536.42
Ф 796


   
    Формирование и методика исследования ультратонких слоев силицида кобальта в структурах Ti/Co/Ti, TiN/Ti/Co и TiN/Co на кремнии [Текст] / В. И. Рудаков [и др.] // Журнал технической физики. - 2012. - Т. 82, № 2. - С. 122-128. - Библиогр.: c. 128 (16 назв. ) . - ISSN 0044-4642
УДК
ББК 22.375
Рубрики: Физика
   Термодинамика твердых тел

Кл.слова (ненормированные):
силицид кобальта -- ультратонкие слои -- магнетронное распыление -- термический отжиг -- кремний -- аморфный кремний -- Si -- alpha-Si -- жертвенные слои -- масс-спектрометрия -- ионная масс-спектрометрия -- времяпролетная масс-спектрометрия -- оже-электронная спектроскопия -- сканирующая электронная микроскопия -- рентгеновский дисперсионный микроанализ
Аннотация: Исследованы процессы формирования ультратонких слоев CoSi2 в структурах Ti (8 nm) /Co (10 nm) /Ti (5 nm), TiN (18 nm) /Ti (2 nm) /Co (8 nm) и TiN (18 nm) /Co (8 nm), полученных магнетронным распылением на поверхности Si (100). Структуры подвергались двухстадийному быстрому термическому отжигу. В промежутке между стадиями отжига с поверхности химически удалялся "жертвенный" слой, а на две последние структуры дополнительно наносился аморфный кремний alpha-Si толщиной 17 nm. На различных этапах технологического маршрута проводилось комплексное исследование структур с помощью времяпролетной "катионной" вторичной ионной масс-спектрометрии, оже-электронной спектроскопии и сканирующей электронной микроскопии, совмещенной с рентгеновским дисперсионным микроанализом. Показано, что представленный комплекс аналитических измерений позволяет эффективно решать проблемы, связанные с физическим контролем процесса образования ультратонких слоев силицидов.

Перейти: http://journals.ioffe.ru/jtf/2012/02/p122-128.pdf

Доп.точки доступа:
Рудаков, В. И.; Денисенко, Ю. И.; Наумов, В. В.; Симакин, С. Г.