66 П 60 Порхун, В. И. Исследование элементарных фотохимических процессов 2, 6-дифенил-1, 4-бензохинона с циклическими эфирами [Текст] / В. И. Порхун, авт. А. И. Рахимов // Известия вузов. Химия и химическая технология. - 2005. - Т. 48, N 6. - С. 134-136. - Библиогр.: с. 136 (5 назв. ). - Ил.: 3 рис. . - ISSN 0579-2991
Рубрики: Химическая технология--Общие вопросы химической технологии Кл.слова (ненормированные): фотохимические процессы; фотовосстановление; флеш-фотолиз; триплетные эксимеры; циклические эфиры; хиноны; эксиплексы хинонов; кислородосодержащие соединения Аннотация: Методом флеш-фотолиза были зарегистрированы триплетные эксимеры и эксиплексы хинонов с кислородосодержащими соединениями. Доп.точки доступа: Рахимов, А. И. |
541 Р 81 Ртищев, Н. И. Образование эксиплексов в пленках полиимидов, полиамидов и полихиназолонов на основе ароматических и гетероароматических диаминов [Текст] / Н. И. Ртищев, Г. И. Носова [и др.] // Журнал общей химии. - 2005. - Т. 75, N 10. - С. 1661-1670. - Библиогр.: с. 1669-1670 . - ISSN 0044-460X
Рубрики: Химия--Общая химия. Теоретическая химия Кл.слова (ненормированные): фотохимия; эксиплексы; пленки; полиимиды; полиамиды; полихиназолоны; ароматические диамины; гетероароматические диамины; диамины Аннотация: Эмиссионные полосы полиимидов на основе диангидридов 1, 3-бис (3, 4-дикарбоксифенокси) -бензола и 3, 3', 4, 4'-дифенилгексафторизопропилидентетракарбоновых кислот и диаминов ароматического и гетероароматического рядов, а также полиамидов и полихиназолонов на основе тех же диаминов в пленках имеют эксиплексную природу. Доп.точки доступа: Носова, Г. И.; Соловская, Н. А.; Ромашкова, К. А.; Кудрявцев, В. В. |
Калниньш, К. К. Перенос водорода в реакции п-фенилендиамина с хлоранилом [Текст] / К. К. Калниньш, Г. М. Махов // Журнал прикладной химии. - 2009. - Т. 82, вып: вып. 4. - С. 563-569. - Библиогр.: c. 568-569 (16 назв. ) . - ISSN 0044-4618
Рубрики: Химия Органические соединения Кл.слова (ненормированные): ароматические амины -- бензидин -- гидрохинон -- метанол -- полиаминохиноны -- фенилендиамин -- фотохимические реакции -- хинон -- хлоранил -- эксиплексы Аннотация: Выполнены квантово-химические расчеты возбужденных реакционных комплексов и спектров поглощения полиаминохинонов. Доп.точки доступа: Махов, Г. М. |
Полимеризация акриловых производных пентаэритрита, инициируемая видимым светом [Текст] / Г. В. Любимова [и др. ] // Химическая физика. - 2010. - Т. 29, N 4. - С. 84-89 : ил. - Библиогр.: с. 89 (18 назв. ) . - ISSN 0207-401X
Рубрики: Химическая технология Другие химические производства Кл.слова (ненормированные): полимеризация пентаэритрита -- акриловые производные пентаэритрита -- производные пентаэритрита -- пентаэритрит -- видимый свет -- фотополимеризация триакрилата -- триакрилат -- хлорацетил-производные -- камфорхинон -- конверсия маномеров -- маномеры -- донорно-акцепторные системы -- трет-амин-камфорхинон -- квантовый выход -- фотодиссоциация -- трет-амины -- амины -- четвертичные соли -- эксиплексы Аннотация: В реальном масштабе времени изучена фотополимеризация триакрилата пентаэритрита и его хлорацетил-производного под действием видимого света в присутствии инициатора камфорхинона. Показано, что фотополимеризация протекает с низкой скоростью с конверсией мономера до 40%. Введение хлорацетатной группы лишь незначительно ускоряет полимеризацию, при этом конверсия мономера не изменяется. Применение донорно-акцепторных инициирующих систем (трет-амин-камфорхинон) позволяет примерно на порядок увеличить скорость полимеризации. Основной причиной этого эффекта является повышение квантового выхода фотодиссоциации инициатора в присутствии трет-аминов. Скорость полимеризации мономеров не коррелирует с потенциалом ионизации амина и, следовательно, со скоростью генерирования радикалов. Система камфорхинон-амин образует с триакрилатхлорацетатом пентаэритрита четвертичную соль, препятствующую образованию эксиплекса. Доп.точки доступа: Любимова, Г. В.; Шашкова, В. Т.; Любимов, А. В.; Западинский, Б. И. |
621.375 С 664 Соснин, Э. А. Исследование оптических характеристик цилиндрических эксиплексных и эксимерных ламп с сверхвысокочастотным возбуждением [Текст] / Э. А. Соснин, А. А. Пикулев, В. Ф. Тарасенко // Журнал технической физики. - 2011. - Т. 81, N 4. - С. 97-101. - Библиогр.: c. 101 (15 назв. ) . - ISSN 0044-4642
Рубрики: Радиоэлектроника Квантовая электроника Кл.слова (ненормированные): эксиплексные лампы -- эксимерные лампы -- эксилампы -- сверхвысокочастотное излучение -- сверхвысокочастотные разряды -- эксиплексы -- эффективное образование эксиплексов -- цилиндрические эксилампы Аннотация: Исследованы оптические характеристики Br[2-], Cl[2-], XeBr- и XeCl-эксиламп, возбуждаемых сверхвысокочастотным излучением. Для определения мощности сверхвысокочастотного разряда использованы данные по скачку давления в колбах ламп. Найдены условия эффективного образования эксиплексов XeCl* и XeBr* в цилиндрических эксилампах, в которых достигнуты значения эффективности 7. 2 и 7. 8%. Перейти: http://journals.ioffe.ru/jtf/2011/04/p97-101.pdf Доп.точки доступа: Пикулев, А. А.; Тарасенко, В. Ф. |
53.07 Ц 274 Цветков, В. М. Проточный УФ-фотореактор барьерного разряда для облучения жидкостей и газов [Текст] / В. М. Цветков, авт. А. А. Пикулев // Письма в "Журнал технической физики". - 2012. - Т. 38, вып. 7. - С. 14-20 : ил. - Библиогр.: с. 20 (9 назв.) . - ISSN 0320-0116
Рубрики: Физика Физические приборы и методы физического эксперимента Кл.слова (ненормированные): фотореакторы барьерного разряда -- УФ-фотореакторы -- ультрафиолетовые фотореакторы -- проточные фотореакторы -- барьерные разряды -- жидкости -- газы -- УФ-облучение -- ультрафиолетовое облучение -- эксилампы -- электроды -- отражающие материалы -- УФ-излучения -- ультрафиолетовые излучения -- фотохимические реакции -- уксусная кислота -- эксиплексы -- длины волн -- интенсивность излучения -- эксперименты Аннотация: Разработан проточный фотореактор барьерного разряда, предназначенный для УФ-облучения жидкостей и газов. В фотореакторе область разряда и обрабатываемая среда функционально совмещены в едином объеме колбы эксилампы, а электроды выполнены из отражающего УФ-излучение материала. Для определения интенсивности УФ-излучения в фотореакторе использована фотохимическая реакция разложения уксусной кислоты CH[3]COOH+hnu -> CH[4]+CO[2], происходящая под действием излучения эксиплекса KrCl (длина волны 222 nm). Доза УФ-облучения определялась путем измерения объема выделившегося газа. Эксперименты показали, что интенсивность УФ-излучения в фотореакторе на порядок выше, чем интенсивность излучения на поверхности эксилампы барьерного разряда аналогичной геометрии. Перейти: http://journals.ioffe.ru/pjtf/2012/07/p14-20.pdf Доп.точки доступа: Пикулев, А. А. |