535-31 А 527 Алтухов, А. А. Матричные фоточувствительные элементы ультрафиолетового диапазона на основе алмаза [Текст] / А. А. Алтухов, А. М. Клочкова, А. Ю. Митягин, Г. А. Орлова // Радиотехника и электроника. - 2008. - Т. 53, N 8. - С. 994-998. - Библиогр.: с. 998 (10 назв. ) . - ISSN 0033-8494
Рубрики: Физика Ультрафиолетовые лучи Кл.слова (ненормированные): фоточувствительные элементы -- ультрафиолетовые диапазоны -- спектральные измерения -- вольт-амперные характеристики Аннотация: Рассмотрены принципы построения и технология создания матричных фотоприемных устройств ультрафиолетового излучения на основе алмаза. Проведены измерения спектральных, вольт-амперных характеристик, темновых токов утечки при различных прикладываемых напряжениях для линейных (2 х 64) и матричных (64 х 64) фотоприемных устройств. Впервые показана принципиальная возможность создания таких структур, обладающих высокой чувствительностью. Показано, что поверхностные токи утечки играют доминирующую роль в ограничении фоточувствительности данных структур. Обнаружен значительный разброс темнового тока и фототока матричных фотоприемников на основе натурального алмаза, связанных с неоднородностью дефектной структуры. Доп.точки доступа: Клочкова, А. М.; Митягин, А. Ю.; Орлова, Г. А. |
Одно- и двухбарьерные эксилампы ВУФ диапазона на димерах ксенона [Текст] / М. И. Ломаев [и др. ] // Журнал технической физики. - 2008. - Т. 78, N 2. - С. 103-107. - Библиогр.: c. 107 (20 назв. ) . - ISSN 0044-4642
Рубрики: Физика Ультрафиолетовые лучи Кл.слова (ненормированные): эксилампы -- источники спонтанного излучения -- импульсно-периодические разряды -- электрические разряды -- ксенон -- газоразрядная плазма -- димеры ксенона -- ультрафиолетовое излучение Аннотация: Представлены результаты экспериментальных исследований источников спонтанного излучения в ВУФ-области спектра на основе одно- и двухбарьерного импульсно-периодического разряда в ксеноне. Приведены характерные осциллограммы импульсов тока и напряжения разряда, вольт-кулоновские фигуры, а также расчетные кривые падения напряжения на газоразрядной плазме, мощности и энергии возбуждения как функции времени. Получены зависимости мощности излучения от давления ксенона, частоты следования импульсов возбуждения и средней мощности возбуждения. Значения средней плотности мощности излучения составили ~20-30 mW/cm{2} для однобарьерных и ~40 mW/cm{2} для двухбарьерных эксиламп. Доп.точки доступа: Ломаев, М. И.; Скакун, В. С.; Тарасенко, В. Ф.; Шитц, Д. В. |
Расчет поглощения, отражения, пропускания и деполяризации излучения УФ-диапазона для слоя суспензии наночастиц диоксида титана [Текст] / А. П. Попов [и др. ] // Вестник Московского университета. Сер. 3. Физика. Астрономия. - 2009. - N 5. - С. 39-43. - Библиогр.: c. 43 (16 назв. ) . - ISSN 0201-7385
Рубрики: Физика Ультрафиолетовые лучи Кл.слова (ненормированные): TiO -- диоксид титана -- матрица Мюллера -- Мюллера матрица -- наночастицы диоксида титана -- оптические свойства -- ослабление ультрафиолетового облучения -- поляризация -- ультрафиолетовое излучение -- УФ-излучения Аннотация: С помощью численного моделирования методом Монте-Карла и привлечения теории рассеяния Ми найдены наиболее эффективные для ослабления и деполяризации ультрафиолетового излучения размеры наночастиц диоксида титана, взвешенных в слое прозрачной среды, в диапазоне диаметров 30-200 нм для длин волн 288-400 нм. Доп.точки доступа: Попов, А. П.; Приезжев, А. В.; Федосеева, М. С.; Ладеман, Ю.; Мюллюля, Р. |
Эксиплексная лампа на парогазовой смеси Kr-KCl [Текст] / М. С. Кленовский [и др. ] // Журнал технической физики. - 2009. - Т. 79, N 7. - С. 81-84. - Библиогр.: c. 84 (6 назв. ) . - ISSN 0044-4642
Рубрики: Физика Ультрафиолетовые лучи Кл.слова (ненормированные): эксиплексная лампа -- источники УФ-излучения -- эксилампы -- высоковольтные разряды -- ультрафиолетовое излучение -- парогазовые смеси Аннотация: Создан источник УФ-излучения (эксилампа) на основе парогазовой смеси Kr-KCl, возбуждаемой в продольном высоковольтном импульсно-периодическом разряде. Изучен эмиссионный спектр и временные характеристики излучения разряда. Доминирующим в спектре излучения источника является переход B-> X эксимерной молекулы KrCl* (lambda=222 nm). Исследованы зависимости импульсной мощности излучения лампы от различных параметров разряда, обсуждается механизм образования B-состояния эксимерной молекулы. Доп.точки доступа: Кленовский, М. С.; Рийвес, Р. Б.; Кельман, В. А.; Жменяк, Ю. В.; Шпеник, Ю. О. |
Ультрафиолетовые источники излучения на парах воды (H[2]O, D[2]O) [Текст] / А. К. Шуаибов [и др. ] // Журнал технической физики. - 2009. - Т. 79, N 8. - С. 153-155. - Библиогр.: c. 155 (7 назв. ) . - ISSN 0044-4642
Рубрики: Физика Ультрафиолетовые лучи Кл.слова (ненормированные): ультрафиолетовые источники излучения -- импульсно-периодические разряды -- ультрафиолетовое излучение -- источники ультрафиолетового излучения -- пары воды Аннотация: Представлены эмиссионные характеристики ультрафиолетового излучения на парах воды (H[2]O, D[2]O и смеси паров H[2]O, D[2]O), который возбуждался при помощи продольных импульсно-периодических разрядов с открытыми электродами и электродами, вынесенными за пределы разрядной трубки (емкостной разряд). Исследовано излучение в спектральном диапазоне 175-350 nm. Приведены эмиссионные характеристики ультрафиолетового источника излучения на основе паров обычной и "тяжелой" воды, а также результаты оптимизации яркости излучения полос радикалов OH и OD в зависимости от давления и состава смесей He-H[2]O и He-D[2]O. Доп.точки доступа: Шуаибов, А. К.; Генерал, А. А.; Шпеник, Ю. О.; Жменяк, Ю. В.; Шевера, И. В.; Грицак, Р. В. |
Выходные характеристики и параметры плазмы газоразрядного ультрафиолетового излучателя низкого давления, работающего на смесях гелий-иод и ксенон-иод [Текст] / А. К. Шуаибов [и др. ] // Журнал технической физики. - 2009. - Т. 79, N 12. - С. 95-96. - Библиогр.: c. 95-96 (19 назв. ) . - ISSN 0044-4642
Рубрики: Физика Ультрафиолетовые лучи Электронные и ионные явления. Физика плазмы Кл.слова (ненормированные): плазма -- газоразрядные ультрафиолетовые излучатели -- источники ультрафиолетового узлучения -- тлеющие разряды -- ультрафиолетовое излучение -- эксиплексно-галогенные УФ-излучатели Аннотация: Приведены выходные характеристики и параметры плазмы мощного газоразрядного источника ультрафиолетового (УФ) излучения, который работает на смесях He-I[2], Xe-I[2] и возбуждается продольным тлеющим разрядом. Давление газовых смесей варьировалось в диапазоне 100-1500 Pa, а электрическая мощность разряда находилась в диапазоне 15-250 W. Лампа излучала в спектральном диапазоне 200-390 nm на спектральной линии атома иода - 206. 2 nm, полосе 253 nm XeI (B-X) и полосе с максимумом 342 nm I[2]*. Для смесей He (Xe) -I[2] с давлением 800-100 Pa, близким, по данным нашего эксперимента, к оптимальному, выполнены расчеты функций распределения электронов по энергии и электронных кинетических коэффициентов в зависимости от параметра E/N (E - напряженность электрического поля; N - концентрация частиц в разряде). Расчетные параметры плазмы позволили провести качественный анализ наиболее важных электронных процессов в плазме эксиплексно-галогенного УФ-излучателя и будут в дальнейшем использоваться при численном моделировании кинетики процессов и выходных характеристик УФ-излучателя на смесях гелия или ксенона с молекулами иода. Доп.точки доступа: Шуаибов, А. К.; Грабовая, И. А.; Гомоки, З. Т.; Калюжная, А. Г.; Щедрин, А. И. |
Исследование динамического скачка давления в эксилампах барьерного разряда [Текст] / В. М. Цветков [и др. ] // Журнал технической физики. - 2010. - Т. 80, N 6. - С. 53-57. - Библиогр.: c. 57 (9 назв. ) . - ISSN 0044-4642
Рубрики: Физика Электронные и ионные явления. Физика плазмы Ультрафиолетовые лучи Кл.слова (ненормированные): эксилампы -- эксилампы барьерного разряда -- барьерные разряды -- скачки давления -- мощность излучения -- ультрафиолетовое излучение -- УФ-излучение Аннотация: Данные о скачке давления использованы для исследования термодинамических процессов в эксилампах барьерного разряда при диффузном (однородном) разряде и в режимах с микроразрядами. Показано, что линейная зависимость между скачком давления и интенсивностью излучения эксилампы может служить для контроля мощности излучения. Доп.точки доступа: Цветков, В. М.; Пикулев, А. А.; Соснин, Э. А.; Авдеев, С. М.; Тарасенко, В. Ф. |
Ультрафиолетовая газоразрядная лампа на молекулах иода [Текст] / А. К. Шуаибов [и др. ] // Журнал технической физики. - 2010. - Т. 80, N 8. - С. 149-152. - Библиогр.: c. 152 (12 назв. ) . - ISSN 0044-4642
Рубрики: Физика Электронные и ионные явления. Физика плазмы Ультрафиолетовые лучи Кл.слова (ненормированные): ультрафиолетовые газоразрядные лампы -- газоразрядные лампы -- молекулы иода -- молекулы иодида ксенона -- атомы иода -- источники ультрафиолетового излучения -- импульсно-периодические источники излучения -- емкостные разряды -- импульсно-периодические разряды -- плазма -- излучение плазмы Аннотация: Приведены результаты исследования эмиссионных характеристик импульсно-периодического ультрафиолетового источника излучения, который возбуждался при помощи импульсно-периодического емкостного разряда на смесях гелия, неона и критона с парами иода в спектральном диапазоне 200-450 nm. Показано, что основная часть мощности излучения плазмы сконцентрирована в спектральной линии 206. 2 nm атома иода и D'-A'-полосе молекулы иода с максимумом при 342 nm. Проведена оптимизация яркости излучения лампы в зависимости от парциального давления инертных газов. Выполнены расчеты параметров плазмы разряда на смесях паров иода с атомами He и Xe, представляющие интерес для моделирования кинетики процессов и выходных характеристик УФ-излучателя на молекулах иода, иодида ксенона и атома иода. Доп.точки доступа: Шуаибов, А. К.; Миня, А. Й.; Гомоки, З. Т.; Калюжная, А. Г.; Щедрин, А. И. |
535-31 Б 404 Безртутный излучатель с накачкой импульсно-периодическим барьерным разрядом на молекулах фторида криптона [Текст] / А. К. Шуаибов [и др.] // Журнал технической физики. - 2012. - Т. 82, № 2. - С. 156-158. - Библиогр.: c. 158 (9 назв. ) . - ISSN 0044-4642
Рубрики: Физика Ультрафиолетовые лучи Радиоэлектроника Электровакуумные приборы Кл.слова (ненормированные): безртутные излучатели -- импульсно-периодические излучатели -- излучатели барьерного разряда -- барьерные разряды -- напряжение накачки -- ультрафиолетовые лампы -- фторид криптона -- элегаз -- плазма -- яркость излучения -- ультрафиолетовое излучение Аннотация: Приведены результаты исследования эмиссионных характеристик импульсно-периодического излучателя барьерного разряда короткой длительности, работающего на полосе lambda=248 nm KrF (X-B). Рабочей средой ультрафиолетовой лампы были малоагрессивные смеси криптона и элегаза при общем давлении в диапазоне 1-50 kPa и парциальном давлении элегаза 0. 1-0. 4 kPa. Приведены результаты исследования спектральных характеристик плазмы и оптимизации яркости излучения полосы 248 nm KrF (X-B) в зависимости от состава рабочей смеси, величины напряжения накачки и частоты следования импульсов. Выполнена оценка средней мощности ультрафиолетового излучения с боковой поверхности цилиндрической лампы. Перейти: http://journals.ioffe.ru/jtf/2012/02/p156-158.pdf Доп.точки доступа: Шуаибов, А. К.; Гомоки, З. Т.; Миня, А. И.; Шевера, И. В.; Джупина, Я. Ю. |
535-31 Б 408 Безэлектродный микроволновый источник ультрафиолетового излучения [Текст] / Э. М. Бархударов [и др.] // Журнал технической физики. - 2012. - Т. 82, № 6. - С. 153-155. - Библиогр.: c. 155 (8 назв. ) . - ISSN 0044-4642
Рубрики: Физика Ультрафиолетовые лучи Кл.слова (ненормированные): ультрафиолетовое излучение -- источники ультрафиолетового излучения -- безэлектродные микроволновые разряды -- микроволновые разряды -- безэлектродные лампы -- микроволновое излучение -- аргон -- ртуть -- обеззараживание воды -- магнетроны -- СВЧ-излучение -- сверхвысокочастотное излучение Аннотация: Приведены результаты исследований параметров безэлектродного микроволнового разряда низкого давления в Ar с парами Hg, а также представлена конструкция источника УФ-излучения для обеззараживания воды и его основные параметры. В качестве источника СВЧ-излучения использован магнетрон от бытовой СВЧ-печи (f=2. 45 GHz; N~1 kW). Максимальная мощность излучения УФ на длине волны lambda=254 nm составляла 120-130 W. Перейти: http://journals.ioffe.ru/jtf/2012/06/p153-155.pdf Доп.точки доступа: Бархударов, Э. М.; Козлов, Ю. Н.; Коссый, И. А.; Малых, Н. И.; Мисакян, М. А.; Тактакишвили, И. М.; Хомиченко, А. А. |
535-31 И 889 Исследование структуры и параметров луча KrF-эксимерного лазера [Текст] / Ю. М. Задиранов [и др.] // Журнал технической физики. - 2012. - Т. 82, № 12. - С. 72-78. - Библиогр.: c. 78 (4 назв. ) . - ISSN 0044-4642
Рубрики: Физика Ультрафиолетовые лучи Радиоэлектроника Квантовая электроника Кл.слова (ненормированные): лазеры -- эксимерные лазеры -- KrF-эксимерные лазеры -- ультрафиолетовые лазеры -- лазерные лучи -- ультрафиолетовое излучение -- тонкие структуры -- абляционные кратеры -- почернение термобумаги -- каустические поверхности -- распределение энергии по сечению -- люминесценция -- безаберрационные объективы -- фокальные пятна Аннотация: Распределение энергии по сечению луча ультрафиолетового KrF-эксимерного лазера с конфокальным неустойчивым резонатором измерено по люминесценции ультрафиолетового излучения на стекле. Обнаружена сложная тонкая структура луча. Двумя разными методами - по почернению термобумаги и по абляционным кратерам на поверхности стекла - выполнены измерения вблизи фокуса; показано, что упомянутая сложная структура сохраняется также и в районе перетяжки каустической поверхности. Оценки размеров поперечного сечения в этом месте заметно зависят от примененных методов измерения значения угла расходимости исходного луча, определенные разными способами, варьируют от 0. 3 до 0. 6-1. 3 mrad. При фокусировке с помощью специально сконструированного безаберрационного объектива удается получить фокальное пятно с линейными размерами в несколько десятков микрон. Перейти: http://journals.ioffe.ru/jtf/2012/12/p72-78.pdf Доп.точки доступа: Задиранов, Ю. М.; Калмыков, С. Г.; Сасин, М. Э.; Сердобинцев, П. Ю. |
533.9 Э 554 Эмиссионные характеристики импульсно-периодического барьерного разряда в смесях гелий-йод и аргон-йод [Текст] / А. К. Шуаибов [и др.] // Журнал технической физики. - 2011. - Т. 81, N 3. - С. 40-44. - Библиогр.: c. 44 (16 назв. ) . - ISSN 0044-4642
Рубрики: Физика Электронные и ионные явления. Физика плазмы Ультрафиолетовые лучи Кл.слова (ненормированные): барьерные разряды -- импульсно-периодические барьерные разряды -- ультрафиолетовое излучение плазмы -- ультрафиолетовое излучение барьерного разряда -- плазма барьерного разряда -- спектры излучения плазмы -- йод -- гелий -- аргон Аннотация: Приведены эмиссионные характеристики импульсно-периодического барьерного разряда с импульсами возбуждения субмикросекундной длительности (f=40-1000 Hz) в смесях He-I[2], Ar-I[2]. Исследование выполнено в спектральной области 200-400 nm при давлении рабочей среды 1-100 kPa и парциальном давлении паров йода 130-200 Pa. Проведена экспериментальная оптимизация ультрафиолетового (УФ) излучения плазмы барьерного разряда на полосе 342 nm I[2] (D'->A') и спектральной линии атома йода 206. 2 nm в зависимости от парциального давления гелия и аргона, частоты следования импульсов возбуждения и величины напряжения зарядки рабочей емкости модулятора коротких высоковольтных импульсов. Определен вклад спектральной линии излучения 206. 2 nm I* в суммарное УФ-излучение барьерного разряда. Перейти: http://journals.ioffe.ru/jtf/2011/03/p40-44.pdf Доп.точки доступа: Шуаибов, А. К.; Миня, А. И.; Гомоки, З. Т.; Шевера, И. В. |
533.9 Г 611 Головицкий, А. П. Моделирование газоразрядных источников ультрафиолетового излучения с тлеющим разрядом в смеси ксенона и хлора [Текст] / А. П. Головицкий // Журнал технической физики. - 2011. - Т. 81, N 3. - С. 55-64. - Библиогр.: c. 64 (14 назв. ) . - ISSN 0044-4642
Рубрики: Физика Электронные и ионные явления. Физика плазмы Ультрафиолетовые лучи Кл.слова (ненормированные): тлеющие разряды -- ультрафиолетовое излучение -- газоразрядные источники УФ-излучения -- ксенон -- хлор -- эксимерные молекулы -- галогениды инертных газов -- концентрация эксимерных молекул -- эксимерное ультрафиолетовое излучение -- диссоциация молекул хлора -- мощность излучения -- ток разрядов Аннотация: На основе разработанной модели произведены расчеты концентрации эксимерных молекул - галогенидов инертных газов - в положительном столбе тлеющего разряда в смеси газов, содержащей хлор. Модель позволяет количественно воспроизвести наблюдавшиеся в эксперименте зависимости мощности эксимерного ультрафиолетового излучения от разрядного тока в широком диапазоне составов и давлений газовой смеси, обеспечить удовлетворительное количественное соответствие расчетных и измеренных в эксперименте радиальных распределений концентраций электронов и эксимерных молекул, а также дать физическое объяснение наблюдавшимся в эксперименет зависимостям. Для этого, в отличие от существующих моделей, необходимо учитывать и саму диссоциацию молекул хлора электронным ударом, и ее радиальную неоднородность, а также радиальную неоднородность температуры газа. Перейти: http://journals.ioffe.ru/jtf/2011/03/p55-64.pdf |
535-31 О-110 О влиянии плотности паров иода на выходные характеристики ультрафиолетовой газоразрядной лампы низкого давления [Текст] / А. К. Шуаибов [и др.] // Журнал технической физики. - 2011. - Т. 81, N 8. - С. 153-155. - Библиогр.: c. 155 (8 назв. ) . - ISSN 0044-4642
Рубрики: Физика Ультрафиолетовые лучи Кл.слова (ненормированные): ультрафиолетовые газоразрядные лампы -- газоразрядные лампы низкого давления -- лампы тлеющего разряда -- пары иода -- иод -- гелий -- тлеющие разряды -- лампы ультрафиолетового излучения -- численное моделирование -- ультрафиолетовое излучение Аннотация: Приведены результаты исследования влияния плотности паров иода на выходные характеристики ультрафиолетовой лампы с накачкой продольным тлеющим разрядом, которая работала на смеси "гелий-иод" при ее общем давлении 100-1500 Pa. В спектральном диапазоне 320-360 nm основным было излучение полосы с максимумом при lambda=342 nm I[2] (D'-> A'), а в бактерицидной области превалировало излучение на атомарных линиях иода (183. 0, 206. 2 nm). Путем численного моделирования проведена оптимизация мощности лампы ультрафиолетового излучения в зависимости от парциального давления паров иода в рабочей смеси. Перейти: http://journals.ioffe.ru/jtf/2011/08/p153-155.pdf Доп.точки доступа: Шуаибов, А. К.; Гомоки, З. Т.; Калюжная, А. Г.; Щедрин, А. И. |
535-31 И 546 Импульсно-периодический ультрафиолетовый излучатель с перестройкой длины волны в области главного максимума поглощения молекулы ДНК [Текст] / А. К. Шуаибов [и др.] // Журнал технической физики. - 2011. - Т. 81, N 11. - С. 152-153. - Библиогр.: c. 153 (9 назв. ) . - ISSN 0044-4642
Рубрики: Физика Ультрафиолетовые лучи Кл.слова (ненормированные): импульсно-периодические лампы -- спектры излучения -- ультрафиолетовые излучатели -- импульсно-периодические ультрафиолетовые излучатели -- излучатели с перестройкой длины волны -- криптон -- элегаз -- фреон -- парциальное давление -- эксиплексные лампы Аннотация: Приведены спектральные характеристики в диапазоне 220-250 nm импульсно-периодической лампы с тремя диэлектрическими барьерами, которая работает на смесях криптона с молекулами элегаза и фреона (CCl[4]). Показано, что использование двух независимых объемов со смесями Kr-SF[6] и Kr-CCl[4] является более эффективным, чем тройной смеси Kr-SF[6]-CCl[4] с таким же парциальным составом Kr, SF[6], CCl[4]. Варьирование парциального давления галогеноносителей и криптона позволяет управлять спектром излучения лампы в области максимумов полос 248 nm KrF (X-B) и 222 nm KrCl (X-B). Перейти: http://journals.ioffe.ru/jtf/2011/11/p152-153.pdf Доп.точки доступа: Шуаибов, А. К.; Гомоки, З. Т.; Миня, А. И.; Шевера, И. В. |
669.017 М 744 Моделирование макроскопической локализации деформации в сплавах со сверхструктурой L1[2] [Текст] / В. А. Старенченко [и др.] // Известия вузов. Физика. - 2011. - Т. 54, № 8. - С. 47-57. - Библиогр.: c. 56-57 (33 назв. ) . - ISSN 0021-3411
Рубрики: Технология металлов Металловедение в целом Физика Ультрафиолетовые лучи Кл.слова (ненормированные): дислокации -- локализация деформации -- моделирование локализации пластической деформации -- пластическая деформация -- сплавы со сверхструктурой L1[2] Аннотация: Приведены результаты математического моделирования суперлокализации пластической деформации, учитывающего перераспределение дислокаций в дислокационные стенки. В основу модели положена концепция упрочнения и отдыха, в рамках которой построены уравнения, описывающие кинетику дислокаций и субструктурных превращений. Показано, что в зависимости от сценария развития модели деформации микрообъема деформируемого тела возможны разные типы локализации под воздействием концентраторов напряжений. Доп.точки доступа: Старенченко, В. А.; Соловьева, Ю. В.; Фахрутдинова, Я. Д.; Валуйская, Л. А. |
535-31 В 586 Влияние ультрафиолетового излучения на процессы "медленной" релаксации в сегнетоэлектрических конденсаторах [Текст] / А. Б. Козырев [и др.] // Письма в "Журнал технической физики". - 2011. - Т. 37, вып. 12. - С. 1-7 : ил. - Библиогр.: с. 6-7 (13 назв. ) . - ISSN 0320-0116
Рубрики: Физика Ультрафиолетовые лучи Энергетика Конденсаторы Кл.слова (ненормированные): сегнетоэлектрические конденсаторы -- излучение -- ультрафиолетовое излучение -- коротковолновое излучение -- ультрафиолетовые диапазоны -- мощность -- медленная релаксация -- процессы релаксации -- остаточная поляризация -- сегнетоэлектрические пленки -- параэлектрическое состояние -- экспериментальные данные -- время релаксации -- ток проводимости -- УФ-излучение -- механизм релаксации -- УФ-облучение -- ультрафиолетовое облучение Аннотация: Исследовано влияние коротковолнового излучения ультрафиолетового диапазона (lambda=340 nm) различной мощности (0. 001-0. 15 mW) на подавление процессов медленной релаксации остаточной поляризации в сегнетоэлектрических пленках Ba[x]Sr[1-x]TiO[3] в параэлектрическом состоянии. Представлены экспериментальные данные о времени релаксации емкости и токе проводимости сегнетоэлектрических конденсаторов под действием УФ-излучения. Обнаружен механизм релаксации с временем порядка 1 s, на который УФ-облучение не влияет. Перейти: http://journals.ioffe.ru/pjtf/2011/12/p1-7.pdf Доп.точки доступа: Козырев, А. Б.; Алтынников, А. Г.; Гагарин, А. Г.; Гайдуков, М. М. |
539.21:535 П 880 Пугачевский, М. А. УФ-спектр поглощения наночастиц диоксида титана, аблированных лазерным излучением [Текст] / М. А. Пугачевский // Письма в "Журнал технической физики". - 2012. - Т. 38, вып. 24. - С. 53-59 : ил. - Библиогр.: с. 58-59 (19 назв.) . - ISSN 0320-0116
Рубрики: Физика Оптические свойства твердых тел Ультрафиолетовые лучи Кл.слова (ненормированные): диоксид титана -- наночастицы -- спектры поглощения -- УФ-спектры -- ультрафиолетовые спектры -- ультрафиолетовое излучение -- УФ-излучение -- лазерное излучение -- лазерная абляция -- метод лазерной абляции -- анализ спектров -- частицы -- запрещенные зоны -- интенсивность излучения -- получение наночастиц -- отжиг частиц -- температура отжига -- дефекты Аннотация: Исследуются спектры поглощения ультрафиолетового (УФ) излучения наночастицами диоксида титана, полученные методом лазерной абляции. На основе анализа спектров определяется ширина запрещенной зоны частиц и влияние на нее различных факторов, таких как интенсивность лазерного излучения при получении наночастиц и температура последующего отжига частиц в печи. Обсуждается зависимость положения пиков на УФ-спектрах от типа дефектов в структуре наночастиц. Перейти: http://journals.ioffe.ru/pjtf/2012/24/p53-59.pdf |
535.317 Б 435 Белокопытов, Г. В. Сравнение характеристик изображения в проекционной фотолитографии [Текст] / Г. В. Белокопытов, авт. Ю. В. Рыжикова // Известия РАН. Серия физическая. - 2008. - Т. 72, N 1. - С. 88-91. - Библиогр.: c. 91 (6 назв. ) . - ISSN 0367-6765
Рубрики: Физика Ультрафиолетовые лучи Кл.слова (ненормированные): численное моделирование -- фотолитография -- критические размеры -- численная апертура -- круговая апертура -- когерентность -- проекционная фотолитография -- бинарная маска -- фазовая маска -- характеристики изображения Аннотация: Путем численного моделирования проведено сравнение характеристик изображений, создаваемых некоторыми типичными фотошаблонами. Рассмотрена методика оценки критических размеров элементов изображения. Доп.точки доступа: Рыжикова, Ю. В. |
616.1+616.4 З-232 Залесская, Галина Адамовна (доктор физико-математических наук; профессор). Фотомодификация крови in vivo терапевтическими дозами оптического излучения: зависимость от индивидуальных параметров оксигенации крови пациентов [Текст] / Г. А. Залесская // Биомедицинская радиоэлектроника. - 2012. - № 8. - С. 11-19 : 5 рис. - Библиогр.: с. 18 (18 назв.). - Реф. на англ. яз.
Рубрики: Здравоохранение. Медицинские науки Клиническая гематология Физика Ультрафиолетовые лучи Физическая оптика Кл.слова (ненормированные): фотомодификация -- венозная кровь -- терапевтические дозы -- оптическое излучение -- индивидуальные параметры -- оксигенация крови -- пациенты -- внутрисосудистое облучение -- гемоглобин -- кислород -- парциальное давление -- экстракорпоральное ультрафиолетовое облучение -- фотоиндуцированные изменения -- фотогемотерапия -- длины волн -- спектральные диапазоны -- активные формы кислорода -- антиоксидантные системы Аннотация: Показано, что внутрисосудистое облучение крови оптическим излучением, поглощаемым кровью, вызывает как изменения степени насыщения гемоглобина венозной крови кислородом, так и парциального давления кислорода крови. Продемонстрирована обратимость инициированных фототерапией изменений парциального давления кислорода, которое возрастало после облучения и уменьшалось к началу следующей процедуры до уровня близкого к исходному или ниже его. Сделаны выводы о том, что фотомодификация крови приводит к генерализации воздействия оптического излучения на организм. |