537.533 К 492 Климов, А. С. Локализация плазмы в протяженном полом катоде плазменного источника ленточного электронного пучка в форвакуумной области давлений [Текст] / А. С. Климов, В. А. Бурдовицин, Е. М. Окс // Известия вузов. Физика. - 2007. - Т. 50, N 6. - С. 3-9. - Библиогр.: c. 9 (13 назв. ) . - ISSN 0021-3411
Рубрики: Физика Электричество и магнетизм Кл.слова (ненормированные): ленточный электронный пучок -- локализация плазмы -- модель образования неоднородности в полом катоде -- плазма -- плазменный источник ленточного электронного пучка -- полый катод -- протяженный полый катод -- форвакуумная область давлений -- щелевидная апертура -- электронный пучок Аннотация: Представлены результаты исследования распределения плотности плазмы в щелевидной апертуре протяженного полого катода прямоугольной формы, применяемого в плазменном источнике ленточного электронного пучка, функционирующего в форвакуумной области давлений (1-10 Па). Показано, что при уменьшении ширины щели в некоторой области щелевидной апертуры возникает локальный максимум плотности плазмы. При формировании ленточного пучка это становится причиной появления участка с повышенной плотностью тока. Неоднородность плотности тока пучка усиливается за счет обратного ионного потока, степень влияния которого на эмиссионные свойства плазмы оказывается существенной в области повышенных давлений. Предложена модель образования неоднородности в полом катоде, основанная на представлении о преимущественном протекании электронного тока на участках щелевидной апертуры, определяемых локальным раскрытием ионных оболочек катодного слоя. Доп.точки доступа: Бурдовицин, В. А.; Окс, Е. М. |
Бурдовицин, В. А. О возможности электронно-лучевой обработки диэлектриков плазменным источником электронов в форвакуумной области давлений [Текст] / В. А. Бурдовицин, А. С. Климов, Е. М. Окс // Письма в "Журнал технической физики". - 2009. - Т. 35, вып: вып. 11. - С. 61-66 : ил. - Библиогр.: с. 66 (6 назв. ) . - ISSN 0320-0116
Рубрики: Физика Электричество и магнетизм в целом Кл.слова (ненормированные): электронно-лучевая обработка -- диэлектрики -- плазменные источники -- электронные пучки -- плазма -- форвакуумная область давлений -- непроводящие материалы -- керамические материалы Аннотация: На основе измерений потенциала изолированной мишени при облучении ее электронным пучком, генерируемым плазменным источником электронов в форвакуумной области давлений 5-15 Pa, показано, что в этих условиях плазма, образующаяся в области транспортировки электронного пучка, обусловливает практически полную нейтрализацию зарядки изолированной мишени. Отмеченная особенность обеспечивает возможность непосредственной электронно-лучевой обработки непроводящих материалов, в том числе плавки и сварки керамических материалов. Доп.точки доступа: Климов, А. С.; Окс, Е. М. |
Медовник, А. В. Формирование импульсного электронного пучка в системе с плазменным катодом в форвакуумной области давлений [Текст] / А. В. Медовник, В. А. Бурдовицин, Е. М. Окс // Известия вузов. Физика. - 2010. - Т. 53, N 2. - С. 27-32. - Библиогр.: c. 31-32 (14 назв. ) . - ISSN 0021-3411
Рубрики: Физика Движение заряженных частиц в электрических и магнитных полях Кл.слова (ненормированные): импульсные электронные пучки -- импульсный режим -- обратные ионные потоки -- плазменные катоды -- пробой ускоряющего промежутка -- форвакуумная область давлений Аннотация: Представлены результаты экспериментального исследования особенностей формирования импульсных пучков плазменным источником электронов, функционирующим в форвакуумной области давлений (5-15 Па). Для этой области давлений на эмиссионные свойства плазмы оказывает влияние обратный ионный поток, генерируемый в областях формирования и транспортировки электронного пучка. Показано, что отношение тока обратных ионов к току электронного пучка может достигать 10, что на порядок величины превышает аналогичный параметр для электронных пучков, функционирующих в традиционном для таких устройств диапазоне давлений 0, 01-0, 1 Па. Проанализированы основные причины, ограничивающие сверху ток пучка в источнике с плазменным катодом. Доп.точки доступа: Бурдовицин, В. А.; Окс, Е. М. |
537.311.33 П 641 Потенциал диэлектрической мишени при ее облучении импульсным электронным пучком в форвакуумной области давлений [Текст] / В. А. Бурдовицин [и др.] // Журнал технической физики. - 2012. - Т. 82, № 10. - С. 103-108. - Библиогр.: c. 108 (10 назв. ) . - ISSN 0044-4642
Рубрики: Физика Физика полупроводников и диэлектриков Кл.слова (ненормированные): диэлектрические мишени -- электронные пучки -- электронное облучение -- форвакуумная область давлений -- непроводящая керамика -- керамика -- керамические мишени -- потенциал диэлектрических мишеней -- отрицательный потенциал -- численное моделирование -- инжектированный заряд -- инжектированные электроны Аннотация: Показано, что в форвакуумной области давлений (5-15 Pa) в процессе облучения непроводящей керамики электронным пучком потенциал поверхности керамики, хотя и остается отрицательным, но его абсолютная величина оказывается много меньше энергии ускоренных электронов. Определены факторы, влияющие на величину отрицательного потенциала непроводящей керамической мишени. На основе численного моделирования анализируется эволюция в керамике инжектированного заряда. Перейти: http://journals.ioffe.ru/jtf/2012/10/p103-108.pdf Доп.точки доступа: Бурдовицин, В. А.; Медовник, А. В.; Окс, Е. М.; Скробов, Е. В.; Юшков, Ю. Г. |