531
Е 413


    Ежовский, Ю. К.
    Количественная оценка реакционной способности поверхности твордых тел на основе индуктивных постоянных [Текст] / Ю. К. Ежовский // Успехи химии. - 2004. - Т. 73, N 2. - Библиогр.: с. 217-218 (33 назв. ) . - ISSN 0042-1308
УДК
ББК 22.251
Рубрики: Механика--Механика твердых тел
Кл.слова (ненормированные):
твердые тела -- макромолекулярная концепция -- поверхностные химические реакции -- индуктивные постоянные -- индуктивный эффект -- кремнеземная матрица -- дегидратация -- дисперсные оксиды -- монокристаллические матрицы -- гидроксилированная поверхность -- оксидный слой -- кремний
Аннотация: На основе макромолекулярной концепции строения твердых тел обсуждена возможность использования корреляционного анализа и значений индуктивных постоянных для количественной оценки реакционной способности поверхности твердых веществ и прогнозирования характера поверхностных реакций. Приведены результаты экспериментальных исследований реакционного ряда некоторых твердых оксидов и монокристаллических матриц, подтверждающие перспективность рассмотренного подхода.



539.2
Е 413


    Ежовский, Ю. К.
    Характеристики границы раздела и свойства нанослоев оксидов хрома на арсениде галлия [Текст] / Ю. К. Ежовский, авт. А. Л. Егоров // Физика твердого тела. - 2007. - Т. 49, вып. 9. - С. 1563-1567. - Библиогр.: с. 1567 (19 назв. ) . - ISSN 0367-3294
УДК
ББК 22.37
Рубрики: Физика--Физика твердого тела
Кл.слова (ненормированные):
арсенид галлия; атомно-слоевое осаждение; метод молекулярного наслаивания; оксид хрома; оксид хрома на арсениде галлия; ультратонкие хромоксидные слои
Аннотация: Представлены результаты исследования электрофизических свойств ультратонких хромоксидных слоев (наноструктур), синтезированных на поверхности арсенида галлия (100) и (110) методом молекулярного наслаивания (атомно-слоевого осаждения). Установлено влияние технологических факторов и состава слоев на характеристики границы раздела полупроводник-диэлектрик.


Доп.точки доступа:
Егоров, А. Л.


546
Е 413


    Ежовский, Ю. К.
    Получение и свойства нанослоев оксидов хрома на полупроводниковых материалах [Текст] / Ю. К. Ежовский, авт. В. Ю. Холкин // Журнал физической химии. - 2008. - Т. 82, N 7. - С. 1304-1309. - Библиогр.: c. 1308-1309 (18 назв. ) . - ISSN 0044-4537
УДК
ББК 24.12
Рубрики: Химия
   Химические элементы и их соединения

Кл.слова (ненормированные):
оксиды хрома -- нанослои оксидов хрома -- кремний -- арсенид галлия -- наноструктуры -- ультратонкие хромоксидные слои
Аннотация: На поверхности кремния и арсенида галлия с ориентациями (100) и (110) методом молекулярного наслаивания (атомно-слоевого осаждения) осуществлен синтез ультратонких хромоксидных слоев (наноструктур).


Доп.точки доступа:
Холкин, В. Ю.


544.6
Е 413


    Ежовский, Ю. К.
    Поверхностные наноструктуры на основе оксидов тантала и алюминия [Текст] / Ю. К. Ежовский // Журнал физической химии. - 2010. - Т. 84, N 2. - С. 314-320. - Библиогр.: c. 320 (17 назв. ) . - ISSN 0044-4537
УДК
ББК 24.57
Рубрики: Химия
   Электрохимия

Кл.слова (ненормированные):
ALD-технологии -- алюминиевая матрица -- алюминий -- диэлектрические характеристики -- кремний -- метод молекулярного наслаивания -- наноструктуры -- оксиды -- тантал
Аннотация: Проведена оценка диэлектрических характеристик синтезированных наноструктур.



546
Е 413


    Ежовский, Ю. К.
    Формирование и некоторые свойства нанослоев АI[2]0[3] и Si0[2] на полупроводниках A{III}B{V} [Текст] / Ю. К. Ежовский, авт. В. Ю. Холкин // Неорганические материалы. - 2010. - Т. 46, N 1. - С. 44-48 : Рис. 3, табл. 2. - Библиогр.: с. 48 (16 назв. ) . - ISSN 0002-337Х
УДК
ББК 24.12 + 24.52
Рубрики: Химия
   Химические элементы и их соединения

   Химия твердого тела

Кл.слова (ненормированные):
нанослои -- алюминий -- оксид кремния -- наноструктуры -- диэлектрические пленки
Аннотация: Рассмотрен процесс формирования нанослоев оксидов кремния и алюминия, полученных методом атомно-слоевого осаждения (ALD-технология) на поверхности GaAs, InAs и InSb.


Доп.точки доступа:
Холкин, В. Ю.


544.72
Е 413


    Ежовский, Ю. К.
    Атомно-слоевое осаждение халькогенидов кадмия на кремнии / Ю. К. Ежовский // Журнал физической химии. - 2014. - Т. 88, № 9. - С. 1413-1418. - Библиогр.: c. 1418 (14 назв. ) . - ISSN 0044-4537
УДК
ББК 24.58
Рубрики: Химия
   Физическая химия поверхностных явлений

Кл.слова (ненормированные):
атомно-слоевое осаждение -- кремний -- селенид -- халькогениды кадмия
Аннотация: Представлены обобщенные результаты по синтезу ультратонких слоев селенида и теллурида кадмия методом атомно-слоевого осаждения на поверхности кремния различной ориентации. Установлены основные закономерности хемосорбции компонентов и условия слоевого роста при формировании наноструктур указанных соединений.


Доп.точки доступа:
Санкт-Петербургский государственный технологический институт (технический университет)