Димов, Г. И. Распределение потенциала плазмы в тандемном поверхностно-плазменном источнике отрицательных ионов [Текст] / Г. И. Димов, И. С. Емелев // Письма в "Журнал технической физики". - 2010. - Т. 36, вып: вып. 6. - С. 15-21 : ил. - Библиогр.: с. 21 (5 назв. ) . - ISSN 0320-0116
Рубрики: Физика Электронные и ионные явления. Физика плазмы Кл.слова (ненормированные): экспериментальные исследования -- плазма -- водородная плазма -- потенциал плазмы -- распределение потенциала -- плотность плазмы -- электронная температура -- кольцевые ловушки -- магнитные ловушки -- мультипольные ловушки -- кольцевые мультипольные магнитные ловушки -- плазменные источники -- поверхностно-плазменные источники -- тандемные поверхностно-плазменные источники -- ионы -- отрицательные ионы -- положительные ионы -- конверторы Аннотация: Проведены экспериментальное исследование распределения потенциала водородной плазмы и измерения ее плотности и электронной температуры в тандеме кольцевой мультипольной магнитной ловушки с конвертором положительных ионов в отрицательные. Подтверждено, что потенциал плазмы в кольцевой ловушке ниже потенциала стенок камеры. Установлено, что в рабочем диапазоне потенциал плазмы в конверторе практически не зависит от его потенциала. Доп.точки доступа: Емелев, И. С. |