Ларионов, Ю. В. Влияние загрязнений образцов в РЭМ на измерения линейных размеров [Текст] / Ю. В. Ларионов, В. Б. Митюхляев, М. Н. Филиппов // Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования. - 2008. - N 9. - С. 53-64
Рубрики: Радиоэлектроника Электроника в целом Кл.слова (ненормированные): растровый электронный микроскоп -- субмикрометровый диапазон -- углеводородная пленка -- загрязнение образцов -- контаминация Аннотация: На основе литературных данных показана актуальность учета загрязнений мер длины с нанометровыми размерами при многократном сканировании их в растровом электронном микроскопе (РЭМ). Представлены примеры изменения линейных размеров рельефных элементов с загрязненной поверхностью. Обсуждаются источники погрешности. Кроме искажения профиля исходного элемента загрязняющей пленкой дополнительным источником погрешности могут быть искажения РЭМ-изображения, связанные с загрязнением рельефных элементов. Для лучшего понимания механизма возникновения погрешностей измерения элементов описаны основные закономерности роста загрязняющей пленки и явлений, которые могут привести к искажению РЭМ-изображения элементов. Представлены перспективные средства очистки поверхности образцов. Сделан вывод о необходимости системного подхода для учета и исключения погрешности измерений, связанных с образованием загрязнений на объектах в нанометровом диапазоне размеров. Доп.точки доступа: Митюхляев, В. Б.; Филиппов, М. Н. |