539.2 Г 161 Галкин, Н. Г. Влияние толщины слоя хрома на морфологию и оптические свойства гетероструктур Si (111) / нанокристаллиты CrSi[2]/Si (111 [Текст] / Н. Г. Галкин, Т. В. Турчин, Д. Л. Горошко // Физика твердого тела. - 2008. - Т. 50, вып. 2. - С. 346-354. - Библиогр.: с. 354 (15 назв. ) . - ISSN 0367-3294
Рубрики: Физика Физика твердого тела. Кристаллография в целом Кл.слова (ненормированные): нанокристаллиты -- гетероструктуры -- дисилицид хрома -- метод дифракции медленных электронов -- метод атомной силовой микроскопии -- метод реактивной эпитаксии Аннотация: Методами дифракции медленных электронов, атомной силовой микроскопии и оптической спектроскопии на отражение и пропускание исследован рост и оптические свойства эпитаксиальных гетероструктур Si (111) / нанокристаллиты CrSi[2]/Si (111) на основе низкоразмерных островков дисилицида хрома (CrSi[2]) на Si (111), сформированных методом реактивной эпитаксии с различными толщинами (0. 1, 0. 3, 0. 6, 1. 0 и 1. 5 nm) при температуре 500 градусов с последующим эпитаксиальным ростом кремния при температуре 750 градусов Цельсия. Определены особенности изменения плотности и размеров островков CrSi[2] на поверхности кремния при T=750 градусов Цельсия при увеличении толщины хрома. Установлено, что в гетероструктурах с толщиной хрома от 0. 6 nm и более небольшая часть органенных нанокристаллитов Cr[2]Si[2] выходит на приповерхностную область кремния, что подтверждается данными оптической отражательной спектроскопии и анализом спектральной зависимости коэффициента поглощения. Показано, что существует критический размер нанокристаллитов, вышке которого их движение к поверхности кремния затруднено. Уменьшение плотности вышедших нанокристаллитов при толщинах хрома 1. 0-1. 5 nm связано с формированием более крупных нанокристаллитов в толщине слоя кремния, что и подтверждается данными дифференциальной отражательной спектроскопии. Доп.точки доступа: Турчин, Т. В.; Горошко, Д. Л. |
539.2 Ч-344 Чеботкевич, Л. А. Коэрцитивная сила и наведенная анизотропия многослойных пленок [Текст] / Л. А. Чеботкевич, Ю. П. Иванов, А. В. Огнев // Физика твердого тела. - 2007. - Т. 49, вып. 11. - С. 2039-2044. - Библиогр.: с. 2044 (12 назв. ) . - ISSN 0367-3294
Рубрики: Физика Физика твердого тела Кл.слова (ненормированные): анизотропия -- индукционный метод -- косвенная магнитная связь -- коэрцитивная сила -- метод атомной силовой микроскопии -- метод лоренцевой микроскопии -- метод просвечивающей электронной микроскопии -- метод ферромагнитного резонанса -- многослойные пленки -- наведенная анизотропия Аннотация: Влияние отжига на кристаллическую и магнитную структуру, магнитные свойства пленок Co/Cu/Co c антиферромагнитной и ферромагнитной связью между слоями Co исследовалось методами просвечивающей электронной микроскопии, лоренцевой микроскопии, атомной силовой микроскопии, ферромагнитного резонанса и индукционным методом. Проведены теоретические оценки компонент коэрцитивной силы и наведенной анизотропии многослойных пленок. Показано, что в многослойных пленках при термической обработке поведение коэрцитивной силы и наведенной анизотропии обусловлено изменениями структурных дефектов и косвенной обменной связи. Доп.точки доступа: Иванов, Ю. П.; Огнев, А. В. |
Влияние одноосного растяжения и гидростатического сжатия на геометрию и морфологию поверхности лент аморфного сплава Fe[77]Ni[1]Si[9]B[13] [Текст] / В. И. Бетехтин [и др. ] // Физика твердого тела. - 2008. - Т. 50, вып: вып. 10. - С. 1800-1806. - Библиогр.: с. 1806 (15 назв. ) . - ISSN 0367-3294
Рубрики: Физика Физика твердого тела. Кристаллография в целом Кл.слова (ненормированные): одноосное растяжение -- гидростатическое сжатие -- аморфные сплавы -- ленты аморфных сплавов -- метод сканирующей микроскопии -- метод атомной силовой микроскопии Аннотация: Методами сканирующей туннельной и атомной силовой микроскопии исследовалось изменение рельефа поверхностей лент аморфного сплава Fe[77]Ni[1]Si[9]B[13] под влиянием гидростатического давления и одноосного растяжения. Также изучались поверхности разрыва образцов. Показано, что как исходные поверхности, так и поверхности, подвергнутые гидростатическому сжатию или растяжению, а также поверхности разрыва фрактальны или мультифрактальны, однако параметры их фрактальности различны. Под влиянием гидростатического давления уменьшаются поверхностная шероховатость и усредненная фрактальная размерность на обеих сторонах лент. Зависимости фрактальных характеристик поверхности от растяжения имеют более сложный вид. Перед возникновением "критического события" на поверхности (образование полосы деформации или магистральной трещины) показатель Гельдера и полуширина спектра сингулярностей уменьшаются. Обсуждается связь фрактальных характеристик поверхности ленты с фрактальными характеристиками поверхности разрыва, а также роль избыточного свободного объема в зарождении разрушения аморфных сплавов. Доп.точки доступа: Бетехтин, В. И.; Бутенко, П. Н.; Гиляров, В. Л.; Кадомцев, А. Г.; Корсуков, В. Е.; Корсукова, М. М.; Обидов, Б. А. |
539.2 Д 753 Дрождин, С. Н. Температурное и временное поведение параметров доменной структуры кристаллов триглицинсульфата вблизи фазового перехода [Текст] / С. Н. Дрождин, авт. О. М. Голицына // Физика твердого тела. - 2012. - Т. 54, вып. 5. - С. 853-858. - Библиогр.: с. 858 (14 назв. ) . - ISSN 0367-3294
Рубрики: Физика Физика твердого тела. Кристаллография в целом Кл.слова (ненормированные): доменные структуры -- кристаллы -- триглицинсульфат -- фазовые переходы -- метод атомной силовой микроскопии Аннотация: Представлены результаты исследования временного и температурного поведения параметров доменной структуры чистых и дефектных (aльфа-аланин, хром, фосфор) кристаллов триглицинсульфата, выявленного при наблюдении доменной структуры методом атомной силовой микроскопии пьезоотклика. С помощью компьютерной обработки изображений доменной структуры исследованных кристаллов получены временные релаксационные зависимости общего периметра доменных границ, скорости бокового движения доменных стенок и коэффициента статической униполярности. Получены температурные зависимости указанных параметров вблизи точки Кюри. Проводится сравнение с литературными данными, а также с собственными результатами измерений диэлектрической проницаемости тех же образцов в аналогичном температурно-временном режиме. Доп.точки доступа: Голицына, О. М. |
621.315.592 Э 455 Электроосажденные массивы оксида цинка с эффектом глаза ночной бабочки / Н. П. Клочко [и др.]. // Физика и техника полупроводников. - 2014. - Т. 48, вып. 4. - С. 549-555 : ил. - Библиогр.: с. 555 (7 назв.) . - ISSN 0015-3222
Рубрики: Энергетика Полупроводниковые материалы и изделия Кл.слова (ненормированные): фотоэлектрические преобразователи -- оксид цинка -- антиотражающие покрытия -- метод импульсного электрохимического осаждения -- импульсное электрохимическое осаждение -- водные электролиты -- электролиты -- оптические свойства -- метод спектрофотометрии -- спектрофотометрия -- структурные характеристики -- рентген-дифрактометрические исследования -- метод атомной силовой микроскопии -- атомная силовая микроскопия -- АСМ -- эффект глаза ночной бабочки -- электрохимическое осаждение Аннотация: Материалам современных фотоэлектрических преобразователей свойственно значительное отражение света, для устранения которого прибегают к нанесению антиотражающих покрытий. Впервые показана возможность создания антиотражающих покрытий в виде наноразмерных массивов оксида цинка с параболическим профилем методом импульсного электрохимического осаждения из водных электролитов. Влияние режимов осаждения на оптические свойства массивов оксида исследовали методом спектрофотометрии. Структурные характеристики анализировались по данным рентген-дифрактометрических исследований. Морфологию выращиваемых массивов выявляли методом атомной силовой микроскопии. Оптимизация режимов импульсного электроосаждения позволила скорректировать размеры параболических нановыступов и таким образом обеспечить создание на основе электроосажденных массивов оксида цинка антиотражающего покрытия с эффектом глаза ночной бабочки, пригодного для использования в фотоэлектрических преобразователях. Materials of current photovoltaic devices tend to a significant light reflection. This explains the need for an antireflective coating (AR). For the first time we demonstrate the creating of AR in form of nano-scale zinc oxide array with a parabolic profile by pulse electrodeposition from aqueous electrolytes. The study of zinc oxide deposition mode influence on their optical properties performed using a spectrophotometry. Structural characteristics analysed by X-ray diffractometry. Morphology of the arrays investigated by an atomic force microscopy. Optimization of pulse electrodeposition mode allowed adjusting sizes of parabolic nipples for creating AR moth-eye structure suitable for use in photovoltaic devices. Перейти: http://journals.ioffe.ru/ftp/2014/04/p549-555.pdf Доп.точки доступа: Клочко, Н. П.; Хрипунов, Г. С.; Мягченко, Ю. А.; Мельничук, Е. Е.; Копач, В. Р.; Клепикова, Е. С.; Лобов, В. Н.; Копач, А. В.; Национальный технический университет "Харьковский политехнический институт"; Национальный технический университет "Харьковский политехнический институт"; Киевский национальный университет им. Т. Г. Шевченко; Киевский национальный университет им. Т. Г. Шевченко; Национальный технический университет "Харьковский политехнический институт"; Национальный технический университет "Харьковский политехнический институт"; Национальный технический университет "Харьковский политехнический институт"; Национальный технический университет "Харьковский политехнический институт" |