетании с плоскопараллельным ускоряющим промежутком. Особенности эмиссии и ускорения электронов в указанной области давлений связаны с высокой вероятностью ионизации газа в ускоряющем промежутке и формированием потока ионов навстречу электронному пучку. Это вызывает снижение напряжения горения разряда, а также рост концентрации плазмы в области эмиссии. Установлены два типа пробоя ускоряющего промежутка: межэлектродный и в системе плазма - электрод. разработанная конструкция электронного источника позволила получать пучки цилиндрического сечения с токами до 1 а и энергией до 10 кэВ Доп.точки доступа: Бурдовицин, В.А.; Куземченко, М.Н.; Мытников, А.В.; Окс, Е.М. |
537.533 Б 912 Бурдовицин, В. А. Параметры "Плазменного листка", генерируемого ленточным электронным пучком в форвакуумной области давлений [Текст] / В. А. Бурдовицин, Е. М. Окс, М. В. Федоров // Известия вузов. Физика. - 2004. - N 3. - Библиогр.: С. 77 ( 10 назв. ) . - ISSN 0021-3411
Рубрики: Физика--Оптика Кл.слова (ненормированные): параметры плазменного листка -- плазменный листок -- ионизированные процессы Аннотация: Показано, что характер распеределения параметров образуемой плазмы обусловлен соответсвующим распределением плотности электронного тока по сечению пучка, а сами параметры существенно зависят также от давления газа и величины электромагнитного поля. Доп.точки доступа: Окс, Е. М.; Федоров, М. В. |
621.783 Б 91 Бурдовицин, В. А. Получение углеродных покрытий на стекле в плазме, генерируемой в области давлений 1-10 Па ленточным электронным пучком [] / В. А. Бурдовицин, Е. М. Окс, М. В. Федоров // Физика и химия обработки материалов. - 2005. - N 1. - С. 66-69 . - ISSN 0015-3214
Рубрики: Техника--Обработка материалов Кл.слова (ненормированные): углеродистые покрытия; стеклянные подложки; плазма; электронные пучки; ленточные электронные пучки; плазменные листы; плазмохимические реакции синтеза; упрочняющие покрытия; защитные покрытия Аннотация: Показана возможность осаждения на стеклянные подложки углеродистых покрытий в плазме, генерируемой в пропане в диапазоне давлений 2-5 Па электронным пучком ленточной конфигурации. Доп.точки доступа: Окс, Е. М.; Федоров, М. В. |
537 Ж 73 Жирков, И. С. Особенности формирования узкосфокусированных электронных пучков, генерируемых источником с плазменным катодом в форвакуумном диапазоне давлений [Текст] / И. С. Жирков, В. А. Бурдовицин, Е. М. Окс, И. В. Осипов // Журнал технической физики. - 2006. - Т. 76, N 6. - С. 106-110. - Библиогр.: c. 109-110 (15 назв. ) . - ISSN 0044-4642
Рубрики: Физика--Электричество и магнетизм Кл.слова (ненормированные): плазма; пучково-плазменные разряды; узкосфокусированные пучки; электронные пучки Аннотация: Представлены результаты экспериментального исследования формирования сфокусированного электронного пучка при отборе электронов из плазмы стационарного разряда с полым катодом в форвакуумной области давлений. На основании измерений энергетического спектра и диаметра электронного пучка, а также параметров и спектров излучения плазмы, возникающей при взаимодействии пучка с газом, сделан вывод о возникновении пучково-плазменного разряда, вызывающего ухудшение условий фокусировки пучка. Минимальная плотность тока в пучке, при которой появляется пучково-плазменный разряд, возрастает как с подъемом ускоряющего напряжения, так и с увеличением давления газа. Перейти: http://www.ioffe.rssi.ru/journals/jtf/2006/06/p106-110.pdf Доп.точки доступа: Бурдовицин, В. А.; Окс, Е. М.; Осипов, И. В. |
537 Ж 73 Жирков, И. С. Инициирование разряда в плазменном источнике электронов с полым катодом [Текст] / И. С. Жирков, В. А. Бурдовицин, Е. М. Окс, И. В. Осипов // Журнал технической физики. - 2006. - Т. 76, N 10. - С. 128-131. - Библиогр.: c. 131 (8 назв. ) . - ISSN 0044-4642
Рубрики: Физика--Электричество и магнетизм Кл.слова (ненормированные): инициирование разряда; плазменные источники электронов; плазмообразующие разряды; полые катоды; тлеющие разряды Аннотация: Представлены результаты экспериментального исследования инициирования разряда с полым катодом в плазменном источнике электронов. Инициирование осуществлялось за счет потока ионов из ускоряющего промежутка в разрядную область. Источником ионного потока был высоковольтный тлеющий разряд, возникающий в ускоряющем промежутке при давлении более 2 Pa и напряжении не менее 2 kV. Показано, что увеличение коэффициента ионно-электронной эмиссии катода, достигаемой выбором пары газ-металл, снижает минимальное пороговое значение ионного тока, необходимое для зажигания разряда при фиксированном разрядном напряжении. Перейти: http://www.ioffe.rssi.ru/journals/jtf/2006/10/p128-131.pdf Доп.точки доступа: Бурдовицин, В. А.; Окс, Е. М.; Осипов, И. В. |
621.3 Б 91 Бурдовицин, В. А. Источник электронов с плазменным катодом для генерации сфокусированного пучка в форвакуумном диапазоне давлений [Текст] / В. А. Бурдовицин, И. С. Жирков [и др.] // Приборы и техника эксперимента. - 2005. - N 6. - С. 66-68. - Библиогр.: с. 68 (11 назв. ) . - ISSN 0032-8162
Рубрики: Энергетика--Электротехника Кл.слова (ненормированные): электроны; плазменные катоды; сфокусированные пучки; плазма; диапазон давлений; полые катоды Аннотация: Приведены результаты исследований возможности генерации плазменным источником сфокусированного пучка электронов в форвакуумной области давлений. Доп.точки доступа: Жирков, И. С.; Окс, Е. М.; Осипов, И. В.; Федоров, М. В. |
537 Ж 732 Жирков, И. С. О влиянии продольного магнитного поля в ускоряющем промежутке на предельные параметры плазменного источника электронов в форвакуумной области давлений [Текст] / И. С. Жирков, В. А. Бурдовицин, Е. М. Окс // Журнал технической физики. - 2007. - Т. 77, N 9. - С. 115-119. - Библиогр.: c. 119 (7 назв. ) . - ISSN 0044-4642
Рубрики: Физика--Электричество и магнетизм Кл.слова (ненормированные): источники электронов; магнитные поля; плазма; плазменные источники электронов; продольные магнитные поля; ток эмиссии; электронные источники; электронные пучки; эмиссионный ток Аннотация: Представлены результаты исследований особенностей влияния продольного магнитного поля в ускоряющем промежутке на ток эмиссии, ускоряющее напряжение и максимальное рабочее давление газа для плазменного источника электронов, генерирующего непрерывный электронный пучок в форвакуумном диапазоне давлений. Показано, что создание магнитного поля в области формирования электронного пучка обусловливает стабилизацию эмиссионной границы плазмы, проникающей в ускоряющий промежуток, и таким образом обеспечивает существенное улучшение параметров источника электронов. Перейти: http://www.ioffe.ru/journals/jtf/2007/09/p115-119.pdf Доп.точки доступа: Бурдовицин, В. А.; Окс, Е. М. |
537.533 К 492 Климов, А. С. Локализация плазмы в протяженном полом катоде плазменного источника ленточного электронного пучка в форвакуумной области давлений [Текст] / А. С. Климов, В. А. Бурдовицин, Е. М. Окс // Известия вузов. Физика. - 2007. - Т. 50, N 6. - С. 3-9. - Библиогр.: c. 9 (13 назв. ) . - ISSN 0021-3411
Рубрики: Физика Электричество и магнетизм Кл.слова (ненормированные): ленточный электронный пучок -- локализация плазмы -- модель образования неоднородности в полом катоде -- плазма -- плазменный источник ленточного электронного пучка -- полый катод -- протяженный полый катод -- форвакуумная область давлений -- щелевидная апертура -- электронный пучок Аннотация: Представлены результаты исследования распределения плотности плазмы в щелевидной апертуре протяженного полого катода прямоугольной формы, применяемого в плазменном источнике ленточного электронного пучка, функционирующего в форвакуумной области давлений (1-10 Па). Показано, что при уменьшении ширины щели в некоторой области щелевидной апертуры возникает локальный максимум плотности плазмы. При формировании ленточного пучка это становится причиной появления участка с повышенной плотностью тока. Неоднородность плотности тока пучка усиливается за счет обратного ионного потока, степень влияния которого на эмиссионные свойства плазмы оказывается существенной в области повышенных давлений. Предложена модель образования неоднородности в полом катоде, основанная на представлении о преимущественном протекании электронного тока на участках щелевидной апертуры, определяемых локальным раскрытием ионных оболочек катодного слоя. Доп.точки доступа: Бурдовицин, В. А.; Окс, Е. М. |
Использование разряда с неоднородным протяженным полым катодом для повышения плотности тока в форвакуумном плазменном источнике ленточного пучка электронов [Текст] / А. С. Климов [и др. ] // Журнал технической физики. - 2008. - Т. 78, N 4. - С. 43-46. - Библиогр.: c. 46 (15 назв. ) . - ISSN 0044-4642
Рубрики: Физика Электронные и ионные явления. Физика плазмы Кл.слова (ненормированные): электронные источники -- плазма -- электронные пучки -- ленточные пучки электронов -- полые катоды -- разрядные системы Аннотация: Представлены результаты измерений параметров плазмы и эмиссионных характеристик источника ленточного электронного пучка на основе разряда с неоднородным протяженным полым катодом. Наличие узкой части в катодной полости привело к повышению концентрации плазмы вблизи ее эмиссионной границы, что обеспечило увеличение плотности электронного тока в пучке. Причина указанного эффекта состоит в формировании неоднородного поперек полости распределения плотности плазмы с максимумом посередине. Наличие этого максимума обусловлено, в свою очередь, потоком плазменных электронов из узкой части, который вызван электрическим полем и направлен в сторону щелевидной эмиссионной апертуры. Доп.точки доступа: Климов, А. С.; Бурачевский, Ю. А.; Бурдовицин, В. А.; Окс, Е. М. |
Бурдовицин, В. А. О возможности электронно-лучевой обработки диэлектриков плазменным источником электронов в форвакуумной области давлений [Текст] / В. А. Бурдовицин, А. С. Климов, Е. М. Окс // Письма в "Журнал технической физики". - 2009. - Т. 35, вып: вып. 11. - С. 61-66 : ил. - Библиогр.: с. 66 (6 назв. ) . - ISSN 0320-0116
Рубрики: Физика Электричество и магнетизм в целом Кл.слова (ненормированные): электронно-лучевая обработка -- диэлектрики -- плазменные источники -- электронные пучки -- плазма -- форвакуумная область давлений -- непроводящие материалы -- керамические материалы Аннотация: На основе измерений потенциала изолированной мишени при облучении ее электронным пучком, генерируемым плазменным источником электронов в форвакуумной области давлений 5-15 Pa, показано, что в этих условиях плазма, образующаяся в области транспортировки электронного пучка, обусловливает практически полную нейтрализацию зарядки изолированной мишени. Отмеченная особенность обеспечивает возможность непосредственной электронно-лучевой обработки непроводящих материалов, в том числе плавки и сварки керамических материалов. Доп.точки доступа: Климов, А. С.; Окс, Е. М. |
Электронно-лучевая обработка керамики [Текст] / А. В. Медовник [и др. ] // Физика и химия обработки материалов. - 2010. - N 3. - С. 39-44 . - ISSN 0015-3214
Рубрики: Химическая технология Керамические изделия Кл.слова (ненормированные): плазменные катоды -- форвакуум -- электронные источники -- обработка диэлектриков -- диэлектрики -- электронно-лучевая обработка -- ток ионов -- мишени -- электронно-лучевая плавка -- диэлектрические мишени -- заряды -- керамические материалы -- сварка -- вакуумные камеры Аннотация: Показана возможность компенсации накопленного в диэлектрической мишени заряда при электронно-лучевой обработке в форвакууме за счет тока ионов, образующихся в объемном разряде между отрицательно заряженной поверхностью мишени и заземленными стенками вакуумной камеры. Продемонстрирована возможность электронно-лучевой плавки и сварки керамических материалов. Доп.точки доступа: Медовник, А. В.; Бурдовицин, В. А.; Климов, А. С.; Окс, Е. М. |
Медовник, А. В. Формирование импульсного электронного пучка в системе с плазменным катодом в форвакуумной области давлений [Текст] / А. В. Медовник, В. А. Бурдовицин, Е. М. Окс // Известия вузов. Физика. - 2010. - Т. 53, N 2. - С. 27-32. - Библиогр.: c. 31-32 (14 назв. ) . - ISSN 0021-3411
Рубрики: Физика Движение заряженных частиц в электрических и магнитных полях Кл.слова (ненормированные): импульсные электронные пучки -- импульсный режим -- обратные ионные потоки -- плазменные катоды -- пробой ускоряющего промежутка -- форвакуумная область давлений Аннотация: Представлены результаты экспериментального исследования особенностей формирования импульсных пучков плазменным источником электронов, функционирующим в форвакуумной области давлений (5-15 Па). Для этой области давлений на эмиссионные свойства плазмы оказывает влияние обратный ионный поток, генерируемый в областях формирования и транспортировки электронного пучка. Показано, что отношение тока обратных ионов к току электронного пучка может достигать 10, что на порядок величины превышает аналогичный параметр для электронных пучков, функционирующих в традиционном для таких устройств диапазоне давлений 0, 01-0, 1 Па. Проанализированы основные причины, ограничивающие сверху ток пучка в источнике с плазменным катодом. Доп.точки доступа: Бурдовицин, В. А.; Окс, Е. М. |
533.9 Р 249 Расширение рабочего диапазона форвакуумных плазменных источников электронов в область более высоких давлений [Текст] / В. А. Бурдовицин [и др.] // Журнал технической физики. - 2012. - Т. 82, № 8. - С. 62-66. - Библиогр.: c. 66 (9 назв. ) . - ISSN 0044-4642
Рубрики: Физика Электронные и ионные явления. Физика плазмы Кл.слова (ненормированные): плазменные источники электронов -- форвакуумные источники электронов -- электронные источники -- рабочее давление -- электронные пучки -- тлеющие разряды -- ВТР -- высоковольтные тлеющие разряды Аннотация: Показано, что в форвакуумном плазменном источнике электронов повышение рабочего давления ограничено доминированием в электронном пучке компонента тока, возникающего в ускоряющем промежутке за счет высоковольтного тлеющего разряда (ВТР). Для электронных источников такого типа расширение рабочего диапазона давления в область более высоких значений возможно при создании специальных условий, ограничивающих ток ВТР в ускоряющем промежутке. Перейти: http://journals.ioffe.ru/jtf/2012/08/p62-66.pdf Доп.точки доступа: Бурдовицин, В. А.; Гореев, А. К.; Климов, А. С.; Зенин, А. А.; Окс, Е. М. |
537.311.33 П 641 Потенциал диэлектрической мишени при ее облучении импульсным электронным пучком в форвакуумной области давлений [Текст] / В. А. Бурдовицин [и др.] // Журнал технической физики. - 2012. - Т. 82, № 10. - С. 103-108. - Библиогр.: c. 108 (10 назв. ) . - ISSN 0044-4642
Рубрики: Физика Физика полупроводников и диэлектриков Кл.слова (ненормированные): диэлектрические мишени -- электронные пучки -- электронное облучение -- форвакуумная область давлений -- непроводящая керамика -- керамика -- керамические мишени -- потенциал диэлектрических мишеней -- отрицательный потенциал -- численное моделирование -- инжектированный заряд -- инжектированные электроны Аннотация: Показано, что в форвакуумной области давлений (5-15 Pa) в процессе облучения непроводящей керамики электронным пучком потенциал поверхности керамики, хотя и остается отрицательным, но его абсолютная величина оказывается много меньше энергии ускоренных электронов. Определены факторы, влияющие на величину отрицательного потенциала непроводящей керамической мишени. На основе численного моделирования анализируется эволюция в керамике инжектированного заряда. Перейти: http://journals.ioffe.ru/jtf/2012/10/p103-108.pdf Доп.точки доступа: Бурдовицин, В. А.; Медовник, А. В.; Окс, Е. М.; Скробов, Е. В.; Юшков, Ю. Г. |
666.29 О-754 Особенности плавления керамики под воздействием электронного пучка [Текст] / Е. В. Скробов [и др.] // Физика и химия обработки материалов. - 2011. - N 5. - С. 10-15 . - ISSN 0015-3214
Рубрики: Химическая технология Керамические изделия Кл.слова (ненормированные): электронно-лучевое плавление -- алюмооксидная керамика -- технический фарфор -- расчет температурного поля -- нестационарное уравнение теплопроводности -- электронные пучки -- керамические материалы Аннотация: Экспериментально и теоретически исследован процесс плавления непроводящей керамики при облучении сфокусированным электронным пучком. Предложена модель расчета температурного поля в облученном керамическом материале. Показано, что повышение глубины оплавления керамики h сопровождается расширением диаметра d расплавленной области, при этом тепловые свойства керамики приводят к неравенству h Доп.точки доступа: Скробов, Е. В.; Бурдовицин, В. А.; Гореев, А. К.; Климов, А. С.; Окс, Е. М. |
537.533/.534 Г 340 Генерация стационарных электронных пучков форвакуумным плазменным источником в области давлений 100 Pa / А. А. Зенин [и др.] // Письма в "Журнал технической физики". - 2013. - Т. 39, вып. 10. - С. 9-14 : ил. - Библиогр.: с. 14 (7 назв.) . - ISSN 0320-0116
Рубрики: Физика Движение заряженных частиц в электрических и магнитных полях Кл.слова (ненормированные): электронные пучки -- стационарные характеристики -- генерирование электронных пучков -- плазменные источники -- форвакуумные источники -- повышенное давление -- электрическая прочность -- ионы -- возвратные потоки -- высоковольтные разряды -- электронные системы -- геометрия состояний Аннотация: Показано, что при повышении давления газа в форвакуумном плазменном источнике электронов нарушение электрической прочности ускоряющего промежутка (пробой промежутка) обусловлено влиянием обратного потока ионов из плазмы, генерируемой как электронным пучком, так и высоковольтным тлеющим разрядом (ВТР). Модернизация геометрии электродной системы ускоряющего промежутка электронного источника позволила снизить в 2-3 раза ток ВТР и обеспечила повышение верхнего предела рабочих давлений источника до 100 Pa при использовании в качестве рабочего газа воздуха и до 160 Pa-гелия. Перейти: http://journals.ioffe.ru/pjtf/2013/10/p9-14.pdf Доп.точки доступа: Зенин, А. А.; Климов, А. С.; Бурдовицин, В. А.; Окс, Е. М. |