Ветошкин, В. М. Особенности ионно-лучевого травления кварца в среде хлорсодержащих газов [Текст] / В. М. Ветошкин, П. Н. Крылов // Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования. - 2009. - N 1. - С. 93-95
Рубрики: Физика Экспериментальные методы и аппаратура молекулярной физики Кл.слова (ненормированные): травление материалов -- газовая среда -- ионно-лучевое травление -- хлорсодержащие газы -- кварц -- оптические материалы -- фторсодержащие соединения Аннотация: Проведено моделирование процессов разложения CCl[4], SiCl[4], основанное на определении термодинамических характеристик реакций между материалом, подвергаемым травлению, и газовой средой. Исследованы особенности ионно-лучевого травления кварца в среде хлорсодержащих газов SiCl[4], CCl[4] и их смеси с кислородом. Определены оптимальные режимы, обеспечивающие высокие скорости травления кварца при использовании ионного источника “Радикал М-100”. Доп.точки доступа: Крылов, П. Н. |
544.4 К 413 Кинетика атомно-молекулярных реакций и концентрации нейтральных частиц в плазме HCI, его смесях с хлором и водородом [Текст] / А. М. Ефремов [и др.] // Известия вузов. Химия и химическая технология. - 2011. - Т. 54, вып. 1. - С. 36-39 : 2 рис. - Библиогр.: с. 39 (9 назв. ) . - ISSN 0579-2991
Рубрики: Химия Химическая кинетика Органическая химия в целом Кл.слова (ненормированные): кинетика реакций -- концентрация частиц -- низкотемпературные газоразрядные плазмы -- плазмы хлорсодержащих газов -- хлорсодержащие газы -- хлор -- водород -- атомно-молекулярные реакции Аннотация: Работа посвящена изучению механизмов физико-химических процессов, определяющих стационарные концентрации активных частиц плазмы и их потоки на обрабатываемую поверхность. Доп.точки доступа: Ефремов, А. М.; Светцов, В. И.; Юдина, А. В.; Лемехов, С. С. |
544 Е 924 Ефремов, А. М. Электрофизические параметры плазмы тлеющего разряда постоянного тока в смеси HCI/Ar [Текст] / А. М. Ефремов, А. В. Юдина, В. И. Светцов // Известия вузов. Химия и химическая технология. - 2011. - Т. 54, вып. 3. - С. 15-18 : 3 рис., 1 табл. - Библиогр.: с. 18 (10 назв. ) . - ISSN 0579-2991
Рубрики: Химия Физическая химия в целом Кл.слова (ненормированные): начальный состав смесей -- плазмы тлеющего разряда -- хлорсодержащие газы -- плазмы -- низкотемпературные газоразрядные плазмы -- бинарные смеси Аннотация: Приведен модельный анализ влияния начального состава смеси HCL/Ar на стационарные параметры плазмы (приведенная напряженность электрического поля, энергетическое распределение электронов, константы скоростей процессов под действием электронного удара) и концентрации заряженных частиц в условиях тлеющего разряда постоянного тока. Доп.точки доступа: Юдина, А. В.; Светцов, В. И. |
537 Д 830 Дунаев, А. В. Исследование методом атомно-силовой микроскопии поверхности полупроводников после травления в плазме хлорсодержащих газов / А. В. Дунаев, С. А. Пивоваренок, С. П. Капинос // Физика и химия обработки материалов. - 2013. - № 1. - С. 44-46 . - ISSN 0015-3214
Рубрики: Физика Электричество и магнетизм в целом Кл.слова (ненормированные): плазмохимическое травление -- хлороводород -- арсенид галлия -- атомно-силовая микроскопия -- хлорсодержащие газы -- качество травленой поверхности -- полупроводники Аннотация: Проведено сравнительное исследование влияния плазмохимического травления в плазме HCl и смеси HCl+H2 на топологию поверхности GaAs. Высокая скорость травления в хлоре приводит к нежелательным эффектам, в то время как плазма хлороводорода и его смеси с водородом позволяет проводить более равномерное и чистое травление поверхности. Контроль качества травленой поверхности GaAs осуществлялся с помощью атомно-силового микроскопа. Доп.точки доступа: Пивоваренок, С. А.; Капинос, С. П. |