Шаныгин, В. Я. Получение атомарно-чистых поверхностей кремния в низкоэнергетичной СВЧ-плазме низкого давления [Текст] / В. Я. Шаныгин, Р. К. Яфаров> // Журнал технической физики. - 2009. - Т. 79, N 12. - С. 73-78. - Библиогр.: c. 78 (6 назв. ) . - ISSN 0044-4642
Рубрики: Физика Физика твердого тела. Кристаллография в целом Кл.слова (ненормированные): атомарно-чистые поверхности -- кремний -- СВЧ-плазма -- наноморфология -- скорость травления -- травление кремния -- плазма -- ионно-плазменная обработка -- электронная бомбардировка Аннотация: Исследованы закономерности влияния режимов и химического состава низкоэнергетичной высокоионизованной плазмы электронно-циклотронного резонанса СВЧ газового разряда низкого давления на скорость травления и наноморфологию поверхности монокристаллического кремния различных кристаллографических ориентаций. Рассмотрены модельные механизмы процессов, обеспечивающих управление скоростью и качеством атомарно-чистых поверхностей травления кремниевых кристаллов заданных ориентаций. Доп.точки доступа: Яфаров, Р. К. |