541.138
М 220


    Мамаев, А. И.
    Вольтамперные характеристики процесса нанесения оксидных и керамических покрытий в импульсном микроплазменном режиме на сплавы алюминия, титана и магния [Текст] / А. И. Мамаев, Т. И. Дорофеева, В. Н. Бориков, В. А. Мамаева // Физика и химия обработки материалов. - 2004. - N 5 . - ISSN 0015-3214
УДК
ББК 24.5
Рубрики: Химия--Физическая химия. Химическая физика
Кл.слова (ненормированные):
вольтамперные характеристики -- оксидные покрытия -- керамические покрытия -- импульсные микроплазменные режимы -- микроплазменные режимы -- сплавы -- алюминий -- титан -- магний -- электролиты -- микроплазменные процессы
Аннотация: Предложена методика и проведены измерения электрических параметров процессов импульсного микроплазменного нанесения оксидных покрытий в электролитах.


Доп.точки доступа:
Дорофеева, Т. И.; Бориков, В. Н.; Мамаева, В. А.


621.794
Б 903


    Будницкая, Ю. Ю.
    Влияние режимов микроплазменного процесса и состава электролита на структуру и элементный состав анодно-оксидных покрытий [Текст] / Ю. Ю. Будницкая, А. И. Мамаев // Физика и химия обработки материалов. - 2004. - N 6 . - ISSN 0015-3214
УДК
ББК 30.68
Рубрики: Техника--Обработка материалов
Кл.слова (ненормированные):
микроплазменные процессы -- электролиты -- анодно-оксидные покрытия -- оксидные покрытия -- фазовый состав покрытия -- состав покрытия -- переходные металлы -- металлы
Аннотация: Исследована морфология анодно-оксидных покрытий, полученных в импульсном микроплазменном режиме. Изучено влияние режимов микроплазменного процесса и состава электролита на структуру и фазовый состав покрытия.


Доп.точки доступа:
Мамаев, А. И.


669-1/-9
Б 747


    Богрякова, Е. В.
    Сравнительный анализ оксидных покрытий на сплаве Д16 при микродуговом и электрохимическом оксидировании [Текст] / Е. В. Богрякова, авт. Е. А. Федорова // Известия вузов. Химия и химическая технология. - 2007. - Т. 50, вып. 11. - С. 120-121. - Библиогр.: с. 121 (3 назв. ) . - ISSN 0579-2991
УДК
ББК 34.6
Рубрики: Машиностроение
   Машиностроительные и металлообрабатывающие процессы и производства

Кл.слова (ненормированные):
оксидные покрытия -- электрохимическое оксидирование -- поверхностная обработка материалов -- микродуговое оксидирование -- электрохимическое оксидирование
Аннотация: О проблеме поверхностной обработки конструктивных материалов.


Доп.точки доступа:
Федорова, Е. А.




   
    Образование тонких оксидных покрытий и нанопорошков оксидов при анодном оксидировании металлов в расплавленных солях [Текст] / Л. А. Елшина [и др. ] // Журнал неорганической химии. - 2008. - Т. 53, N 4. - С. 594-600 : рис. - Библиогр.: с. 600 (6 назв. ) . - ISSN 0044-457X
УДК
ББК 24.1
Рубрики: Химия
   Неорганическая химия

Кл.слова (ненормированные):
цирконий -- тантал -- пассивация -- химический анализ -- ионный обмен -- металлы -- нанопорошки -- оксидные покрытия
Аннотация: Изучены возможности синтеза высокодисперсных оксидных порошков при анодном оксидировании таких металлов, как цирконий и тантал, в хлоридно-нитратном расплаве при температурах выше 830К.


Доп.точки доступа:
Елшина, Л. А.; Кудяков, В. Я.; Малков, В. Б.; Молчанова, Н. Г.




   
    Магнитные свойства плазменно-электролитических железосодержащих оксидных покрытий на алюминии [Текст] / В. С. Руднев [и др. ] // Доклады Академии наук. - 2009. - Т. 428, N 3, сентябрь. - С. 349-352 : 3 рис., 1 табл. - Библиогр.: с. 352 . - ISSN 0869-5652
УДК
ББК 22.334
Рубрики: Физика
   Магнетизм

Кл.слова (ненормированные):
магнитные свойства железосодержащих оксидных покрытий -- плазменно-электролитические оксидирования -- анодные оксидные покрытия -- оксидные покрытия на алюминии -- оксидные покрытия -- электролитические оксидирования
Аннотация: Впервые принципиально показано, что сформированные в течении 10 минут односталийным методом плазменно-электролитические оксидирования в водном электролите комнатной температуры Fe-содержащие анодные оксидные покрытия на алюминии проявляют ферромагнитные свойства.


Доп.точки доступа:
Руднев, В. С.; Устинов, А. Ю.; Лукиянчук, И. В.; Харитонский, П. В.; Фролов, А. М.; Морозова, В. П.; Ткаченко, И. А.; Сергеенко, В. И.




   
    Пассивация HPGe-детекторов [Текст] / Ю. Б. Гуров [и др. ] // Приборы и техника эксперимента. - 2009. - N 1. - С. 151-154. - Библиогр.: с. 154 (8 назв. ) . - ISSN 0032-8162
УДК
ББК 22.38
Рубрики: Физика
   Ядерная физика в целом

Кл.слова (ненормированные):
детекторы -- HPGe-детекторы -- пассивация -- германиевые детекторы -- оксидные покрытия -- защитные покрытия
Аннотация: Представлены результаты исследований свойств защитного покрытия p-n-переходов германиевых детекторов.


Доп.точки доступа:
Гуров, Ю. Б.; Карпухин, В. С.; Розов, С. В.; Сандуковский, В. Г.; Borowicz, D.; Rajhel, B.; Yurkowski, J.




   
    Нанесение электретного покрытия на поверхность титановой ножки эндопротеза тазобедренного сустава [Текст] / Н. В. Чернюк [и др. ] // Физика и химия обработки материалов. - 2009. - N 1. - С. 45-50 . - ISSN 0015-3214
УДК
ББК 30.68
Рубрики: Техника
   Обработка материалов

Кл.слова (ненормированные):
титановые сплавы -- оксидные покрытия -- электрохимическое анодирование -- пористые покрытия -- электретные покрытия -- эндопротезы
Аннотация: Определены оптимальные режимы нанесения оксидного покрытия на титановый сплав ВТ6 методом электрохимического анодирования.


Доп.точки доступа:
Чернюк, Н. В.; Овчинников, К. В.; Пинчук, Л. С.; Кравченко, В. И.; Костюкович, Г. А.




    Родионов, И. В. (канд. техн. наук).
    Разработка специализированного электролизера для групповой анодной обработки костных имплантантов [Текст] / И. В. Родионов // Химическая технология. - 2009. - N 11. - С. 686-689. - Библиогр.: с. 689 (4 назв. ) . - ISSN 1684-5811
УДК
ББК 35.11
Рубрики: Химическая технология
   Основные процессы и аппараты химической технологии

Кл.слова (ненормированные):
костные титановые имплантанты -- титановые имплантанты -- имплантанты -- анодирование -- оксидные покрытия -- электролизер -- титановые катоды
Аннотация: Для формирования биосовместимых анодно-оксидных покрытий на медицинских костных имплантантах разработана конструкция специализированного электролизера, учитывающая типовые линейные размеры наиболее часто используемых видов стоматологических и ортопедических титановых имплантантов.



539.2
А 640


   
    Анализ свойств и структура оксидированых покрытий, полученных на Al-Cu- и Al-Mg-сплавах [Текст] / А. Д. Погребняк [и др.] // Журнал технической физики. - 2012. - Т. 82, № 6. - С. 106-114. - Библиогр.: c. 114 (21 назв. ) . - ISSN 0044-4642
УДК
ББК 22.37
Рубрики: Физика
   Физика твердого тела. Кристаллография в целом

Кл.слова (ненормированные):
оксидированные покрытия -- оксидные покрытия -- защитные покрытия -- оксиды алюминия -- окислы алюминия -- сплавы алюминия -- электролитно-плазменное оксидирование -- микродуговое оксидирование -- растровая электронная микроскопия -- рентгенофазовый анализ -- резерфордовское обратное рассеяние -- обратное рассеяние ионов -- наноинденторы -- тесты на износ -- коэффициент трения -- акустическая эмиссия -- твердость -- износостойкость -- температуропроводность -- стехиометрия
Аннотация: Представлены результаты новых исследований по созданию защитных оксидных покрытий на основе Al[2]O[3] (Si, Mn) на сплавах алюминия с помощью электролитно-плазменного оксидирования. Анализ проводился с помощью растровой электронной микроскопии (энергодисперсным микроанализом), а также рентгенофазового анализа (XRD), резерфордовского обратного рассеяния ионов (RBS) {4}He{+}, применения наноиндентора и тестов на износ, определения коэффициента трения и акустической эмиссии. Результаты показали, что формируются покрытия хорошего качества с высокой твердостью и стойкостью к износу, а также малой температуропроводностью. Обнаружено, что наряду с Al[2]O[3] в покрытии находятся Si, Mn, C и Ca. Определена стехиометрия данного покрытия. Плотность и твердость покрытия близка по значениям к таковым у alpha-фазы Al[2]O[3] в покрытии на подложке Al-Cu (D-16), а на покрытии, осажденном на подложке Al-Mg (S006), эти величины в 1. 5 раза меньше.

Перейти: http://journals.ioffe.ru/jtf/2012/06/p106-114.pdf

Доп.точки доступа:
Погребняк, А. Д.; Кылышканов, М. К.; Тюрин, Ю. Н.; Каверина, А. Ш.; Якущенко, И. В.; Борисенко, А. А.; Постольный, Б. А.; Кулик, И. А.


543.4/.5
И 395


   
    Изучение химического состава плазмы в процессах получения тонких пленок и покрытий с применением спектрометра "Колибри-2" [Текст] / В. Р. Шаяпов [и др.] // Заводская лаборатория. Диагностика материалов. - 2012. - Т. 78, № 1, ч. 2. - С. 96-98. - Библиогр.: с. 98 (9 назв. ) . - ISSN 1028-6861
УДК
ББК 24.46/48
Рубрики: Химия
   Физико-химические методы анализа

Кл.слова (ненормированные):
химический состав плазмы -- плазма -- получение тонких пленок -- тонкие пленки -- тонкие покрытия -- получение тонких покрытий -- спектрометры -- Колибри-2 (спектрометры) -- плазмохимическое разложение -- микроплазменный синтез -- гексаметилдисилазан -- оксидные покрытия -- сплавы алюминия -- силикатно-щелочные электролиты -- оптическая эмиссионная спектроскопия -- эмиссионная спектроскопия -- плазмохимическое осаждение -- плазма ВЧ-разряда
Аннотация: Рассмотрено применение спектрометра "Колибри-2" для изучения химического состава плазмы на примерах плазмохимического разложения гексаметилдисилазана и микроплазменного синтеза оксидного покрытия на сплаве алюминия в силикатно-щелочном электролите.


Доп.точки доступа:
Шаяпов, В. Р.; Рогов, А. Б.; Румянцев, Ю. М.; Аюпов, Б. М.; Лабусов, В. А.; Зарубин, И. А.


539.2
С 873


   
    Структура, морфология и физико-механические свойства нано- и микроструктурных покрытий из Al2O3 и ZrO2 [Текст] / А. Д. Погребняк [и др.] // Физика и химия обработки материалов. - 2012. - № 5. - С. 59-65 . - ISSN 0015-3214
УДК
ББК 22.37
Рубрики: Физика
   Физика твердого тела. Кристаллография в целом

Кл.слова (ненормированные):
оксиды алюминия -- оксиды циркония -- адгезия -- магнетронное распыление -- шероховатость -- нанотвердость -- коэффициенты трения -- оксидные покрытия -- мишени -- наноструктурные пленки -- магнетронное распыление мишеней -- осаждение -- стальные подложки -- силы когезии -- модули упругости
Аннотация: Методами АСМ, измерения нанотвердости, модуля упругости, сил когезии и коэффициента трения исследованы оксидные покрытия из Al2O3 и ZrO2, полученные с помощью магнетронного распыления мишеней из Al и Zr соответственно. Обнаружено увеличение твердости покрытия из Al2O3, нанесенного на наноструктурную пленку TiN, по сравнению с покрытием, осажденным на стальную подложку.


Доп.точки доступа:
Погребняк, А. Д.; Береснев, В. М.; Ильяшенко, М. В.; Каверина, А. Ш.; Якущенко, И. В.; Плотников, С. В.


661.13
Б 667


   
    Бифункциональные Fe-содержащие покрытия на алюминии, сформированные плазменно-электролитическим оксидированием / И. В. Лукиянчук [и др.] // Журнал прикладной химии. - 2012. - Т. 85, вып. 11. - С. 1776-1780. - Библиогр.: c. 1780 (20 назв. ) . - ISSN 0044-4618
УДК
ББК 35.35
Рубрики: Химическая технология
   Электрохимические производства

Кл.слова (ненормированные):
алюминий -- бифункциональные Fe-содержащие покрытия -- оксидные покрытия -- оксиды переходных металлов -- плазменно-электролитическое оксидирование -- ферромагнитные свойства
Аннотация: Получены оксидные покрытия, проявляющие наряду с ферромагнитными свойствами каталитическую активность в окислении CO.


Доп.точки доступа:
Лукиянчук, И. В.; Руднев, В. С.; Устинов, А. Ю.; Морозова, В. П.; Адигамова, М. В.; Тырина, Л. М.; Черных, И. В.


539.2
Ш 227


    Шаныгин, В. Я.
    Особенности структурирования поверхности кристаллов кремния (100) при СВЧ плазменной обработке в различных газовых средах / В. Я. Шаныгин, авт. Р. К. Яфаров // Письма в "Журнал технической физики". - 2013. - Т. 39, вып. 9. - С. 1-8 : ил. - Библиогр.: с. 7-8 (9 назв.) . - ISSN 0320-0116
УДК
ББК 22.37
Рубрики: Физика
   Физика твердого тела. Кристаллография в целом

Кл.слова (ненормированные):
кристаллы -- кремний -- структурирование поверхностей -- плазменная обработка -- монокристаллы -- наноморфология поверхностей -- кристаллографическая ориентация -- оксидные покрытия -- наноструктурированные поверхности -- гетероструктуры
Аннотация: Исследованы закономерности влияния режимов СВЧ плазменной обработки на наноморфологию поверхности монокристаллов кремния кристаллографической ориентации (100) с естественным оксидным покрытием. Рассмотрены модельные механизмы процессов наноструктурирования поверхности при плазменной обработке в газовых средах с различной селективностью к гетероструктурному материалу подложки.

Перейти: http://journals.ioffe.ru/pjtf/2013/09/p1-8.pdf

Доп.точки доступа:
Яфаров, Р. К.


539.2
Ш 227


    Шаныгин, В. Я.
    Релаксационная самоорганизация поверхности кристаллов кремния под воздействием СВЧ плазменной микрообработки / В. Я. Шаныгин, авт. Р. К. Яфаров // Физика и техника полупроводников. - 2013. - Т. 47, вып. 4. - С. 447-459 : ил. - Библиогр.: с. 459 (10 назв.) . - ISSN 0015-3222
УДК
ББК 22.37
Рубрики: Физика
   Физика твердого тела. Кристаллография в целом

Кл.слова (ненормированные):
комплексные исследования -- результаты исследований -- наноморфология -- монокристаллы кремния -- поверхность монокристаллов -- кремний -- кристаллографическая ориентация -- оксидные слои -- плазменная микрообработка -- СВЧ плазменная микрообработка -- селективность -- оксидные покрытия -- плазмохимическое травление -- ПХТ
Аннотация: Приведены результаты комплексных исследований влияния на наноморфологию поверхности монокристаллов кремния кристаллографической ориентации (100) с естественным оксидным слоем низкоэнергетичной СВЧ плазменной микрообработки с различной селективностью воздействия. Рассмотрены основные характеристические параметры и модельные механизмы процессов, обеспечивающих управление наноморфологией поверхности кристаллов кремния при СВЧ плазменной микрообработке в условиях слабой адсорбции. Изложены фундаментальные причины и факторы, лежащие в основе процессов релаксационной самоорганизации наноморфологии как свободной поверхности кремния заданной кристаллографической ориентации, так и защищенной естественным оксидным покрытием под воздействием плазменной микрообработки.
Results of complex researches of influence on nanomorphology of silicon single crystals surface with crystallographic orientation (100) under low energy microwave plasma micromachining are given. The key characteristic parameters and modeling mechanisms of the processes providing management of nanomorphology of a surface of crystals of silicon at the microwave plasma micromachining in the conditions of weak adsorption are considered. The fundamental reasons and the factors underlying processes of relaxation self-organizing of nanomorphology, as free surface of silicon of the set crystallographic orientation, and protected by a natural oxidation covering under the influence of plasma micromachining are stated.

Перейти: http://journals.ioffe.ru/ftp/2013/04/p447-459.pdf

Доп.точки доступа:
Яфаров, Р. К.


544.6
С 862


   
    Строение и магнитные свойства Fe-, Co-содержащих оксидных покрытий на сплаве алюминия, сформированных в электролитах методом плазменно-электролитического оксидирования / В. С. Руднев [и др.]. // Журнал физической химии. - 2014. - Т. 88, № 5. - С. 863-870. - Библиогр.: с. 870 (24 назв. ) . - ISSN 0044-4537
УДК
ББК 24.57
Рубрики: Химия
   Электрохимия

Кл.слова (ненормированные):
анодно-катодная поляризация -- гидроксиды железа -- дисперсные частицы -- магнитные свойства -- оксидные покрытия -- сплав алюминия -- электролит
Аннотация: Изучено влияние природы базового электролита в составе электролита-суспензии, содержащей дисперсные частицы гидроксидов Fe (III) и Co (II), анодной и биполярной анодно-катодной поляризации на особенности формирования, состав и магнитные характеристики оксидных покрытий. Показано, что во всех случаях железо и кобальт встраиваются в покрытия, концентрируясь преимущественно в порах.


Доп.точки доступа:
Руднев, В. С.; Морозова, В. П.; Лукиянчук, И. В.; Адигамова, М. В.; Ткаченко, И. А.; Устинов, А. Ю.; Харитонский, П. В.; Институт химии РАН ДО (Владивосток); Институт химии РАН ДО (Владивосток); Институт химии РАН ДО (Владивосток); Институт химии РАН ДО (Владивосток); Институт химии РАН ДО (Владивосток); Институт химии РАН ДО (Владивосток); Дальневосточный федеральный университет (Владивосток)


621.315.592
Я 890


    Яфаров, Р. К.
    Формирование встроенного потенциала в кристаллах кремния (100) при СВЧ плазменной микрообработке / Р. К. Яфаров // Физика и техника полупроводников. - 2014. - Т. 48, вып. 4. - С. 529-534 : ил. - Библиогр.: с. 534 (9 назв.) . - ISSN 0015-3222
УДК
ББК 31.233
Рубрики: Энергетика
   Полупроводниковые материалы и изделия

Кл.слова (ненормированные):
результаты исследований -- электронные свойства -- поверхность кремния -- монокристаллы кремния -- кремний -- оксидные покрытия -- плазменная микрообработка -- СВЧ плазменная микрообработка -- низкоэнергетичная СВЧ плазменная микрообработка -- электрофизические свойства -- функциональные свойства -- поверхностные потенциалы -- химическая активность -- полупроводниковые кристаллы -- кристаллы -- вольт-амперные характеристики -- ВАХ
Аннотация: Приведены результаты исследований закономерностей влияния на электронные свойства поверхности монокристаллов кремния кристаллографической ориентации (100) с естественным оксидным покрытием низкоэнергетичной СВЧ плазменной микрообработки в различных плазмообразующих средах. Рассмотрены модельные механизмы процессов и факторы, обеспечивающие устойчивую модификацию электронных свойств поверхности кристаллов кремния за счет формирования встроенных поверхностных потенциалов, определяемых химической активностью используемых рабочих газов при плазменной микрообработке в условиях слабой адсорбции. Показана принципиальная возможность активного формирования электронных свойств поверхности полупроводниковых кристаллов с целью расширения их электрофизических и функциональных свойств.

Перейти: http://journals.ioffe.ru/ftp/2014/04/p529-534.pdf

Доп.точки доступа:
Институт радиотехники и электроники им. В. А. Котельникова Российской академии наук. Саратовский филиал