22.333 Т 484 Ткачев, А. Н. Моделирование формирования плазмы в прикатодном слое разряда эффективных эксиламп [Текст] / А. Н. Ткачев, С. И. Яковленко // Журнал технической физики. - 2003. - Т.73,N2. - Библиогр.: с.64 (18 назв.) . - ISSN 0044-4642 Рубрики: Физика--Физика плазмы Кл.слова (ненормированные): ионизация -- моделирование -- плазма -- эксилампы Аннотация: На основе моделированияи имеющихся экспериментальных данных предложены аналитические аппроксимации величин, характеризующих процесс размножения электронов в прикатодной области. Получено критическое значение поля, при превышении которого наблюдается убегание электронов. На основе предложенных аппроксимаций рассмотрена задача о зависимости параметров плазмы (электронных и ионных плотностей и токов, напряженности электрического поля) от расстояния до поверхности катода. Предложены простые формулы, определяющие полный ток, ширину прикатодной области и падение потенциала как функцию напряженности поля на поверхности катода Доп.точки доступа: Яковленко, С.И. |