537.226.8 Б 287 Батурин, А. С. Исследование механизма деградации сверхтонких слоев HfO[2] на кремнии при вакуумном отжиге методами атомно-силовой микроскопии [Текст] / А. С. Батурин, А. В. Зенкевич [и др.] // Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования. - 2007. - N 2. - С. 33-39 . - ISSN 0207-3528
Рубрики: Физика--Электричество и магнетизм Кл.слова (ненормированные): диэлектрические пленки -- оксид гафния -- сверхтонокие слои -- отжиг -- вакуумный отжиг -- транзисторы -- микроэлектронные технологии -- атомно-силовая микроскопия Аннотация: В работе предложен комплексный подход в исследовании начальной стадии разрушения диэлектрических пленок оксида гафния при термическом отжиге до Т = 900шС в вакууме. Дополнительно к измерению рельефа поверхности использовались метод сопротивления растекания, метод зонда Кельвина и метод модуляции силы. Была установлена сильная пространственная неоднородность процессов деградации сверхтонких слоев оксида гафния в контакте с кремнием при вакуумном отжиге и показана возможность локализации областей в различных стадиях этого процесса. Доп.точки доступа: Зенкевич, А. В.; Лебединский, Ю. Ю.; Любовин, Н. Ю.; Неволин, В. Н.; Шешин, Е. П. |