Бурдовицин, В. А. Об электрической прочности ускоряющего промежутка плазменного источника электронов в форвакуумном диапазоне давлений [Текст] / В. А. Бурдовицин, М. Н. Куземченко, Е. М. Окс // Журнал технической физики. - 2002. - Т.72,N7 . - ISSN 0044-4642 Рубрики: Физика--электричество и магнетизм Кл.слова (ненормированные): плазменный источник электронов -- пробой -- электрическая прочность Аннотация: Представлены результаты определения условий потери электрической прочности ускоряющим промежутком плазменного источника электронов. Установлено, что в зависимости от размера отверстий в эмиссионном электроде и давления газа могут реализоваться два типа пробоя. Один из них возникает как результат зажигания низковольтного разряда между электродами ускоряющей системы. Другой тип обусловлен переключением основного разряда с анода на ускоряющий электрод Доп.точки доступа: Куземченко, М.Н.; Окс, Е.М. |
Бурачевский, Ю. А. О предельном рабочем давлении плазменного источника электронов на основе разряда с полым катодом [Текст] / Ю. А. Бурачевский, В. А. Бурдовицин, А. В. Мытников, Е. М. Окс // Журнал технической физики. - 2001. - Т.71,N2. - Библиогр.: с. 50 (12 назв.) . - ISSN 0044-4642 Рубрики: Физика--Электричество и магнетизм Кл.слова (ненормированные): плазменный источник электронов -- электроннный пучок -- плазма -- рабочее давление -- полый катод Аннотация: Представлены результаты экспериментального исследования взаимосвязи параметров ускоряющего промежутка плазменного электронного источника и предельных значений давления газа и напряжения на этом промежутке. Установлено, что в присутствии электронного пучка электрическая прочность ускоряющего промежутка повышается Доп.точки доступа: Бурдовицин, В.А.; Мытников, А.В.; Окс, Е.М. |
Коваль, Н. Н. Наноструктурирование поверхности металлокерамичесих и керамических материалов при импульсной электронно-пучковой обработке [Текст] / Н. Н. Коваль, Ю. Ф. Иванов // Известия вузов. Физика. - 2008. - Т. 51, N 5. - С. 60-70. - Библиогр.: с. 70 (32 назв. ) . - ISSN 0021-3411
Рубрики: Техника Технология металлов Металловедение в целом Материаловедение Кл.слова (ненормированные): импульсная электронно-пучковая обработка -- керамические материалы -- металлокерамические материалы -- наноструктурирование -- плазменный источник электронов Аннотация: Рассмотрен электронный источник, генерирующий низкоэнергетический пучок диаметром 1-3 см с током до 300 А, длительностью импульса 50-200 мкс и частотой повторения импульсов до 1О Гц в газонаполненном диоде с сетчатым плазменным катодом при ускоряющем напряжении до 25 кВ. Пучок транспортируется в продольном импульсном магнитном поле на расстояние до 30 см в область его взаимодействия с твердым телом. При плотностях тока до 100 А/см{2} пучок обеспечивает плотность мощности 10-100 Дж/см{2}, достаточную для плавления поверхностей металлов и сплавов, композиционных (металлокерамических) материалов в течение одного или нескольких импульсов. Это позволяет использовать пучок с целью модификации поверхности материалов и изделий. Методами оптической, сканирующей и дифракционной электронной микроскопии, рентгеноструктурного анализа, путем проведения элементного анализа, построения профиля микро- и нанотвердости, выявления степени шероховатости поверхности обработки проведены исследования фазового состава и состояния дефектной субструктуры материалов, подвергнутых обработке импульсным низкоэнергетическим электронным пучком пучком субмиллисекундной длительности. Выявлено формирование субмикро- и нанокристаллической много-фазной структуры, позволяющей кратно увеличивать физико-механические и трибологические характеристики материала. Доп.точки доступа: Иванов, Ю. Ф. |