Селективность ацилирования этаноламинов (мет) акрилоилхлоридами [Текст] / Я. И. Эстрин [и др. ] // Журнал прикладной химии. - 2008. - Т. 81, вып: вып. 1. - С. 140-147. - Библиогр.: с. 147 (17 назв. ) . - ISSN 0044-4618
Рубрики: Химия Органическая химия Кл.слова (ненормированные): (мет) акрилоилхлориды -- N, N-бис (2-гидроксиэтил) амин -- N-метил-2- (гидроксиэтил) амин -- акриламиды -- ацилирование -- ацилированные производные -- гидроксиалкильные группы -- Михаэля реакция -- низкотемпературная кристаллизация -- реакция Михаэля -- температура плавления -- хлорангидрид акриловой кислоты -- хлорангидрид метакриловой кислоты Аннотация: Изучена селективность реакции в направлении N-ацилирования при взаимодействии мономеров семейства акриламидов. Доп.точки доступа: Эстрин, Я. И.; Комратова, В. В.; Эстрина, Г. А.; Лодыгина, В. П.; Розенберг, Б. А. |
Жавжаров, Е. Л. Низкотемпературная кристаллизация тонких пленок Ni под воздействием атомарного водорода [Текст] / Е. Л. Жавжаров, Г. А. Бялик, В. М. Матюшин // Письма в Журнал технической физики. - 2007. - Т. 33, вып: вып. 13. - С. 64-72 . - ISSN 0320-0116
Рубрики: Физика Газы и жидкости Кл.слова (ненормированные): низкотемпературная кристаллизация -- пленки никеля -- тонкие пленки -- никель -- атомарный водород Аннотация: Исследовано влияние атомарного водорода на электрофизические и структурные свойства тонких пленок никеля, полученных термическим вакуумным испарением на диэлектрические подложки. Образцы обрабатывались при температурах 300-310 K, давлении ~20 Pa и концентрации атомарного водорода ~10\{19\} m\{-3\}. Показано, что обработка пленок в среде атомарного водорода приводит к изменению их электрофизических и структурных параметров. Предложен механизм воздействия атомарного водорода на тонкие пленки, объясняющий результаты исследования. Доп.точки доступа: Бялик, Г. А.; Матюшин, В. М. |