Электронные ресурсы

Базы данных


Статьи из журналов: 2001-2014 - результаты поиска

Вид поиска

Область поиска
Формат представления найденных документов:
полный информационныйкраткий
Поисковый запрос: (<.>K=капиллярные напряжения<.>)
Общее количество найденных документов : 1
1.

Вид документа : Статья из журнала
Шифр издания :
Автор(ы) : Сарычев В. Д., Ващук Е. С., Будовских Е. А., Громов В. Е.
Заглавие : Образование наноразмерных структур в металлах при воздействии импульсных плазменных струй электрического взрыва
Место публикации : Письма в "Журнал технической физики". - 2010. - Т. 36, вып: вып. 14. - С.41-48: ил. - ISSN 0320-0116. - ISSN 0320-0116
Примечания : Библиогр.: с. 48 (13 назв. )
УДК : 533.9
ББК : 22.333
Предметные рубрики: Физика
Электронные и ионные явления. Физика плазмы
Ключевые слова (''Своб.индексиров.''): наноразмерные структуры--образование наноразмерных структур--металлы--плазменные струи--импульсные струи--импульсные плазменные струи--электрические взрывы--механизмы формирования--наноструктурные слои--тонкие слои--приповерхностные слои--приповерхностные наноструктурные слои--тонкие приповерхностные наноструктурные слои--зона легирования--поверхность металлов--обработка металлов--оплавление поверхности--проводники (физика)--неустойчивость кельвина - гельмгольца--кельвина - гельмгольца неустойчивость--плазма-расплав--дисперсионные уравнения--расплавы--капиллярные напряжения--вязкие напряжения--инкременты--анализ зависимости--длины волн--плазма--относительная скорость--условия обработки
Аннотация: Предложен новый механизм формирования тонкого приповерхностного наноструктурного слоя зоны легирования при обработке с оплавлением поверхности металлов импульсной плазменной струей, сформированной из продуктов электрического взрыва проводников. Механизм основан на возникновении неустойчивости Кельвина-Гельмгольца поверхности раздела плазма-расплав. Получено дисперсионное уравнение для задачи Кельвина-Гельмгольца с учетом вязких и капиллярных напряжений в расплаве. Проведен анализ зависимости инкремента от длины волны возмущений поверхности с максимумом в нанометровом диапазоне при относительной скорости плазмы и расплава в диапазоне 100-1000 m/s, достигаемой в условиях обработки.
Найти похожие

 
© Международная Ассоциация пользователей и разработчиков электронных библиотек и новых информационных технологий
(Ассоциация ЭБНИТ)