Вересов, Л. П.
    Исследование холодных катодов плазменных источников, генерирующих пучки ионов водорода [Текст] / Л. П. Вересов, О. Л. Вересов [и др.] // Журнал технической физики. - 2001. - Т.71,N10. - Библиогр.: с.53 (7 назв.) . - ISSN 0044-4642
Рубрики: Физика--Электричество и магнетизм
Кл.слова (ненормированные):
плазменные источники -- холодные катоды -- протонные пучки -- дуоплазмотроны
Аннотация: Приводятся результаты исследования и сравнение работы холодных катодов двух типов (полого и магнетронного) в дуоплазмотроне при отборе из него протонных пучков


Доп.точки доступа:
Вересов, О.Л.; Дзкуя, М.И.; Жуков, Ю.Н.; Кузнецов, Г.В.; Цеквава, И.А.




    Жуков, А. Е.
    Молекулярно-пучковая эпитаксия GaAsN на GaAs с использованием плазменного источника, возбуждаемого постоянным током [Текст] / А. Е. Жуков, Е. С. Семенова, В. М. Устинов, E. R. Weber // Журнал технической физики. - 2001. - Т.71,N10. - Библиогр.: с.64 (10 назв.) . - ISSN 0044-4642
Рубрики: Физика--Физика твердого тела
Кл.слова (ненормированные):
молекулярно-пучковая эпитаксия -- плазменные источники -- эпитаксиальные слои -- внедрение азота -- арсенид галлия
Аннотация: Серия слоев GaAsN была выращена методом молекулярно-пучковой эпитаксии с использованием нового типа плазменного источника азота с активацией постоянным током. Эффективность встраивания азота, кристаллическое совершенство, морфология поверхности и люминесцентные свойства эпитаксиальных слоев исследованы по взаимосвязи с различными режимами работы источника


Доп.точки доступа:
Семенова, Е.С.; Устинов, В.М.; Weber, E.R.


533.951
А 46


    Александров, А. Ф.
    Самосогласованная модель ВЧ индуктивного источника плазмы, помещенного во внешнее магнитное поле [Текст] / А. Ф. Александров, Г. Э. Бугров [и др.] // Физика плазмы. - 2004. - Т. 30, N 5. - С. 434-449. - Библиогр.: с. 449 (16 назв. ). - ил.: 19 рис. . - ISSN 0367-2921
УДК
ББК 22.38
Рубрики: Физика--Ядерная физика
Кл.слова (ненормированные):
плазменные источники -- объемные волны -- магнитные поля -- самосогласованная модель -- ВЧ индуктивные источники
Аннотация: Развита теория, позволяющая рассчитать поглощение ВЧ-мощности в индуктивном плазменном источнике. Предложена простая самосогласованная модель плазменного источника, хорошо объясняющая все особенности плазменных источников, наблюдаемых в экспериментах.


Доп.точки доступа:
Бугров, Г. Э.; Вавилин, К. В.; Керимова, И. К.; Кондранин, С. Г.; Кралькина, Е. А.; Павлов, В. Б.; Плаксин, В. Ю.; Рухадзе, А. А.


539.1/.18
Р 918


    Рухадзе, А. А.
    Геликонный источник плазмы в ионно-звуковой области частот [Текст] / А. А. Рухадзе, авт. К. В. Вавилин // Физика плазмы. - 2007. - Т. 33, N 9. - С. 859-864. - Библиогр.: с. 864 (5 назв. ). - ил.: 9 рис. . - ISSN 0367-2921
УДК
ББК 22.38
Рубрики: Физика--Ядерная физика
Кл.слова (ненормированные):
плазма -- низкотемпературная плазма -- геликонный источник плазмы -- плазменные источники
Аннотация: Исследован геликонный источник плазмы в ионно-звуковой области частот. В случае индуктивной антенны, возбуждающей геликонную волну в плазме в ионно-звуковой области частот, эффективное сопротивление, характеризующее поглощение энергии высокочастотного поля, определяется ионно-звуковым полем, порождаемым геликонной волной.


Доп.точки доступа:
Вавилин, К. В.




    Бурдовицин, В. А.
    О возможности электронно-лучевой обработки диэлектриков плазменным источником электронов в форвакуумной области давлений [Текст] / В. А. Бурдовицин, А. С. Климов, Е. М. Окс // Письма в "Журнал технической физики". - 2009. - Т. 35, вып: вып. 11. - С. 61-66 : ил. - Библиогр.: с. 66 (6 назв. ) . - ISSN 0320-0116
УДК
ББК 22.33
Рубрики: Физика
   Электричество и магнетизм в целом

Кл.слова (ненормированные):
электронно-лучевая обработка -- диэлектрики -- плазменные источники -- электронные пучки -- плазма -- форвакуумная область давлений -- непроводящие материалы -- керамические материалы
Аннотация: На основе измерений потенциала изолированной мишени при облучении ее электронным пучком, генерируемым плазменным источником электронов в форвакуумной области давлений 5-15 Pa, показано, что в этих условиях плазма, образующаяся в области транспортировки электронного пучка, обусловливает практически полную нейтрализацию зарядки изолированной мишени. Отмеченная особенность обеспечивает возможность непосредственной электронно-лучевой обработки непроводящих материалов, в том числе плавки и сварки керамических материалов.


Доп.точки доступа:
Климов, А. С.; Окс, Е. М.




    Гаврилов, Н. В.
    Низкотемпературное азотирование титана в плазме низкоэнергетического электронного пучка [Текст] / Н. В. Гаврилов, А. С. Мамаев // Письма в "Журнал технической физики". - 2009. - Т. 35, вып: вып. 15. - С. 57-64 : ил. - Библиогр.: с. 64 (10 назв. ) . - ISSN 0320-0116
УДК
ББК 22.333
Рубрики: Физика
   Электронные и ионные явления. Физика плазмы

Кл.слова (ненормированные):
низкотемпературное азотирование -- азотирование -- титан -- Ti -- плазма -- пучки -- электронные пучки -- низкоэнергетические электронные пучки -- исследования -- структурно-фазовые состояния -- микротвердость поверхности -- поверхность титана -- регулировка тока -- электроны -- энергия электронов -- давление газа -- газы -- сеточная стабилизация -- эмиссионные свойства -- плазменные источники -- пространственный заряд -- пучковая плазма -- плазменные катоды -- температура (физика) -- плотность плазмы -- изменение давления -- азот -- N -- смеси (физика) -- ионное распыление -- упрочненные слои -- рельеф поверхности -- пазы (физика)
Аннотация: Исследовано воздействие электронного пучка и создаваемой им плазмы на структурно-фазовое состояние и микротвердость поверхности титана. Широкий диапазон регулировки тока пучка (0. 1-2. 5 A), энергии электронов (0. 1-1 keV) и давления газа (0. 01-1 Pa) был обеспечен использованием сеточной стабилизации эмиссионных свойств плазменного источника электронов и формированием широкого пучка (40 cm{2}) в слое пространственного заряда между пучковой плазмой и сеткой плазменного катода. Температура образцов (350-900{o}C) задавалась параметрами электронного пучка, плотность плазмы дополнительно регулировалась изменением давления азота или смеси (N[2]+Ar). Показано, что при низкотемпературном азотировании ионное распыление оказывает существенное влияние на величину микротвердости поверхности и скорость роста упрочненного слоя. Возможность азотирования при низком (-50 V) или плавающем потенциале образцов позволила избежать развития рельефа поверхности и проводить обработку в глубоких и узких пазах.


Доп.точки доступа:
Мамаев, А. С.




    Димов, Г. И.
    Распределение потенциала плазмы в тандемном поверхностно-плазменном источнике отрицательных ионов [Текст] / Г. И. Димов, И. С. Емелев // Письма в "Журнал технической физики". - 2010. - Т. 36, вып: вып. 6. - С. 15-21 : ил. - Библиогр.: с. 21 (5 назв. ) . - ISSN 0320-0116
УДК
ББК 22.333
Рубрики: Физика
   Электронные и ионные явления. Физика плазмы

Кл.слова (ненормированные):
экспериментальные исследования -- плазма -- водородная плазма -- потенциал плазмы -- распределение потенциала -- плотность плазмы -- электронная температура -- кольцевые ловушки -- магнитные ловушки -- мультипольные ловушки -- кольцевые мультипольные магнитные ловушки -- плазменные источники -- поверхностно-плазменные источники -- тандемные поверхностно-плазменные источники -- ионы -- отрицательные ионы -- положительные ионы -- конверторы
Аннотация: Проведены экспериментальное исследование распределения потенциала водородной плазмы и измерения ее плотности и электронной температуры в тандеме кольцевой мультипольной магнитной ловушки с конвертором положительных ионов в отрицательные. Подтверждено, что потенциал плазмы в кольцевой ловушке ниже потенциала стенок камеры. Установлено, что в рабочем диапазоне потенциал плазмы в конверторе практически не зависит от его потенциала.


Доп.точки доступа:
Емелев, И. С.




    Башутин, О. А.
    Пространственное распределение рентгеновского излучения низкоиндуктивной вакуумной искры [Текст] / О. А. Башутин, А. С. Савелов, Е. Д. Вовченко // Физика плазмы. - 2009. - Т. 35, N 10. - С. 883-888 : 5 рис. - Библиогр.: с. 888 (7 назв. ) . - ISSN 0367-2921
ГРНТИ
УДК
ББК 22.344 + 22.333
Рубрики: Физика
   Электронные и ионные явления. Физика плазмы

Кл.слова (ненормированные):
рентгеновское излучение -- источники излучения -- гелиеподобные ионы -- искровые разряды -- плазменные источники -- плазма -- спектральные характеристики -- вакуумные низкоиндуктивные искры
Аннотация: Представлены результаты измерений пространственного распределения источников рентгеновского излучения низкоиндуктивного вакуумного искрового разряда, основанные на анализе структуры спектральных линий гелиеподобных ионов.


Доп.точки доступа:
Савелов, А. С.; Вовченко, Е. Д.




   
    Создание и исследование мощных импульсно-периодических источников ВУФ-излучения (ламбда=13. 5 нм) [Текст] / В. М. Борисов [и др. ] // Физика плазмы. - 2010. - Т. 36, N 3. - С. 237-247 : 14 рис. - Библиогр.: с. 247 (15 назв. ) . - ISSN 0367-2921
ГРНТИ
УДК
ББК 22.338
Рубрики: Физика
   Электронные и ионные явления. Физика плазмы

   Движение заряженных частиц в электрических и магнитных полях

Кл.слова (ненормированные):
импульсно-периодические источники -- ВУФ-излучения -- плазменные источники -- плазма -- лазерные разряды -- дисковые электроды
Аннотация: Представлены результаты экспериментальных исследований ВУФ-источников, эффективно излучающих в спектральной полосе 13. 5+-0. 135 нм, на основе инициируемого лазером разряда в парах олова между вращающимися дисковыми электродами.


Доп.точки доступа:
Борисов, В. М.; Борисова, Г. Н.; Виноходов, А. Ю.; Иванов, А. С.; Кирюхин, Ю. Б.; Мищенко, В. А.; Прокофьев, А. В.; Христофоров, О. Б.


533.9
В 586


   
    Влияние вкладываемой ВЧ-мощности на характеристики стационарного плазменного двигателя [Текст] / А. И. Бугрова [и др.] // Письма в "Журнал технической физики". - 2012. - Т. 38, вып. 7. - С. 89-96 : ил. - Библиогр.: с. 96 (3 назв.) . - ISSN 0320-0116
УДК
ББК 22.333 + 22.3с
Рубрики: Физика
   Электронные и ионные явления. Физика плазмы

   Физические приборы и методы физического эксперимента

Кл.слова (ненормированные):
плазменные двигатели -- плазма -- нагрев плазмы -- ВЧ-нагрев -- высокочастотный нагрев -- ВЧ-мощность -- высокочастотная мощность -- стационарные двигатели -- стационарные плазменные двигатели -- СПД -- модифицированные модели -- плазменные источники -- стационарные источники -- стационарные плазменные источники -- АТОН -- интегральные характеристики -- локальные характеристики -- анализ результатов
Аннотация: Изучались возможности осуществления дополнительного ВЧ-нагрева плазмы в стационарном плазменном двигателе (СПД) с целью повышения его характеристик. Была разработана модифицированная модель стационарного плазменного источника АТОН для введения в буферную зону канала СПД ВЧ-мощности. Проведены детальное изучение интегральных и локальных характеристик модифицированной модели АТОН с вводом ВЧ-мощности и сравнение их с характеристиками источника АТОН без ввода ВЧ-мощности, а также анализ полученных результатов.

Перейти: http://journals.ioffe.ru/pjtf/2012/07/p89-96.pdf

Доп.точки доступа:
Бугрова, А. И.; Бугров, Г. Э.; Харчевников, В. К.; Шапошников, М. И.; Mazouffre, S.


537.533/.534
Г 340


   
    Генерация стационарных электронных пучков форвакуумным плазменным источником в области давлений 100 Pa / А. А. Зенин [и др.] // Письма в "Журнал технической физики". - 2013. - Т. 39, вып. 10. - С. 9-14 : ил. - Библиогр.: с. 14 (7 назв.) . - ISSN 0320-0116
УДК
ББК 22.338
Рубрики: Физика
   Движение заряженных частиц в электрических и магнитных полях

Кл.слова (ненормированные):
электронные пучки -- стационарные характеристики -- генерирование электронных пучков -- плазменные источники -- форвакуумные источники -- повышенное давление -- электрическая прочность -- ионы -- возвратные потоки -- высоковольтные разряды -- электронные системы -- геометрия состояний
Аннотация: Показано, что при повышении давления газа в форвакуумном плазменном источнике электронов нарушение электрической прочности ускоряющего промежутка (пробой промежутка) обусловлено влиянием обратного потока ионов из плазмы, генерируемой как электронным пучком, так и высоковольтным тлеющим разрядом (ВТР). Модернизация геометрии электродной системы ускоряющего промежутка электронного источника позволила снизить в 2-3 раза ток ВТР и обеспечила повышение верхнего предела рабочих давлений источника до 100 Pa при использовании в качестве рабочего газа воздуха и до 160 Pa-гелия.

Перейти: http://journals.ioffe.ru/pjtf/2013/10/p9-14.pdf

Доп.точки доступа:
Зенин, А. А.; Климов, А. С.; Бурдовицин, В. А.; Окс, Е. М.