621.375 Г 47 Гилев, О. Н. Экспериментальное исследование генерации лазерного рентгеновского излучения аргоновой плазмы капиллярного разряда [Текст] / О. Н. Гилев, В. И. Афонин [и др.] // Физика плазмы. - 2006. - Т. 32, N 2. - С. 160-165. - Библиогр.: с. 165 (5 назв. ). - ил.: 9 рис. . - ISSN 0367-2921
Рубрики: Физика--Ядерная физика Радиоэлектроника--Квантовая электроника Кл.слова (ненормированные): плазма -- диагностика плазмы -- рентгеновские излучения -- аргоновая плазма -- лазерные излучения -- исследование генерации Аннотация: Эксперименты проводились на электрической установке СИГНАЛ с керамическим капилляром диаметром 3, 1 мм и длиной 157 мм, заполненном аргоном до давления 0, 2-1, 0 Тор. Амплитуда разрядного тока составила 25-40 кА при скорости нарастания 10[12] A/c. Доп.точки доступа: Афонин, В. И.; Осташев, В. И.; Политов, В. Ю.; Гафаров, А. М.; Запысов, А. Л.; Андрияш, А. В.; Магда, Э. П.; Шамраев, Л. Н.; Сафронов, А. А.; Комиссаров, А. В.; Хавронин, Н. А.; Пхайко, Н. А.; Антонова, Л. В.; Шушлебин, Л. Н. |
621.315.592 К 265 Карпов, А. Н. Формирование SiO[x]-слоев при плазменном распылении Si- и SiO[2]-мишеней [Текст] / А. Н. Карпов, Д. В. Марин [и др.] // Физика и техника полупроводников. - 2008. - Т. 42, вып. 6. - С. 747-752 . - ISSN 0015-3222
Рубрики: Энергетика Полупроводниковые материалы и изделия Кл.слова (ненормированные): аргоновая плазма -- кремниевые пластины -- плазменное распыление Аннотация: При совместном распылении в аргоновой плазме разнесенных в пространстве Si- и SiO[2]-мишеней осуществлялось осаждение слоев SiO[x] переменного состава на кремниевые пластины. Координатные зависимости толщины и показателя преломления отдельно осажденных Si- и SiO[2]-слоев, а также слоя SiO[x], полученного при совместном распылении мишеней, определялись с помощью оптических методик. Показано, что состав SiO[x]-слоя не соответствует простой сумме толщин отдельно осажденных Si- и SiO[2]-слоев. Выполнены расчеты координатных зависимостей толщины Si- и SiO[2]-слоев. Для совмещения расчетных и экспериментальных данных необходимо предположить, что при совместном распылении не менее 10% кремния превращается в диоксид. Сопоставление координатных зависимостей ИК-поглощения в SiO[2]- и SiO[x]-слоях с экспериментальными данными по эллипсометрии подтвердило наличие избыточного кислорода в SiO[x]-слое. С учетом такого частичного окисления распыляемого кремния рассчитаны кривые равного состава в плоскости подложки. После отжига SiO[x]-слоя при 1200 градусов C, в заранее рассчитанной области пластины наблюдалась фотолюминесценция, связанная с появлением квантово-размерных нанокристаллитов Si. Она была наиболее интенсивна при x=1. 78 плюс минус 0. 3, что близко к оптимальному составу при ионно-лучевом синтезе нанокристаллов. Доп.точки доступа: Марин, Д. В.; Володин, В. А.; Jedrzejewski, J.; Качурин, Г. А.; Savir, E.; Шварц, Н. Л.; Яновицкая, З. Ш.; Goldstein, Y.; Balberg, I. |
533.9 И 207 Иванов, Л. И. Состав и морфология поверхности сапфира после импульсной обработки высокотемпературной плазмой [Текст] / Л. И. Иванов, И. В. Боровицкая [и др.] // Физика и химия обработки материалов. - 2008. - N 1. - С. 32-37 . - ISSN 0015-3214
Рубрики: Физика Электронные и ионные явления. Физика плазмы Физика твердого тела. Кристаллография в целом Кл.слова (ненормированные): высокотемпературная плазма -- импульсная обработка -- дейтериевая плазма -- аргоновая плазма -- импульсная плазменная обработка -- металлические пленки -- тонкие металлические пленки -- морфология поверхности сапфира -- высокоадгезионные покрытия Аннотация: Исследовано изменение состава морфологии поверхности сапфира при импульсном воздействии высокотемпературной аргоновой или дейтериевой плазмы. Доп.точки доступа: Боровицкая, И. В.; Дедюрин, А. И.; Масляев, С. А.; Крохин, О. Н.; Никулин, В. Я.; Тихомиров, А. А.; Яминский, И. В.; Синицына, О. В. |
Вершинин, Д. С. Константа ионизации электронным ударом в скрещенных ЕхВ- полях в слабоионизованной аргоновой плазме [Текст] / Д. С. Вершинин, А. В. Козырев, А. Г. Ситников // Известия вузов. Физика. - 2008. - Т. 51, N 8. - С. 3-7. - Библиогр.: c. 7 (8 назв. ) . - ISSN 0021-3411
Рубрики: Физика Электричество и магнетизм в целом Кл.слова (ненормированные): аргоновая плазма -- ионизация аргона -- константа ионизации -- скрещенные ЕxВ-поля -- ФРЭ -- функции распределения электронов по энергиям Аннотация: В работе представлены теоретическая модель и результаты расчета функции распределения электронов по энергиям (ФРЭ), средней энергии электронов и константы ионизации атомов электронным ударом для аргоновой плазмы. В модели рассматриваются как упругие, так и неупругие столкновения, определяющие энергетический спектр электронов в скрещенных ExB-полях. Показано, что в отсутствие магнитного поля функция распределения электронов по энергиям сильно отличается от максвелловской, а в сильном магнитном поле она асимптотически приближается к максвелловскому распределению. Доп.точки доступа: Козырев, А. В.; Ситников, А. Г. |
Жовтянский, В. А. Основные закономерности распада плотной газоразрядной плазмы инертных газов в режиме расширения [Текст]. 1. Динамика ионизационного состояния плазмы и критерий рекомбинационной неравновесности. Экспериментальные исследования распада аргоновой плазмы / В. А. Жовтянский // Журнал технической физики. - 2009. - Т. 79, N 5. - С. 33-41. - Библиогр.: c. 41 (24 назв. ) . - ISSN 0044-4642
Рубрики: Физика Электронные и ионные явления. Физика плазмы Кл.слова (ненормированные): газоразрядная плазма -- плазма -- рекомбинационная неравновесность -- аргоновая плазма -- электродуговая плазма Аннотация: Теоретически и экспериментально исследовано влияние расширения импульсной электродуговой плазмы на ее распад с учетом отклонения от равновесного состояния. Определены динамика ионизационного состояния в распаде плотной расширяющейся плазмы и критерий ее рекомбинационной неравновесности. Результаты расчетов сопоставлены с экспериментом на примере импульсного электрического разряда в аргоне. |
Коагуляция пылевых частиц в аргоновой плазме ВЧ-разряда [Текст] / Ю. А. Манкелевич [и др. ] // Физика плазмы. - 2009. - Т. 35, N 3. - С. 219-228 : 8 рис., 6 табл. - Библиогр.: с. 228 (20 назв. ) . - ISSN 0367-2921
Рубрики: Физика Электронные и ионные явления. Физика плазмы Кл.слова (ненормированные): плазма -- пылевые частицы -- аргоновая плазма -- ВЧ-разряды -- коагуляция микрочастиц -- низкотемпературная плазма -- высокочастотные разряды Аннотация: Проведены эксперименты по исследованию коагуляции микрочастиц различных размеров, инжектированных в низкотемпературную аргоновую плазму высокочастотного разряда. Разработанная теоретическая модель образования пылевых кластеров в низкотемпературной плазме применяется в данной работе для объяснения результатов наших экспериментов по коагуляции микрочастиц с большими отрицательными разрядами. Доп.точки доступа: Манкелевич, Ю. А.; Олеванов, М. А.; Паль, А. Ф.; Рахимова, Т. В.; Рябинкин, А. Н.; Серов, А. О.; Филиппов, А. В. |
536.42 Ф 796 Формирование нанопроволок селенида свинца по механизму "пар-жидкость-кристалл" под накладной маской при плазменной обработке [Текст] / С. П. Зимин [и др.] // Письма в "Журнал технической физики". - 2011. - Т. 37, вып. 19. - С. 80-87 : ил. - Библиогр.: с. 86-87 (18 назв. ) . - ISSN 0320-0116
Рубрики: Физика Термодинамика твердых тел Кл.слова (ненормированные): нанопроволоки -- формирование нанопроволок -- свинец -- селенид свинца -- пар-жидкость-кристалл -- накладные маски (физика) -- плазменная обработка -- эпитаксиальные пленки -- плазма -- аргоновая плазма -- разряды -- индукционные разряды -- высокочастотные разряды -- высокочастотные индукционные разряды -- низкие давления -- электронная микроскопия -- сканирующая микроскопия -- сканирующая электронная микроскопия -- рентгеновский анализ -- энерго-дисперсионный анализ -- энерго-дисперсионный рентгеновский анализ -- физические модели -- механизм каталитического роста Аннотация: Представлены результаты по формированию нанопроволок PbSe под накладной маской в ходе обработки эпитаксиальных пленок селенида свинца в плотной аргоновой плазме высокочастотного индукционного разряда низкого давления. Анализируются результаты сканирующей электронной микроскопии и энерго-дисперсионного рентгеновского анализа. Предложена физическая модель, объясняющая явление локального формирования нанопроволок селенида свинца по механизму каталитического роста "пар-жидкость-кристалл". Перейти: http://journals.ioffe.ru/pjtf/2011/19/p80-87.pdf Доп.точки доступа: Зимин, С. П.; Горлачев, Е. С.; Амиров, И. И.; Наумов, В. В. |